显示面板及显示面板的制备方法技术

本揭示提供一种显示面板及显示面板的制备方法。显示面板包括阵列基板、像素定义层以及间隔柱，像素定义层设置在阵列基板上，间隔柱设置在像素定义层上，其中，间隔柱包括底面和顶面，顶面的截面积小于底面的截面积，且从顶面到底面，间隔柱中心到侧面的水平距离逐渐增大。光刻时，掩膜板与间隔柱对应的位置处设置有开孔，间隔柱对掩膜板精确定位，保证了光刻的精度以及显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及显示面板的制备方法
本揭示涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
技术介绍
有机电致发光显示器件(OrganicLight-EmittingDevice，OLED)相对于液晶显示装置具有自发光、反应快、轻薄等优点，已成为显示领域的新兴技术。在显示面板的制作过程中，会使用到精细金属掩膜板蒸镀技术(finemetalmask，FMM)，有机材料蒸镀工艺是指利用FMM工艺将有机发光材料蒸镀在背板的特定像素内，形成特定的发光器件的工艺，可以实现R/G/B全彩OLED。现有的显示面板的FMM技术中，通常由多个子掩膜板拼接而成。其精度要求高，为了保证掩膜板的对位精度，在显示面板上通常设置定位隔垫物，但是在现有的掩膜板结构以及FMM工艺中，FMM掩膜板的开口极小，当蒸镀时，FMM的开口与衬底基板上的像素无法完全对齐，掩膜板不能精确的放置定位隔垫物上，使得显示面板蒸镀完成后。像素分辨率降低，进而影响显示效果。综上所述，现有的显示面板及掩膜板结构和FMM工艺中，FMM掩膜板开口小，在蒸镀时，掩膜板不能精确定位，FM本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n阵列基板；/n像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上；以及/n间隔柱，所述间隔柱设置在所述像素定义层上；/n其中，所述间隔柱包括底面和顶面，所述顶面的截面积小于所述底面的截面积，且从所述顶面到所述底面，所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上；以及
间隔柱，所述间隔柱设置在所述像素定义层上；
其中，所述间隔柱包括底面和顶面，所述顶面的截面积小于所述底面的截面积，且从所述顶面到所述底面，所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱的截面形状包括方形。


3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱的截面形状包括圆形。


4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱呈方形阵列设置在所述像素定义层上。


5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S100：制备显示面板的衬底基板、阵列基板以及像素定义层；
S101：在所述像素定义层上制备间隔柱；
S102：通过精细金属掩膜板蒸镀技术在掩膜板对应的所述间隔柱位置处开孔；
S...

【专利技术属性】
技术研发人员：巫君杰，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42