【技术实现步骤摘要】
含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法
本专利技术涉及光刻胶
，具体是一种含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法。
技术介绍
光致酸产生剂也叫光致产酸剂，是一种光敏感的化合物，在光照下分解产生酸，所产生的酸可使酸敏树脂发生分解或者交联反应，从而使光照部分与非光照部分在显影液中溶解反差增大，可以用于图形微细加工
其中，光致产酸剂被广泛应用于化学增幅抗蚀剂(又名光刻胶)等成像体系中。常用的光致产酸剂有重氮盐类化合物、鎓盐类化合物、氮羟基磺酸酯类化合物等。其中，鎓盐类化合物是非常重要的光产酸体系。目前重要的有锍鎓盐、碘鎓盐。锍鎓盐和碘鎓盐生产成本低，工艺成熟，已大批量商品化。由于鎓盐光致产酸剂配对阴离子是超强碱阴离子，所以光解后所产生的质子酸是超强酸，且稳定、无挥发、扩散范围小，可广泛应用于化学增幅抗蚀剂。化学增幅抗蚀剂广泛应用于集成电路中，近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用，随着集成电路特征尺寸的逐渐减小，边缘粗糙度的影响会越来越显著，光致...
【技术保护点】
1.一种含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂，其特征在于，包括阴离子和阳离子，所述阴离子的结构如下式所示：/n
【技术特征摘要】
1.一种含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂，其特征在于，包括阴离子和阳离子，所述阴离子的结构如下式所示：
其中
R表示烷基、环烷基、杂烷基或杂环烷基；
所述阳离子的结构如下式所示：
其中
P1、P2和P3分别独立地表示氢原子或者具有1至12个碳原子的任选取代的烷基。
2.根据权利要求1所述的含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂，其特征在于，所述烷基、环烷基、杂烷基或杂环烷基的中的亚甲基可以被酯基、碳酸酯基以及二氟亚甲基取代。
3.根据权利要求1所述的含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂，其特征在于，所述阴离子包括以下结...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭颖，蒋小惠，毕景峰，李嫚嫚，
申请(专利权)人：上海博栋化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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