抛光垫清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术为一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，毛刷结构包括能周向旋转的盘面毛刷，盘面毛刷用于抵靠接触且旋转清洁抛光垫；盘面毛刷安装于毛刷臂上，毛刷臂的一端连接升降部上，升降部上设置能驱动毛刷臂在水平方向上摆动和能驱动盘面毛刷周向旋转的旋转驱动部；盘面毛刷的一侧设置压力清洗结构，压力清洗结构用于修复抛光垫；抛光垫清洗装置还包括控制部，控制部用于盘面毛刷旋转状态、毛刷臂旋转状态、升降部升降状态和压力清洗结构清洗状态的控制。该装置能利用盘面毛刷冲洗清洁、保湿抛光垫，利用压力清洗结构修整抛光垫，防止抛光垫脏污和磨损造成新硅片的损伤。

Polishing pad cleaning device

【技术实现步骤摘要】
抛光垫清洗装置
本专利技术涉及硅片研磨的
，尤其涉及一种抛光垫清洗装置。
技术介绍
单晶硅作为一种重要的半导体材料，具有良好的电学性能和热稳定性，自被人们发现和利用后很快替代其它半导体材料。硅材料因其具有耐高温和抗辐射性能较好，特别适用于制作大功率器件的特性而成为应用最多的一种半导体材料，集成电路半导体器件大多数硅材料制成的。在制造性能良好的硅单晶方法中，直拉法生长硅单晶具有设备和工艺相对简单、容易实现自动控制。直拉单晶硅棒从单晶炉中拉制出来以后需要进行一系列的工序，前期包括截断、开方、圆角研磨和平面研磨等机械加工；中期还需要将单晶硅棒进行滚磨、切片、清洗、倒角、研磨和再清洗等工；后期将硅片进行制绒、扩散、结晶和烧结等工序后才能制造成半导体器件或用于光伏发电的太阳能电池片。其中，在中期研磨工序中，硅片与研磨盘属于干摩擦，容易使研磨盘表面发热而损坏，同时热量还会烧伤硅片。抛光垫上有异物，加工时对硅片造成划伤或者掉落在硅片上，影响硅片的性能。硅片加工后，盘面抛光垫会有少量磨损，会出现少量高低不平。由此，本专利技术人凭借多年从事相关行业的经验与实践，提出一种抛光垫清洗装置，以及时清洁修整抛光垫，避免抛光垫污损造成的硅片的损伤。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抛光垫清洗装置，该装置能利用盘面毛刷冲洗清洁、保湿抛光垫，利用压力清洗结构修整抛光垫，防止抛光垫脏污和磨损造成新硅片的损伤。本专利技术的目的是这样实现的，一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，所述毛刷结构包括能周向旋转的盘面毛刷，所述盘面毛刷用于抵靠接触且旋转清洁抛光垫；所述盘面毛刷安装于能上下移动且能在水平方向上摆动的毛刷臂上，所述毛刷臂的一端连接于能带动所述毛刷臂上下移动的升降部上，所述升降部上设置能驱动所述毛刷臂在水平方向上摆动和能驱动所述盘面毛刷周向旋转的旋转驱动部；所述盘面毛刷的一侧设置压力清洗结构，所述压力清洗结构用于修复抛光垫；所述抛光垫清洗装置还包括控制部，所述控制部用于所述盘面毛刷旋转状态、所述毛刷臂旋转状态、所述升降部升降状态和所述压力清洗结构清洗状态的控制。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述升降部包括呈竖直设置在第一底板上的升降气缸，所述升降气缸的底端固定且顶端能伸缩升降，所述升降气缸的顶端设置第二底板，所述第二底板上设置所述旋转驱动部。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第二底板上架设马达基座，所述旋转驱动部包括吊设于所述马达基座上的第一伺服马达，所述第一伺服马达的输出端与竖直的第一转轴传动连接，所述第一转轴的底端轴向固定且能周向转动地设置于所述马达基座上，所述第一转轴的顶部固定连接呈C型设置的旋转支架的底部，所述毛刷臂的一端向下延伸设置空心的连接筒，所述旋转支架的顶部与所述连接筒的底部固定连接，所述第一伺服马达通过所述第一转轴、所述旋转支架和所述连接筒驱动所述毛刷臂在水平方向上摆动；所述升降气缸通过所述第二底板、所述马达基座、所述第一转轴、所述旋转支架和所述连接筒带动所述毛刷臂升降；所述第一伺服马达与所述控制部电连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