抽吸装置制造方法及图纸

为了提供待抽吸材料的更稳定抽吸，该抽吸装置设置有：柱状主体(11)；平坦端面(12)，该端面形成在主体(11)上；凹部(13)，该凹部形成在端面(12)中；涡旋流形成装置，该涡旋流形成装置通过将流体排放到凹部(13)中来形成涡旋流，而生成负压并抽吸待抽吸材料；以及线性导槽(16)，该线性导槽沿着排放到凹部(13)中的流体流出凹部(13)的方向形成在端面(12)中。

Suction device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抽吸装置
本专利技术涉及一种在应用伯努利(Bernoulli)原理下向材料施加抽吸的装置。
技术介绍
近来，已经开发用于非接触式输送诸如半导体晶片或玻璃基板的板状构件的装置。例如，专利文献1公开了一种在应用伯努利原理下非接触式输送板状构件的装置。该装置包括向下侧敞开的圆柱形室。将流体供应到室中，以生成具有中心负压的涡旋流，该涡旋流对板状构件施加抽吸。从圆柱形室流出的流体使得装置与板状构件之间维持所设定的距离，从而使得能够由装置非接触式地输送板状构件。现有技术文献专利文献专利文献1：特开JP2005-51260A1号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的问题本专利技术鉴于该技术提出，并且目的在于提供一种抽吸装置，该抽吸装置能够以高度稳定的方式将构件保持在抽吸下。解决问题的手段为了解决上述问题，根据本专利技术的一种抽吸装置包括：圆柱形主体；端面，该端面形成在主体上；凹部，该凹部形成在端面中；流体流形成装置，该流体流形成装置用于通过将流体排放到凹部中形成放射流或在凹部中形成流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抽吸装置，该抽吸装置包括：/n圆柱形主体；/n端面，该端面形成在所述主体上；/n凹部，该凹部形成在所述端面中；/n流体流形成装置，该流体流形成装置用于通过将流体排放到所述凹部中形成放射流或在所述凹部中形成流体涡旋流，所述流体涡旋流或所述放射流生成向构件施加抽吸的负压；以及/n线性导槽，该导槽沿着排放到所述凹部中的所述流体流出所述凹部的方向形成在所述端面上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170920 JP 2017-1803841.一种抽吸装置，该抽吸装置包括：
圆柱形主体；
端面，该端面形成在所述主体上；
凹部，该凹部形成在所述端面中；
流体流形成装置，该流体流形成装置用于通过将流体排放到所述凹部中形成放射流或在所述凹部中形成流体涡旋流，所述流体涡旋流或所述放射流生成向构件施加抽吸的负压；以及
线性导槽，该导槽沿着排放到所述凹部中的所述流体流出所述凹部的方向形成在所述端面上。


2.根据权利要求1所述的抽吸装置，其中：
所述流体流形成装置是供所述流体排放到所述凹部中以形成所述流体涡旋流的流体通道；并且
当朝向所述端面观察时，所述导槽沿着相对于所述流体通道延伸方向形成大约45度角的方向形成在所述端面上。


3.根据权利要求1所述的抽吸装置，其中：
所述流体流形成装置是供所述流体排放到所述凹部中以形成所述放射流的流体通道；并且
当朝向所述端面观察时，所述导槽沿着与所述流体通道延伸方向大致平行的方向形成在所述端面上。


4.根据权利要求1至3中的任一项所述的抽吸装置，其中，所述导槽被形成为使得所述导槽的截面积与距所述凹部的距离成比例地增加。


5.根据权利要求1至3中的任一项所述的抽吸装置，其中，所述导槽被形成为使得所述导槽的截面积与距所述凹部的距离成比例地减小。


6.根据权利要求1至5中的任一项所述的抽吸装置，所述抽吸装置还包括设置在所述端面上的移动限制装置，该移动限制装置用于限制沿着由所述负压向其施加抽吸的所述构件的端面的移动。


7.根据权利要求6所述的抽吸装置，其中，所述移动限...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩坂齐，德永英幸，河西裕二，舆石克洋，田中秀光，小野浩彦，箕浦胜利，岩坂直然，
申请(专利权)人：哈莫技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP