解胶系统技术方案

一种解胶系统，用于去除物料表面的胶层，包括：一光源模块，其中，所述光源模块包括一光源单元，用于被导通之后产生一光照区域；一置料模块，其中，所述置料模块位于所述光源单元的所述光照区域内，以用于支持具有该胶层的该物料于所述光照区域内，从而借由所述光源单元对该物料的胶层进行曝光；一控制模块，用于控制所述光源单元的光照时间；以及，一动力模块，所述动力模块与所述控制模块可通信连接，用于，基于所述光照时间，作动所述置料模块进入和离开所述光照区域。

Degumming system

【技术实现步骤摘要】
解胶系统
本技术涉及一工业生产领域，尤其涉及一UV膜和切割膜的解胶系统和解胶方法。
技术介绍
UV膜可以组个紫外光及短波长可见光，因此被广泛地应用于半导体产业和电子产业，和光学器件产业。在光学器件产业中，许多模组的激光发射器(Vecsel)和掩膜(Mask)的物料由圆盘和UV膜组成，此时的物料是没有解除胶层的，因此物料的粘性较大。在生产过程中，UV膜的粘性较大会导致在UV膜上摘取产品的效率较低，以及，可能造成所述Vecsel和Mask在摘取过程中断裂。因此，物料的UV膜需要用UV灯曝光解胶，降低粘性后使用。目前产业中应用较多的解胶装置是一种抽屉式解胶机，利用手动的方式传送物料到UV灯的光照范围内，再根据经验判断物料的曝光时间，当曝光时间结束时，在利用手动的方式将物料抽离UV灯的光照范围。然而，传统的抽屉式解胶机虽然结构简单，但是存在诸多缺陷，主要体现在以下几个方面。首先，抽屉式解胶机中的物料的曝光时间是不可控制的，在生产过程中，物料的曝光时间过长会导致物料损坏，曝光时间过短，会导致UV膜解胶不充分，因此很难达到理想的物料解胶效果，质量较低。其次，抽屉式解胶机依靠用户经验判断曝光时间，这对用户的专业技能有较高要求，可能会导致人工成本较高。最后，抽屉式解胶机以手动的方式将物料推进和抽离UV灯的曝光范围，操作比较复杂，工作效率较低，从而导致生产效率较低。据此，当下存在对能够实现曝光时间可控，以及实现自动化的解胶设备的需求。
技术实现思路
本技术的一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统可以提升物料的解胶效果，以及提升生产效率。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统可以自动地传输物料，从而简化解胶操作，加快生产速度。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统可以控制物料的曝光时间，不需要用户具备较高的专业技能，从而降低人工成本。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统可以控制UV光源单元的强度和照度，以及，根据物料的种类，光源单元的强度和光源单元的照度控制物料的曝光时间。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，物料在传输过程中，被放置地更加稳固。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统适用于解除多种物料的胶层，从而具有较强的普适性。本技术的另一个目的在于提供一种解胶系统和解胶方法，其中，所述解胶系统操作简单，成本较低，从而经济有效地解决了物料曝光时间可控，以及，物料传输自动化的问题，从而提升了物料的解胶效果和生产效率。为了实现上述至少一技术的目的，本技术进一步提供一种解胶系统，包括：一光源模块，其中，所述光源模块包括一光源单元，用于被导通之后产生一光照区域；一置料模块，其中，所述置料模块位于所述光源单元的所述光照区域内，以用于支持具有该胶层的该物料于所述光照区域内，从而借由所述光源单元对该物料的胶层进行曝光；以及一控制模块，用于控制所述光源单元的光照时间。在本技术的一个实施例中，所述控制模块基于该物料的该胶层的类型、所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，控制所述光照时间。在本技术的一个实施例中，其中，所述控制模块控制所述光源单元的光照时间的过程，包括：获取该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度；基于该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，生成光照时间参数；以及，基于所述光照时间参数，控制所述光源单元的光照时间。在本技术的一个实施例中，所述光源模块还包括一限位模块，用于调节该物料与所述光源单元之间的相对位置关系。在本技术的一个实施例中，其中，所述限位模块，包括一限位架，至少一第一限位单元和一第二限位单元，所述限位架延伸于所述置料模块与所述光源单元之间，所述至少一第一限位单元沿着所述限位架的延伸方向形成于所述限位架，所述第二限位单元一体地延伸于所述置料模块，其中，所述第二限位单元可选择地与形成于所述限位架的所述第一限位单元相配合，以调节该物料与所述光源单元之间的相对位置关系。