显示面板及显示面板的制备方法技术

本揭示提供一种显示面板及显示面板的制备方法。显示面板包括阵列基板、像素定义层以及间隔柱，像素定义层设置在阵列基板上，间隔柱设置在像素定义层上，其中，间隔柱包括底面和顶面，顶面的截面积小于底面的截面积，且从顶面到底面，间隔柱中心到侧面的水平距离逐渐增大。光刻时，掩膜板与间隔柱对应的位置处设置有开孔，间隔柱对掩膜板精确定位，保证了光刻的精度以及显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及显示面板的制备方法
本揭示涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
技术介绍
有机电致发光显示器件(OrganicLight-EmittingDevice，OLED)相对于液晶显示装置具有自发光、反应快、轻薄等优点，已成为显示领域的新兴技术。在显示面板的制作过程中，会使用到精细金属掩膜板蒸镀技术(finemetalmask，FMM)，有机材料蒸镀工艺是指利用FMM工艺将有机发光材料蒸镀在背板的特定像素内，形成特定的发光器件的工艺，可以实现R/G/B全彩OLED。现有的显示面板的FMM技术中，通常由多个子掩膜板拼接而成。其精度要求高，为了保证掩膜板的对位精度，在显示面板上通常设置定位隔垫物，但是在现有的掩膜板结构以及FMM工艺中，FMM掩膜板的开口极小，当蒸镀时，FMM的开口与衬底基板上的像素无法完全对齐，掩膜板不能精确的放置定位隔垫物上，使得显示面板蒸镀完成后。像素分辨率降低，进而影响显示效果。综上所述，现有的显示面板及掩膜板结构和FMM工艺中，FMM掩膜板开口小，在蒸镀时，掩膜板不能精确定位，FMM的开口与像素不能完全对齐，造成显示面板的像素分辨率低，显示效果差。
技术实现思路
本揭示提供一种显示面板及显示面板的制备方法，以解决现有的显示面板及FMM工艺中，掩膜板不能精确定位，同时，在蒸镀过程中，FMM的开口区与像素不能完全对齐，像素分辨率低，显示面板显示效果差的问题。为解决上述技术问题，本揭示实施例提供的技术方案如下：根据本揭示实施例的第一方面，提供了一种显示面板，包括：阵列基板；像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上；以及间隔柱，所述间隔柱设置在所述像素定义层上；其中，所述间隔柱包括底面和顶面，所述顶面的截面积小于所述底面的截面积，且从所述顶面到所述底面，所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。根据本揭示一实施例，所述间隔柱的截面形状包括方形。根据本揭示一实施例，所述间隔柱的截面形状包括圆形。根据本揭示一实施例，所述间隔柱呈方形阵列设置在所述像素定义层上。根据本揭示实施例的第二方面，还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：S100：制备显示面板的衬底基板、阵列基板以及像素定义层；S101：在所述像素定义层上制备间隔柱；S102：通过精细金属掩膜板蒸镀技术在掩膜板对应的所述间隔柱位置处开孔；S103：将所述掩膜板与所述间隔柱对位，并进行蒸镀。根据本揭示一实施例，所述步骤S100中，还包括利用光刻工艺在所述像素定义层的像素有效区上开口。根据本揭示一实施例，所述间隔柱的截面形状包括圆形或方形，所述间隔柱的侧面具有坡度。根据本揭示一实施例，所述步骤S102中，所述掩膜板的所述开孔包括通孔或者盲孔。根据本揭示一实施例，所述步骤S102中，所述掩膜板与所述间隔柱对应的位置处，所述掩膜板的所述开孔包括通孔和盲孔，所述通孔处对应的所述间隔柱的高度大于所述盲孔处对应的所述间隔柱的高度。根据本揭示一实施例，所述步骤S103中，所述掩膜板与所述间隔柱对位完成后，使用所述掩膜板分别蒸镀红色像素、蓝色像素以及绿色像素。综上所述，本揭示实施例的有益效果为：本揭示提供一种显示面板及显示面板的制备方法，通过在显示面板的像素定义层上光刻间隔柱，并且在间隔柱对应的掩膜板的对应位置上开设开孔，在进行像素蒸镀时，使掩膜板的开孔与间隔柱相互对齐，保证了掩膜板的对应精度，从而保证了蒸镀的精度，提高像素的开口率和像素分辨率，并提高显示效果。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是揭示的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本揭示实施例的显示面板各层结构示意图；图2为本揭示实施例提供的间隔柱的结构示意图；图3为本揭示另一实施例提供的显示面板的结构示意图；图4为本揭示实施例的显示面板的制备流程图；图5为本揭示实施例提供的光刻示意图；图6为本揭示实施例提供的掩膜板的截面示意图。