述毛刷臂包括中空的壳体，所述壳体的底部一端向下连通所述连接筒，所述盘面毛刷的旋转中心处设置第三转轴，所述第三转轴轴向固定且能周向转动地穿设于所述壳体的底部另一端；所述旋转驱动部包括设置于所述马达基座上的第二伺服马达，所述第二伺服马达的输出端与竖直的第二转轴传动连接，所述第二转轴轴向固定且能转动地密封穿设通过所述连接筒，所述壳体内设置第一传动带，所述第二转轴的顶部设置第一同步带轮，所述第三转轴的顶部设置第二同步带轮，所述第一传动带的两端分别绕设于所述第一同步带轮和所述第二同步带轮上；所述第二伺服马达通过所述第二转轴、所述第一传动带和所述第三转轴驱动所述盘面毛刷周向旋转；所述第二伺服马达与所述控制部电连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述抛光垫清洗装置还包括用于调节所述盘面毛刷刷洗压力的加压结构；所述加压结构的入口与空压装置连通，所述加压结构的出口朝向所述盘面毛刷的顶部且能向所述盘面毛刷施加空压；所述加压结构与所述控制部电连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第二转轴上轴向贯通设置第二轴孔，所述第三转轴上轴向贯通设置第三轴孔；所述加压结构包括所述第二轴孔内密封穿设的第一空压管，所述第一空压管的底部密封连通第一接头，所述第一接头的入口端与空压装置连通；所述第一空压管的顶部密封连通第二接头，所述第二接头的出口端连通位于所述第一同步带轮上方的第二空压管，所述第二空压管的出口端连通第三接头；所述第三轴孔内密封穿设第三空压管，所述第三空压管的入口端与所述第三接头的出口端连通，所述第三空压管的出口朝向所述盘面毛刷的顶部且能向所述盘面毛刷施加空压。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第一传动带的一侧沿纵向间隔地抵靠设置第一惰轮和第二惰轮，所述第一惰轮和所述第二惰轮分别通过惰轮架连接于所述壳体内。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第三转轴的侧壁下部设置外齿轮部，所述第三转轴的底部套设毛刷支架，所述毛刷支架上设置与所述外齿轮部匹配啮合的内齿轮部，所述盘面毛刷通过法兰连接于所述毛刷支架的底部。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第一伺服马达的输出端设置第三同步带轮，所述第一转轴上设置第四同步带轮，所述第三同步带轮和所述第四同步带轮上套设第二传动带；第四同步带轮上设置位置指示尺，所述马达基座上设有传感器架，所述传感器架上装有限位传感器，所述限位传感器能感应所述位置指示尺的位置，所述限位传感器与所述控制部电连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述连接筒的顶部固定连接开口向下的机壳，所述机壳的顶端与所述壳体底部固定连接。由上所述，本专利技术提供的一种抛光垫清洗装置具有如下有益效果：本专利技术提供的抛光垫清洗装置，用于硅片加工前或者硅片加工后再次加工前的清洁修整；本专利技术的抛光垫清洗装置中，升降部与旋转驱动部共同作用，实现毛刷臂的上下移动和水平方向上的来回摆动，使得安装于毛刷臂上的盘面毛刷快速定位并能沿水平方向上扫磨抛光面，旋转驱动部也能为盘面毛刷自旋提供动力；本专利技术的抛光垫清洗装置，利用旋转盘面毛刷刷洗掉硅片加工后残留在抛光垫上的物质，防止加工时残留颗粒对新硅片造成划伤；在硅片加工后，抛光垫会有少量磨损导致少量高低不平，利用压力清洗结构通过高压冲洗起到修整抛光垫的作用。附图说明以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释，并不限定本专利技术的范围。其中：图1：为本专利技术的抛光垫清洗装置的主视图。图2：为本专利技术的抛光垫清洗装置的俯视图。图3：为图1中A-A剖视图。图4：为图3中C向视图。图5：为图1中B-B剖视图。图6：为图5中D向视图。图7：为图1中Ⅰ处放大图。图中：100、抛光垫清洗装置；1、毛刷结构；11、盘面毛刷；12、毛刷支架；13、法兰；14、毛刷支架外壳；2、毛刷臂；20、壳体；201、毛刷臂盖；21、连接筒；...

