显示面板及其制备方法技术

本申请提供一种显示面板及其制备方法，所述制备方法包括：提供一待涂布配向膜的基板；提供一光罩，利用所述光罩对所述基板进行曝光处理，在所述基板表面界定形成亲水区和疏水区，所述亲水区对应显示面板的显示区，所述疏水区对应显示面板的非显示区；在所述基板上涂布配向膜，以将所述配向膜限制在所述亲水区内。采用本发明专利技术，可实现对配向膜的边界精度的控制，避免显示面板出现漏光、亮度不均或在可靠性测试中出现稳定性失效的问题。

Display panel and its preparation

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法
本申请涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
黑色矩阵设置在阵列基板上(BlackMatrixonArray，BOA)技术与彩膜设置在阵列基板上(ColorFilteronArray，COA)技术是液晶显示装置中常用的两种集成技术，而黑色光学间隔物(BlackPhotoSpacer，BPS)技术作为BOA技术的一种，常搭配COA技术实现显示面板的制备。在制程过程中，将液晶显示装置中黑色矩阵与隔垫物两道独立制程整合为一道制程，实现三种功能结构的制备；即在阵列基板上利用黑色有机光阻，采用单次曝光显影制程工艺，一次性制得高度不同的主隔垫物、次隔垫物及黑色矩阵，在实现遮光的同时，也可具备支撑盒厚的功能。在常规的黑色矩阵制备于彩膜基板上(BMonCF)结构中，黑色矩阵制备于彩膜基板上可以经由图形化工艺，形成对位标记等信息，提高各制程段的精度。但在BPS技术中，由于黑色矩阵制备于阵列基板上，区别于BMonCF结构，所以作为上基板的彩膜基板上仅需沉积一层透明导电层作为公共电极，不涉及对位标记的图形化制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS10：提供一待涂布配向膜的基板；/nS20：提供一光罩，利用所述光罩对所述基板进行曝光处理，在所述基板表面界定形成亲水区和疏水区，所述亲水区对应显示面板的显示区，所述疏水区对应显示面板的非显示区；/nS30：在所述基板上涂布配向膜，以将所述配向膜限制在所述亲水区内。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10：提供一待涂布配向膜的基板；
S20：提供一光罩，利用所述光罩对所述基板进行曝光处理，在所述基板表面界定形成亲水区和疏水区，所述亲水区对应显示面板的显示区，所述疏水区对应显示面板的非显示区；
S30：在所述基板上涂布配向膜，以将所述配向膜限制在所述亲水区内。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光罩包括透光区和遮光区，在所述步骤S20中，所述透光区对准所述显示区，所述遮光区对准所述非显示区。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S20中，采用紫外光对所述基板进行曝光处理。


4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S20之前，所述制备方法还包括对所述待涂布配向膜的基板进行清洗。


5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基板包括衬底与导电层，所述导电层设置于所述衬底的表面且位于所述显示...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹武，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44