一种显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术实施例涉及显示技术领域，公开了一种显示面板及其制备方法。本发明专利技术中的显示面板的制备方法，包括：提供基板；在基板上形成第一光刻胶层；对第一光刻胶层进行第一次曝光处理以及第一次显影处理，去除第一区域的第一光刻胶层，形成图形化的第一光刻胶层；在基板和图形化的第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；对第二光刻胶层进行第二次曝光处理以及第二次显影处理，去除第二区域的第二光刻胶层，形成图形化的第二光刻胶层，其中，第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影至少部分重叠。本发明专利技术的实施例还提供了一种显示面板。本发明专利技术提供的显示面板及其制备方法，能够改善有机胶残留，提高器件性能。

A display panel and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法
本专利技术实施例涉及显示
，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
OLED(organiclightemittingdiode，有机发光二极管)具有自发光、低能耗、宽视角、色彩丰富、快速响应等优良特性，因此，引起了科研界和产业界的极大兴趣，被认为是极具潜力的下一代技术。OLED显示面板在制备过程中需经过很多工艺流程，例如，针对薄膜晶体管(ThinFilmTransistor：TFT)驱动工艺流程，在金属膜层和无机膜层制程后，通常需进行图形化处理，即光刻工艺。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：由于膜层表面存在微粒或光刻工艺过程中微粒掉落等因素影响，容易引起图形化异常，即有机胶残留现象，进而引发器件性能不良。
技术实现思路
本专利技术实施方式的目的在于提供一种显示面板的制备方法，能够改善有机胶残留，提高器件性能。为解决上述技术问题，本专利技术的实施方式提供了一种显示面板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成第一光刻胶层；对所述第一光刻胶层进行第一次曝光处理以及第一次显影处理，去除第一区域的第一光刻胶层，形成图形化的第一光刻胶层；在所述基板和所述图形化的第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；对所述第二光刻胶层进行第二次曝光处理以及第二次显影处理，去除第二区域的第二光刻胶层，形成图形化的第二光刻胶层，其中，所述第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影至少部分重叠。本专利技术的实施方式还提供了一种显示面板，包括：如上述的显示面板的制备方法制备而成。本专利技术实施方式相对于现有技术而言，通过在所述基板和所述图形化的第一光刻胶层上形成第二光刻胶层，利用第二光刻胶层将第一光刻胶层遗留的残胶粘接，从而在对所述第二光刻胶层进行第二次曝光处理以及第二次显影处理以形成图形化的第二光刻胶层的过程中，能够在去除第二区域的第二光刻胶层时、顺带将残胶去除，从而实现残胶的去除，提高器件性能。另外，所述第二光刻胶层的厚度小于所述第一光刻胶层的厚度。由于第二光刻胶层比第一光刻胶层的厚度更薄，第一光刻胶层遗留的残胶在第二次显影过程中与显影液之间的距离更近，残胶更易被溶解，进一步减少了残胶的遗留。另外，所述第一区域在所述基板上的正投影位于所述第二区域在所述基板上的正投影内部；优选的，所述第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影完全重叠。另外，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层均为正性光刻胶、或所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层均为负性光刻胶。如此设置，能够避免在对第二光刻胶层的第二次曝光处理和第二次显影处理过程中、改变第一光刻胶层的图案，使得第一光刻胶层的可靠性更好，进而提高了器件的精度。另外，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层中一者为正性光刻胶、另一者为负性光刻胶；优选的，所述第一光刻胶层为负性光刻胶，所述第二光刻胶层为正性光刻胶。由于所述第一光刻胶层为负性光刻胶，第一光刻胶层形成的残胶部分在第一次曝光处理过程中并未被曝光而改变性质，其与第二光刻胶层的性质相同，从而能够更好的与第二光刻胶层融合在一起，更易于与第二区域的第二光刻胶层一起被去除掉。另外，所述形成图形化的第二光刻胶层之后，还包括：检测所述第二区域是否存在光刻胶残留；若是，在所述基板和所述图形化的第二光刻胶层上形成第三光刻胶层；对所述第三光刻胶层进行第三次曝光处理以及第三次显影处理，去除第三区域的第三光刻胶层，形成图形化的第三光刻胶层，其中，所述第三区域在所述基板上的正投影与所述第二区域在所述基板上的正投影完全重叠；优选的，所述第三光刻胶层的厚度小于所述第二光刻胶层的厚度。如此设置，能够改善第二光刻胶层留下残胶，进一步改善器件性能。另外，所述形成图形化的第二光刻胶层之后，还包括：以所述图形化的第二光刻胶层和所述图形化的第一光刻胶层为掩膜，刻蚀所述基板。