小型静态退火炉制造技术

本申请揭示了一种小型静态退火炉，属于电池片加工领域，包括炉体框架、炉体冷却装置、托盘、测温装置、电源装置、光照装置、加热装置；托盘在炉体框架的内部和外部之间移动，用于承载硅片，将硅片送入退火炉内部；测温装置设置在炉体框架内部，实时监测炉体内的温度；炉体冷却装置设置在炉体框架内部，用于对炉体进行降温；电源装置为光照装置提供恒定电流的电源；光照装置设置在位于炉体内的托盘的上方，用于以预定波长的光照射托盘上的硅片；加热装置设置在炉体内，用于对托盘上的硅片加热。本申请将加热与光照退火集成为一体，省去了自动化生产中的运输装置，易于操作，并且能够节约成本。

Small static annealing furnace

【技术实现步骤摘要】
小型静态退火炉
本技术属于电池片加工领域，涉及一种小型静态退火炉。
技术介绍
在电池片加工时，需要先对电池片进行光照退火处理，减少由于电池片发生光致衰减带来的转化效率下降的问题。传统的退火炉设备通过运输装置与其他自动化生产线连接，可以进行大批量地自动化生产。但是生产前，还需要先测定工艺参数，根据工艺参数来调整生产设定，再开始对电池片进行自动化生产。每次对不同片源、规格的电池片进行光注入退火处理之前，都需要启动一整条退火炉生产线进行测试，要消耗大量电力才能得出适于生产工艺参数，操作复杂，使用成本高。
技术实现思路
为了解决相关技术中退火炉设备每次对不同片源、规格的硅片进行光注入退火处理之前，都需要启动一整条退火炉生产线进行测试，要消耗大量电力才能得出适于生产工艺参数，操作复杂，使用成本高的问题，本技术提供了一种小型静态退火炉。技术方案如下：提供了一种小型静态退火炉，包括炉体框架、炉体冷却装置、托盘、测温装置、电源装置、光照装置、加热装置；托盘在炉体框架的内部和外部之间移动，用于承载硅片，将硅片送入退火炉内部；测温装置设置在炉体框架内部，实时监测炉体内的温度；炉体冷却装置设置在炉体框架内部，用于对炉体进行降温；电源装置为光照装置提供恒定电流的电源；光照装置设置在位于炉体内的托盘的上方，用于以预定波长的光照射托盘上的硅片；加热装置设置在炉体内，用于对托盘上的硅片加热。通过小型静态退火炉中的加热装置对硅片，即电池片进行加热，通过光照装置对电池片进行光照退火处理，加热与光照退火集成为一体，省去了自动化生产中的运输装置，与传统的自动化生产中大型退火炉设备测试启动时耗费的电力相比，小型静态退火炉易于操作，并且能够节约成本。另外，通过炉体冷却装置对炉体进行冷却，可以保护光照装置因过热发生故障，提高了设备的可靠性。可选的，炉体冷却装置包括风冷模块和水冷模块；风冷模块包括风机和通风管道，通风管道横跨在光照装置的上方，通风管道的两个风口分别设置在光照装置的两侧，风机用于带动气体在通风管道内和托盘下方的空间循环流动；水冷模块设置在通风管道上，通风管道中的热风经过水冷模块时将热量传递给水冷模块中的冷却液，水冷模块用于将冷却液输出到外部进行冷却后回流。通过风机带动气体在通风管道内和托盘下方的空间循环流动，使得炉体内的高温气体流动到通风管道内，由于通风管道上设置了水冷模块，高温气体流动到水冷模块时将热量传递给水冷模块的冷却液，冷却液输出到外部冷却后回流，使得炉内气体降温，从而降低炉内温度，适应工艺需求。可选的，水冷模块包括水冷排和水泵，水泵带动水冷排中的冷却液流动。通过水泵将升温的冷却液输出到外部冷却，将冷却后的冷却液回流到水冷模块中，使得高温气体传递的热量能够被传递出去达到散热效果。可选的，风机为长轴风机。可选的，托盘以抽屉式安装在炉体框架上。通过将托盘以抽屉式安装在炉体框架上，便于将承载硅片的托盘送入退火炉中，以及将退火处理完毕的硅片取出。可选的，托盘上包括预定数量的镂空区域，镂空区域设置有拦网，硅片放置在镂空区域的拦网上。镂空区域设置拦网一方面可以防止硅片掉落，另一方面有利于气体流通。可选的，光照装置包括LED灯管模块；LED灯管模块根据不同的波长要求拆卸更换。通过将LED灯管模块设置成便于拆卸更换的，可以根据实际的光照需求更换LED灯管模块，从而提供不同波长的照射处理。可选的，加热装置包括红外灯管，红外灯管的加热温度通过灯管功率调节。通过调整灯管功率可以调节加热温度，便于对加热温度进行控制。可选的，测温装置包括红外测温仪。可选的，小型静态退火炉还包括：气体更换装置；气体更换装置用于抽出炉内的第一气体并向炉内充入第二气体；第一气体包括空气，第二气体包括惰性气体。通过从炉内抽出空气并向炉内充入惰性气体，可以提高光注入退火过程的抗光衰效果。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。图1是本申请一个实施例提供的小型静态退火炉的结构示意图；图2是本申请一个实施例提供的炉体冷却装置的示意图；图3是本申请一个实施例提供的托盘的示意图；图4是本申请一个实施例提供的托盘上镂空区域的拦网的示意图。其中，附图标记如下：10、炉体框架；20、炉体冷却装置；21、风冷模块；22、水冷模块；23、风机；24、通风管道；30、托盘；31、镂空区域；32、拦网；40、测温装置；50、光照装置；60、电源装置；70、加热装置。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。传统的退火炉设备通过运输装置与其他自动化产线连接，形成大批量的自动化生产，但是需要先测定工艺参数后，再根据工艺参数对电池片开始自动化生产。每次对不同片源、规格的硅片进行光注入退火处理之前，需要启动一整条退火炉生产线进行测试，要消耗大量电力才能得出适于生产工艺参数，操作复杂，使用成本高。针对于此，本申请提供了一种小型静态退火炉，通过小型静态退火炉中的加热装置对硅片，即电池片进行加热，通过光照装置对电池片进行光照退火处理，加热与光照退火集成为一体，省去了自动化生产中的运输装置，易于操作，并且能够节约成本。下面结合图1至图4对本申请提供的小型静态退火炉进行举例说明。图1是本申请一个实施例提供的小型静态退火炉的结构示意图，该小型静态退火炉包括炉体框架10、炉体冷却装置20、托盘30、测温装置40、电源装置60、光照装置50、加热装置70；托盘30在炉体框架10的内部和外部之间移动，用于承载硅片，将硅片送入退火炉内部；测温装置40设置在炉体框架10内部，实时监测炉体内的温度；炉体冷却装置20设置在炉体框架10内部，用于对炉体进行降温；电源装置60为光照装置50提供恒定电流的电源；光照装置50设置在位于炉体内的托盘30的上方，用于以预定波长的光照射托盘30上的硅片；加热装置70设置在炉体内，用于对托盘30上的硅片加热。示例性的，炉体冷却装置20、测温装置40、光照装置50均设置在炉体框架10内部的上半个区域，示例性的，图1中加热装置70设置在位于炉体内的托盘30的下方，电源装置60设置在加热装置70的下方，与加热装置70间隔一段距离，避免受到加热装置70加热时的高温影响从而引发故障或安全问题。可选的，托盘30以抽屉式安装在炉体框架10上。示例性的，如图1所示，托盘30以抽屉式安装在炉体框架10的侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种小型静态退火炉，其特征在于，包括炉体框架、炉体冷却装置、托盘、测温装置、电源装置、光照装置、加热装置；/n所述托盘在所述炉体框架的内部和外部之间移动，用于承载硅片，将硅片送入退火炉内部；/n所述测温装置设置在所述炉体框架内部，用于实时监测炉体内的温度；/n所述炉体冷却装置设置在所述炉体框架内部，用于对炉体进行降温；/n所述电源装置为所述光照装置提供恒定电流的电源；/n所述光照装置设置在位于炉体内的所述托盘的上方，用于以预定波长的光照射所述托盘上的硅片；/n所述加热装置设置在炉体内，用于对所述托盘上的硅片加热。/n