具体实施方式下面将结合本揭示实施例中的附图，对本揭示实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本揭示一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本揭示中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本揭示保护的范围。在本揭示的实施例中，如图1所示，图1为本揭示实施例的显示面板各层结构示意图。所述显示面板包括衬底基板100、阵列基板层101、像素定义层102以及间隔柱103。阵列基板层101设置在衬底基板100上，像素定义层102设置在阵列基板层101上，间隔柱103设置在像素定义层102上。其中，在像素定义层102上还设置有若干像素开口104，像素开口104根据显示面板的显示需求具体设置，像素开口104通过光刻蚀工艺制备而成。在像素开口104内设置红色像素、蓝色像素以及绿色像素，以保证显示面板的彩色显示。具体的，阵列基板层101内还包括依次设置的缓冲层、第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层、无机绝缘层、平坦层以及刻蚀在各膜层内的显示面板的功能层。间隔柱103呈方形阵列的设置在像素定义层102上，具体的可设置在像素的非开口区域上，避免对像素发光情况的影响。具体的，如图2所示，图2为本揭示实施例提供的间隔柱的结构示意图。间隔柱包括顶面200以及底面201，顶面200还可集中成一个顶点，此时，间隔柱就为一圆锥体。间隔柱的截面形状为一圆形，顶面200的截面积小于底面201的截面积，并且，间隔柱的侧面具有拔模斜度，即从所述间隔柱顶面200到底面201，间隔柱中心到侧面的水平距离逐渐增大，这样，当间隔柱与掩膜板相配合时，具有斜度的间隔柱很容易的就与掩膜板上的开孔相配合，提高工艺效率。优选的，间隔柱的截面形状还可为方形，其顶面边长的长度小于底面边长的长度。具体的，为保证配合精度，所述方形的顶面的边长设置为5um，底面的边长设置为19um，间隔柱的高度设置为7um。如图3所示，图3为本揭示另一实施例提供的显示面板的结构示意图。显示面板包括衬底基板300、阵列基板层301、像素定义层302以及第一间隔柱303、第二间隔柱304以及像素单元305。阵列基板层301设置在衬底基板300上，像素定义层302设置在阵列基板层301上，第一间隔柱303以及第二间隔柱304均设置在像素定义层302上。与图1相比，本揭示实施例的不同在于，第一间隔柱303与第二间隔柱304不同，其中，第一间隔柱303的高度大于第二间隔柱304的高度，在制备第一间隔柱303与第二间隔柱304时，使用不同的光罩进行光刻。优选的，第一间隔柱设置为方块形状，第二间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n阵列基板；/n像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上；以及/n间隔柱，所述间隔柱设置在所述像素定义层上；/n其中，所述间隔柱包括底面和顶面，所述顶面的截面积小于所述底面的截面积，且从所述顶面到所述底面，所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
像素定义层，所述像素定义层设置在所述阵列基板上；以及
间隔柱，所述间隔柱设置在所述像素定义层上；
其中，所述间隔柱包括底面和顶面，所述顶面的截面积小于所述底面的截面积，且从所述顶面到所述底面，所述间隔柱的中心到所述间隔柱的侧面的水平距离逐渐增大。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱的截面形状包括方形。


3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱的截面形状包括圆形。


4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔柱呈方形阵列设置在所述像素定义层上。


5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S100：制备显示面板的衬底基板、阵列基板以及像素定义层；
S101：在所述像素定义层上制备间隔柱；
S102：通过精细金属掩膜板蒸镀技术在掩膜板对应的所述间隔柱位置处开孔；
S...

【专利技术属性】
技术研发人员：巫君杰，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42