拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法技术

本申请实施例提供了一种拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法。该拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复方法包括：提供一纳米压印拼接板，纳米压印拼接板包括衬底和位于衬底之上的多个拼接模块，相邻拼接模块之间具有拼接缝，拼接模块包括单元图案；至少在拼接缝处形成修复胶层；对修复胶层进行图形化处理以形成修复模块，修复模块包括单元图案。本实施例能够实现对拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复，从而制作出无缝的拼接式纳米压印模板；无缝的拼接式纳米压印模板不仅有利于提升光电器件的质量，而且解决了由于拼接缝而导致的脱模问题。

Splicing nano imprinting template, repair method of its splicing joint and manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法
本申请涉及纳米压印
，具体而言，本申请涉及一种拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法。
技术介绍
纳米压印技术作为一种新型的高效率、高产出的微型结构制备技术，可制备出微米级和纳米级的微型结构，被广泛应用于光电器件、半导体等
目前，制备大面积纳米压印模板的方法主要是对多个小面积的纳米压印模板进行拼接，以形成拼接式纳米压印模板。但是，在对小面积的纳米压印模板的拼接无法达到无缝拼接，因此，使得拼接式纳米压印模板中通常存在拼接缝，这些拼接缝一般为微米级。拼接式纳米压印模板由于拼接缝处的结构缺失，一方面会降低采用拼接式纳米压印模板制成的光电器件的质量，另一方面在脱模时拼接缝处也容易带走部分压印胶而引起脱模问题。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点，提出一种拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法，用以解决现有技术存在的拼接式纳米压印模板存在拼接缝的技术问题。第一个方面，本申请实施例提供了一种拼接式纳米压印模板的拼接缝的修本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复方法，其特征在于，包括：/n提供一纳米压印拼接板，所述纳米压印拼接板包括衬底和位于所述衬底之上的多个拼接模块，相邻所述拼接模块之间具有拼接缝，所述拼接模块包括单元图案；/n至少在所述拼接缝处形成修复胶层；/n对所述修复胶层进行图形化处理以形成修复模块，所述修复模块包括所述单元图案。/n

【技术特征摘要】
1.一种拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复方法，其特征在于，包括：
提供一纳米压印拼接板，所述纳米压印拼接板包括衬底和位于所述衬底之上的多个拼接模块，相邻所述拼接模块之间具有拼接缝，所述拼接模块包括单元图案；
至少在所述拼接缝处形成修复胶层；
对所述修复胶层进行图形化处理以形成修复模块，所述修复模块包括所述单元图案。


2.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，所述修复胶层为压印胶层，至少在所述拼接缝处形成修复胶层，包括：
在所述拼接模块上形成抗粘层；
采用喷涂、打印或旋涂的方法在所述拼接缝处形成压印胶层。


3.根据权利要求2所述的纳米压印模板的拼接缝的修复方法，其特征在于，对所述修复胶层进行图形化处理以形成修复模块，包括：
采用压印模板对所述压印胶层进行压印，所述压印模板具有所述单元图案；
以所述压印模板的边界为界限，对所述压印胶层进行固化处理；
将所述压印模板与所述压印胶层分离以形成所述修复模块。


4.根据权利要求2-3中任一项所述的修复方法，其特征在于，在所述拼接模块上形成抗粘层，包括：
采用打印的方法在所述拼接模块的待处理区域形成所述抗粘层，所述待处理区域的边界与所述拼接缝的距离小于1微米。


5.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，所述修复胶层的材料包括光刻胶，至少在所述拼接缝处形成修复胶层，包括：
将所述光刻胶喷涂或打印在所述拼接缝处以形成光刻胶层。


6.根据权利要求5所述的修复方法，其特征在于，对所述修复胶层进行图形化处理以形成修复模块，包括：
控制飞秒激光在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：路彦辉，李多辉，周雪原，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11