【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括超导材料的凸块下金属化结构
技术介绍
本专利技术一般涉及将电子信号耦合进和耦合出集成电路(IC)。更具体地说,本专利技术涉及提供在凸块和金属化结构之间的超导电耦合和安全机械粘合的系统、制造方法和所得到的凸块金属化结构。半导体器件用于各种电子和电光应用中。IC通常由形成于半导体晶片上的半导体器件的各种电路配置形成。或者,半导体器件可以形成为单片器件,例如分立器件。通过在半导体晶片上沉积多种类型的材料薄膜、图案化薄膜、掺杂半导体晶片的选择区域等,在半导体晶片上形成半导体器件。在传统的半导体制造工艺中,在单个晶片中制造大量的半导体器件。CMOS(互补金属氧化物半导体)是用于形成晶体管的半导体制造技术,所述晶体管被制造到当今的大多数计算机微芯片中。在CMOS技术中,n型和p型晶体管以互补的方式被使用以形成电流门,该电流门形成电控制的有效手段。在CMOS技术制造序列中稍后执行的处理操作被称为后段制程(BEOL)CMOS处理,而在CMOS技术制造序列中较早执行的处理步骤被称为前段制程(FEOL)CMOS处理。在完成器件级和互连级制造过程之后,将晶片上的半导体器件分离成微型芯片(即,芯片),并封装最终产品。IC(或芯片)封装通常涉及将硅芯片包封在气密密封的塑料、金属或陶瓷封装内,这防止芯片由于暴露于灰尘、湿气或与其它物体接触而被损坏。IC封装还允许更容易地连接到PCB。PCB的目的是将IC和分立部件连接在一起以形成更大的运算电路。可以安装到PCB的其它部件包括卡插座、微波连接器等。引线接合是一种公知的BEOL操作,用于在PC ...
【技术保护点】
1.一种结构,包括:/n凸块下金属化(UBM)结构,所述UBM结构包括第一区域和第二区域,所述第一区域和所述第二区域被横向地定位在所述UBM结构中,其中,所述第一区包括超导材料;/n与所述UBM结构相对的衬底;以及/n超导焊料材料,所述超导焊料材料将所述第一区域结合到所述衬底并且将所述第二区域结合到所述衬底。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 US 15/721,2381.一种结构,包括:
凸块下金属化(UBM)结构,所述UBM结构包括第一区域和第二区域,所述第一区域和所述第二区域被横向地定位在所述UBM结构中,其中,所述第一区包括超导材料;
与所述UBM结构相对的衬底;以及
超导焊料材料,所述超导焊料材料将所述第一区域结合到所述衬底并且将所述第二区域结合到所述衬底。
2.根据权利要求1所述的结构,其中,所述UBM结构被布置成使得所述第一区域与所述第二区域横向相邻,使得所述超导焊料材料能够接触所述第一区域和所述第二区域两者。
3.根据权利要求1所述的结构,其中,所述UBM结构被布置成具有包含所述第一区的一个或多个第一位置,并且具有包含所述第二区的一个或多个第二位置。
4.根据权利要求3所述的结构,其中,所述一个或多个第一位置不同于所述一个或多个第二位置。
5.根据权利要求1所述的结构,其中,所述第二区域包括非超导材料。
6.根据权利要求1所述的结构,其中,所述衬底包括被连接到所述超导焊料材料的超导电路,使得所述第一区域被电连接到所述超导电路。
7.根据权利要求1所述的结构,其中,超导结在所述超导焊料材料和所述第一区域之间被形成。
8.一种结构,包括:
第一凸块下金属化(UBM)结构,所述第一UBM结构包括第一区域和第二区域,所述第一区域和所述第二区域被横向地定位在所述第一UBM结构中,所述第一UBM结构被连接到第一衬底;
第二UBM结构,所述第二UBM结构包括另一第一区域和另一第二区域,所述另一第一区域和所述另一第二区域被横向地定位在所述第二UBM结构中,所述第二UBM结构连接至第二衬底;以及
超导焊料材料,所述超导焊料材料将所述第一UBM结构的所述第一区域和所述第二区域结合至所述第二UBM结构的所述另一第一区域和所述另一第二区域,其中,所述第一区域和所述另一第一区域包括超导材料。
9.根据权利要求8所述的结构,其中,所述第一UBM结构被布置成使得所述第一区域与所述第二区域横向相邻,使得所述超导焊料材料能够接触所述第一区域和所述第二区域两者;以及
其中,所述第二UBM结构被布置成使得所述另一第一区域与所述另一第二区域横向相邻,使得所述超导焊料材料能够接触所述另一第一区域和所述另一第二区域两者。
10.根据权利要求8所述的结构,其中,所述第一UBM结构被布置成具有包含所述第一区域的一个或多个第一位置,并且具有包含所述第二区域的一个或多个第二位置;以及
其中所述第二UBM结构被布置成具有包含所述另一第一区域的一个或多个第二位置并具有包含所述另一第二区域的一个或多个第二位置。
11.根据权利要求8所述的结构,其中,所述第二区域和所述另一第二区域包括非超导材料。
12.根据权利要求8所述的结构,其中,所述第一衬底包括被电连接到...
【专利技术属性】
技术研发人员:D·艾布拉哈姆,J·M·科特,E·莱万多夫斯基,
申请(专利权)人:国际商业机器公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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