由于第二光刻胶层改善了有机胶残留的问题，使得所述基板的刻蚀精度显著提高，同时，通过形成叠设的图形化的第一光刻胶层和图形化的第二光刻胶层，使得在保留光刻胶胶的区域(未被显影去除的区域)积累了足够的厚度，使得在蚀刻工艺中能够更好的保护位于其下方的膜层不被蚀刻掉，提高了器件的精度。另外，形成所述第二光刻胶层的胶体的粘度大于形成所述第一光刻胶层的胶体的粘度。由于形成所述第二光刻胶层的胶体的粘度大于形成所述第一光刻胶层的胶体的粘度，从而能够将第一光刻胶层遗留的残胶很好的粘住，有利于去除第一次光刻胶层遗留的残胶，同时，由于第二光刻胶层厚度更薄，从而即使形成所述第一光刻胶层的胶体的粘度较大，在显影处理过程中也能够较容易的从基板上去除。另外，所述第一光刻胶层的厚度范围为1.5微米至2.0微米，所述第二光刻胶层的厚度范围为0.2微米至0.5微米。附图说明一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。图1是本专利技术第一实施方式中的显示面板的制备方法的流程图；图2a、图2b、图2c、图2d、图2e、图2f、图2g分别是本专利技术第一实施方式中的显示面板的制备方法中各步骤的结构示意图；图3是本专利技术第二实施方式中的显示面板的制备方法的流程图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本专利技术各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。本专利技术的第一实施方式涉及一种显示面板的制备方法，本实施方式的核心在于，显示面板的制备方法包括以下步骤：提供基板11；在基板11上形成第一光刻胶层12；对第一光刻胶层12进行第一次曝光处理以及第一次显影处理，去除第一区域的第一光刻胶层12，形成图形化的第一光刻胶层121；在基板11和图形化的第一光刻胶层121上形成第二光刻胶层13；对第二光刻胶层13进行第二次曝光处理以及第二次显影处理，去除第二区域的第二光刻胶层13，形成图形化的第二光刻胶层131，其中，第二区域在基板11上的正投影与第一区域在基板11上的正投影至少部分重叠。通过在基板11和图形化的第一光刻胶层121上形成第二光刻胶层13，利用第二光刻胶层13将第一光刻胶层12遗留的残胶粘接，从而在对第二光刻胶层13进行曝光处理以及显影处理中，能够在去除第二区域的第二光刻胶层13时、顺带将残胶去除，从而实现残胶的去除，提高器件性能。下面对本实施方式的显示面板的制备方法的实现细节进行具体的说明，以下内容仅为方便理解提供的实现细节，并非实施本方案的必须。本实施方式中的显示面板的制备方法，具体流程如图1所示，具体包括以下步骤：S11：提供基板。如图2a所示，在本步骤中，基板11可以包括衬底1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：/n提供基板；/n在所述基板上形成第一光刻胶层；/n对所述第一光刻胶层进行第一次曝光处理以及第一次显影处理，去除第一区域的第一光刻胶层，形成图形化的第一光刻胶层；/n在所述基板和所述图形化的第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；/n对所述第二光刻胶层进行第二次曝光处理以及第二次显影处理，去除第二区域的第二光刻胶层，形成图形化的第二光刻胶层，其中，所述第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影至少部分重叠。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板上形成第一光刻胶层；
对所述第一光刻胶层进行第一次曝光处理以及第一次显影处理，去除第一区域的第一光刻胶层，形成图形化的第一光刻胶层；
在所述基板和所述图形化的第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；
对所述第二光刻胶层进行第二次曝光处理以及第二次显影处理，去除第二区域的第二光刻胶层，形成图形化的第二光刻胶层，其中，所述第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影至少部分重叠。


2.根据权利要求1所述的所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二光刻胶层的厚度小于所述第一光刻胶层的厚度。


3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一区域在所述基板上的正投影位于所述第二区域在所述基板上的正投影内部；
优选的，所述第二区域在所述基板上的正投影与所述第一区域在所述基板上的正投影完全重叠。


4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层均为正性光刻胶、或所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层均为负性光刻胶。


5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层中一者为正性光刻胶、另一者为负性光刻胶；
优选的，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄振，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13