【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜用真空箱
本专利技术创造属于磁控溅射镀膜设备领域，尤其是涉及一种磁控溅射镀膜用真空箱。
技术介绍
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用；磁控溅射镀膜是目前应用广泛的镀膜沉积工艺，镀膜过程需要在真空箱内进行，现有的密封性能好的真空箱开合起来十分麻烦，极大的影响了镀膜加工的效率，但普通的真空箱普遍不能很好的满足使用条件，密封性能较差，容易造成镀膜质量下降。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术创造旨在克服上述现有技术中存在的缺陷，提出一种磁控溅射镀膜用真空箱。为达到上述目的，本专利技术创造的技术方案是这样实现的：一种磁控溅射镀膜用真空箱，包括箱体和箱体上转动安装的门体，所...
【技术保护点】
1.一种磁控溅射镀膜用真空箱，其特征在于：包括箱体和箱体上转动安装的门体，所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构；所述门体边缘设有外裙板，箱体上对应外裙板设有内裙板，所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆；所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧，外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔，伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。/n
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜用真空箱，其特征在于：包括箱体和箱体上转动安装的门体，所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构；所述门体边缘设有外裙板，箱体上对应外裙板设有内裙板，所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆；所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧，外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔，伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱，其特征在于：所述外裙板通过加强板与门体连接。
3.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：王健，宁超，康万山，
申请(专利权)人：天津南玻节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12
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