【技术特征摘要】
1.一种小型静态退火炉，其特征在于，包括炉体框架、炉体冷却装置、托盘、测温装置、电源装置、光照装置、加热装置；
所述托盘在所述炉体框架的内部和外部之间移动，用于承载硅片，将硅片送入退火炉内部；
所述测温装置设置在所述炉体框架内部，用于实时监测炉体内的温度；
所述炉体冷却装置设置在所述炉体框架内部，用于对炉体进行降温；
所述电源装置为所述光照装置提供恒定电流的电源；
所述光照装置设置在位于炉体内的所述托盘的上方，用于以预定波长的光照射所述托盘上的硅片；
所述加热装置设置在炉体内，用于对所述托盘上的硅片加热。


2.根据权利要求1所述的小型静态退火炉，其特征在于，所述炉体冷却装置包括风冷模块和水冷模块；
所述风冷模块包括风机和通风管道，所述通风管道横跨在所述光照装置的上方，所述通风管道的两个风口分别设置在所述光照装置的两侧，所述风机用于带动气体在所述通风管道内和所述托盘下方的空间循环流动；
所述水冷模块设置在所述通风管道上，所述通风管道中的热风经过所述水冷模块时将热量传递给所述水冷模块中的冷却液，所述水冷模块用于将冷却液输出到外部进行冷却后回流。


3.根据权利要求2所述的小型静态退火炉，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文，李涛，郭健，周凡，
申请(专利权)人：无锡奥特维科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32