一种湿法刻蚀单面基板的装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于湿法刻蚀技术领域，具体为一种湿法刻蚀单面基板的装置。本发明专利技术装置主要包括导热底座、带孔防刻蚀液蒸发盖的刻蚀杯、可安拆的温度计和加热型机械搅拌器；其中导热底座是槽壁顶端带关卡的导热浅槽底座及防刻蚀液渗漏的垫子等组成；溶液刻蚀杯是略比底座小的通孔刻蚀容器；防液体蒸发盖为带圆孔的容器盖。本发明专利技术设计的湿法刻蚀平板的装置，具有装置结构简单、重复使用性较高、成本低、可实现平板的大面积刻蚀等优势，能满足各领域对大面积单面平板材料的刻蚀的需求。

A device for wet etching single side substrate

【技术实现步骤摘要】
一种湿法刻蚀单面基板的装置
本专利技术属于湿法刻蚀
，具体涉及一种湿法刻蚀单面基板的装置。
技术介绍
湿法刻蚀工艺主要是指采用化学药品溶液对刻蚀物进行刻蚀的技术，具体为通过刻蚀液与刻蚀物接触发生化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的刻蚀物部分脱离基板表面，而把有光刻胶覆盖的刻蚀物区域保存下来，这样在基板上就得到了所需要的刻蚀物图形。湿法刻蚀以干法刻蚀相比，具有较高的刻蚀工艺稳定性、较简单的刻蚀设备及工艺、易于批量生产和较低的刻蚀成本。在光伏太阳能电池半导体制造等行业中，往往需要对单面基板进行刻蚀，为此，部分技术人员研发了一些单面基板刻蚀的装置，如CN207651451U公开了一种硅片单面刻蚀装置，将硅片置于旋转工作台上旋转，用喷淋装置向硅片表面喷淋刻蚀液，硅片表面上的刻蚀液在离心力作用下，向外扩散铺满整个硅片表面，两者相互反应达到刻蚀效果，此装置可适用于不同刻蚀需求的产品，灵活性高；CN105225992A公开了一种刻蚀装置及晶圆片单面刻蚀方法，利用夹紧装置夹紧放置在底座上的多个夹片环和多个晶圆片后，刻蚀液通过夹片环的进液槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿法刻蚀单面基板的装置，其特征在于，包括：导热底座、带孔防刻蚀液蒸发盖的刻蚀杯、可安拆的温度计和加热型机械搅拌器；其中：/n所述的导热底座，由槽壁顶端带关卡和底部中心带基板托的导热浅槽底座和防刻蚀液渗漏垫子组成；/n所述的带孔防刻蚀液蒸发盖的刻蚀杯，由略比导热底座小的且带防漏垫圈的卡槽和底座连接缺口的通孔刻蚀容器杯和带孔防刻蚀液蒸发盖构成；所述通孔刻蚀容器杯形状为与基板形状相同的连通台体；/n所述的可安拆的温度计和加热型机械搅拌器，分别用于测量刻蚀液温度和加快刻蚀速率，温度计及机械搅拌器的搅拌棒子插于所述的防蒸发容器盖相应大小的孔中，其加热机械搅拌器及温度计可根据需求灵活安装拆除。/n

【技术特征摘要】
1.一种湿法刻蚀单面基板的装置，其特征在于，包括：导热底座、带孔防刻蚀液蒸发盖的刻蚀杯、可安拆的温度计和加热型机械搅拌器；其中：
所述的导热底座，由槽壁顶端带关卡和底部中心带基板托的导热浅槽底座和防刻蚀液渗漏垫子组成；
所述的带孔防刻蚀液蒸发盖的刻蚀杯，由略比导热底座小的且带防漏垫圈的卡槽和底座连接缺口的通孔刻蚀容器杯和带孔防刻蚀液蒸发盖构成；所述通孔刻蚀容器杯形状为与基板形状相同的连通台体；
所述的可安拆的温度计和加热型机械搅拌器，分别用于测量刻蚀液温度和加快刻蚀速率，温度计及机械搅拌器的搅拌棒子插于所述的防蒸发容器盖相应大小的孔中，其加热机械搅拌器及温度计可根据需求灵活安装拆除。


2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀单面基板的装置，其特征在于，导热底座中的关卡为不易腐蚀的聚四氟乙烯、硅胶或其他硬材质的楔子；基板托及底座的材料为金属，其形状大小可依据被刻蚀基板形状而定。


3.根据权利要求1所述的湿法刻蚀单面基板的装置，其特征在于，导热底座中的防刻蚀液渗漏的垫子为不易被刻蚀液腐蚀的PTFE或硅胶软质材料，其形状与底座及基板托形状相同。


4.根据权利要求1、2或3所述的湿法刻蚀单面...

【专利技术属性】
技术研发人员：包文中，郭晓娇，胡荣民，周鹏，张卫，
申请(专利权)人：复旦大学，
类型：发明
国别省市：上海;31