光罩清洗系统及方法技术方案

一种光罩清洗系统及方法。光罩清洗方法包含旋转光罩、提供清洗液体以清洗光罩、在旋转光罩期间侦测光罩上的静电荷值以及根据侦测到的静电荷值来减少光罩上的静电荷。

Cleaning system and method of light cover

【技术实现步骤摘要】
光罩清洗系统及方法
本案是有关于一种清洗系统及方法，且特别是有关于一种光罩清洗系统及方法。
技术介绍
随着半导体集成电路(IntegratedCircuit/IC)工业不断朝着制造更复杂且更精密的半导体元件的方向发展，每一半导体中的电子部件的数量急剧增加，而同时其尺寸反而减小。此缩小过程实质上提供了多种益处，例如提高生产效率及降低制造成本。然而，制造的复杂性及难度的增加亦伴随这些益处。举例而言，通常用在半导体制造中的光微影制程的遮罩或光罩的微小缺陷亦可能导致半导体元件的效能的显著劣化。
技术实现思路
根据本案的一或多种实施方式，本案提供一种光罩清洗方法，其包含旋转光罩、提供清洗液体以清洗光罩、在旋转光罩期间侦测光罩上的静电荷值以及根据侦测到的静电荷值来减少光罩上的静电荷。根据本案的一或多种实施方式，本案再提供一种光罩清洗方法，其包含将光罩置放于外壳中的光罩固持器上、通过旋转器来旋转光罩、通过至少一个静电荷感测器来侦测光罩的顶表面的静电荷值以及当静电荷值超过预定范围时通过离子产生器朝向光罩的顶表面施放游离空气分子。...

【技术保护点】
1.一种光罩清洗方法，其特征在于，包含：/n旋转一光罩；/n提供一清洗液体以清洗该光罩；/n在旋转该光罩期间侦测该光罩上的一静电荷值；以及/n根据侦测到的该静电荷值来减少该光罩上的静电荷。/n

【技术特征摘要】
20180814 US 62/718,948;20181026 US 16/172,0751.一种光罩清洗方法，其特征在于，包含：
旋转一光罩；
提供一清洗液体以清洗该光罩；
在旋转该光罩期间侦测该光罩上的一静电荷值；以及
根据侦测到的该静电荷值来减少该光罩上的静电荷。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中减少该光罩上的该静电荷包含：
朝向该光罩提供一游离空气分子，其中该游离空气分子包含正空气离子、负空气离子或其的任意组合。


3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包含重复侦测该光罩上的该静电荷值以及根据侦测到的该静电荷值来减少该光罩上的该静电荷。


4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中减少该光罩上的该静电荷包含：
增加容置该光罩的一外壳中的一湿度。


5.一种光罩清洗方法，其特征在于，包含：
将一光罩置放于一外壳中的一光罩固持器上；
通过一旋转器来旋转该光罩；
通过至少一个静电荷感测器来侦测该光罩的一顶表面的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑威昌，廖啟宏，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71