在本技术的一个实施例中，还包括一动力模块，与所述控制模块可通信连接，用于基于所述光照时间，作动所述置料模块进入和离开所述光照区域。在本技术的一个实施例中，所述控制模块包括一交互单元，用于接收和/或显示该来料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度。在本技术的一个实施例中，所述解胶系统还包括一隔离单元，所述隔离单元位于所述光源单元和所述控制模块之间，以隔离所述控制模块于所述光源单元。依本技术的另一个方面，本技术进一步提供一种解胶方法，包括：支撑表面具有胶层的物料于一光源单元的光照区域；以及基于该物料的类型、所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，控制所述光源单元的光照时间以对该物料表面的胶层进行曝光。在本技术的一个实施例中，基于该物料的类型、所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，控制所述光源单元的光照时间以对该物料表面的胶层进行曝光的步骤，包括：获取该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度；基于该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，生成光照时间参数；以及基于所述光照时间参数，控制所述光源单元的光照时间。在本技术的一个实施例中，所述解胶方法还包括：基于所述光源单元的光照时间，作动所述置料模块进入和离开所述光照区域。通过对随后的描述和附图的理解，本技术进一步的目的和优势将得以充分体现。本技术的这些和其它目的、特点和优势，通过下述的详细说明，附图和权利要求得以充分体现。附图说明图1是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统示意图。图2是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的光照区域的示意图。图3是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的控制模块控制光照时间的过程示意图。图4是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的处理模块的示意图。图5是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的置料模块被作动的示意图。图6是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的限位模块的示意图。图7是根据本技术的一个较佳实施例的解胶系统的隔离模块的示意图。图8是根据本技术的一个较佳实施例的解胶方法的框图示意图。具体实施方式以下描述用于揭露本技术以使本领域技术人员能够实现本技术。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本技术的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本技术的精神和范围的其他技术方案。本领域技术人员应理解的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种解胶系统，用于去除物料表面的胶层，其特征在于，包括：/n一光源模块，其中，所述光源模块包括一光源单元，用于被导通之后产生一光照区域；/n一置料模块，其中，所述置料模块位于所述光源单元的所述光照区域内，以用于支持具有该胶层的该物料于所述光照区域内，从而借由所述光源单元对该物料的胶层进行曝光；以及/n一控制模块，用于控制所述光源单元的光照时间。/n

【技术特征摘要】
1.一种解胶系统，用于去除物料表面的胶层，其特征在于，包括：
一光源模块，其中，所述光源模块包括一光源单元，用于被导通之后产生一光照区域；
一置料模块，其中，所述置料模块位于所述光源单元的所述光照区域内，以用于支持具有该胶层的该物料于所述光照区域内，从而借由所述光源单元对该物料的胶层进行曝光；以及
一控制模块，用于控制所述光源单元的光照时间。


2.根据权利要求1所述的解胶系统，其中，所述控制模块基于该物料的类型、所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，控制所述光源单元的所述光照时间。


3.根据权利要求2所述的解胶系统，其中，所述控制模块控制所述光源单元的光照时间的过程，包括：
获取该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度；
基于该物料的类型，所述光源单元的强度和所述光源单元的照度，生成光照时间参数；以及，
基于所述光照时间参数，控制所述光源单元的光照时间。


4.根据权利要求1所述的解胶系统，还包括一限位模块，用于调节该...

【专利技术属性】
技术研发人员：诸潇洒，樊兆帅，张云鹏，
申请(专利权)人：余姚舜宇智能光学技术有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33