【技术保护点】
1.一种抛光垫清洗装置，其特征在于，包括毛刷结构，所述毛刷结构包括能周向旋转的盘面毛刷，所述盘面毛刷用于抵靠接触且旋转清洁抛光垫；所述盘面毛刷安装于能上下移动且能在水平方向上摆动的毛刷臂上，所述毛刷臂的一端连接于能带动所述毛刷臂上下移动的升降部上，所述升降部上设置能驱动所述毛刷臂在水平方向上摆动和能驱动所述盘面毛刷周向旋转的旋转驱动部；所述盘面毛刷的一侧设置压力清洗结构，所述压力清洗结构用于修复抛光垫；所述抛光垫清洗装置还包括控制部，所述控制部用于所述盘面毛刷旋转状态、所述毛刷臂旋转状态、所述升降部升降状态和所述压力清洗结构清洗状态的控制。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫清洗装置，其特征在于，包括毛刷结构，所述毛刷结构包括能周向旋转的盘面毛刷，所述盘面毛刷用于抵靠接触且旋转清洁抛光垫；所述盘面毛刷安装于能上下移动且能在水平方向上摆动的毛刷臂上，所述毛刷臂的一端连接于能带动所述毛刷臂上下移动的升降部上，所述升降部上设置能驱动所述毛刷臂在水平方向上摆动和能驱动所述盘面毛刷周向旋转的旋转驱动部；所述盘面毛刷的一侧设置压力清洗结构，所述压力清洗结构用于修复抛光垫；所述抛光垫清洗装置还包括控制部，所述控制部用于所述盘面毛刷旋转状态、所述毛刷臂旋转状态、所述升降部升降状态和所述压力清洗结构清洗状态的控制。


2.如权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述升降部包括呈竖直设置在第一底板上的升降气缸，所述升降气缸的底端固定且顶端能伸缩升降，所述升降气缸的顶端设置第二底板，所述第二底板上设置所述旋转驱动部。


3.如权利要求2所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述第二底板上架设马达基座，所述旋转驱动部包括吊设于所述马达基座上的第一伺服马达，所述第一伺服马达的输出端与竖直的第一转轴传动连接，所述第一转轴的底端轴向固定且能周向转动地设置于所述马达基座上，所述第一转轴的顶部固定连接呈C型设置的旋转支架的底部，所述毛刷臂的一端向下延伸设置空心的连接筒，所述旋转支架的顶部与所述连接筒的底部固定连接，所述第一伺服马达通过所述第一转轴、所述旋转支架和所述连接筒驱动所述毛刷臂在水平方向上摆动；所述升降气缸通过所述第二底板、所述马达基座、所述第一转轴、所述旋转支架和所述连接筒带动所述毛刷臂升降；所述第一伺服马达与所述控制部电连接。


4.如权利要求3所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述毛刷臂包括中空的壳体，所述壳体的底部一端向下连通所述连接筒，所述盘面毛刷的旋转中心处设置第三转轴，所述第三转轴轴向固定且能周向转动地穿设于所述壳体的底部另一端；
所述旋转驱动部包括设置于所述马达基座上的第二伺服马达，所述第二伺服马达的输出端与竖直的第二转轴传动连接，所述第二转轴轴向固定且能转动地密封穿设通过所述连接筒，所述壳体内设置第一传动带，所述第二转轴的顶部设置第一同步带轮，所述第三转轴的顶部设置第二同步带轮，所述第一传动带的两端分别绕设于...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨兆明，颜凯，中原司，
申请(专利权)人：浙江芯晖装备技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33