一种新型高温氧化炉制造技术

本实用新型专利技术提供一种新型高温氧化炉，包括机柜，所述机柜内部上侧安装腔体，所述腔体内部安装高温加热器，所述腔体下端面安装真空过渡腔，所述腔体外表面安装真空管道一，所述真空管道一另一端安装真空阀一，所述真空过渡腔外表面安装真空管道二，所述真空管道二另一端安装真空阀二，所述真空阀二通过管道连接分子泵抽气口上，所述真空管道二外表面安装压力传感器二和压力传感器三，且真空管道二上安装进气接头，所述进气接头通过管道连接气路系统，所述气路系统内安装压力控制器，与现有技术相比，本实用新型专利技术具有如下的有益效果：实现自动补充工艺气体，将工艺内腔的压力稳定的控制在所需要的工艺压力上。

【技术实现步骤摘要】
一种新型高温氧化炉
本技术是一种新型高温氧化炉，属于高温氧化炉设备领域。
技术介绍
高温氧化炉用于半导体器件、材料等不同工艺尺寸的高温氧化、激活等工艺。目前，高温氧化炉缺乏工艺内腔自动补气功能，工艺内腔工艺压力值不稳定，影响工艺片的加工质量。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种新型高温氧化炉，以解决上述
技术介绍
中提出高温氧化炉缺乏工艺内腔自动补气功能，工艺内腔工艺压力值不稳定，影响工艺片的加工质量的问题，本技术实现自动补充工艺气体，将工艺内腔的压力稳定的控制在所需要的工艺压力上。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种新型高温氧化炉，包括机柜，所述机柜内部上侧安装腔体，所述腔体内部安装高温加热器，所述高温加热器内安装密封内衬管，所述腔体下端面安装真空过渡腔，所述密封内衬管下端延伸至真空过渡腔内，所述腔体外表面安装真空管道一，所述真空管道一另一端安装真空阀一，所述真空阀一通过管道连接真空泵一，所述真空管道一外表面安装压力传感器一，所述真空过渡腔外表面安装真空管道二，所述真空管道二另一端安装真空阀二，所述真空阀二通过管道连接分子泵抽气口上，所述分子泵出气口通过真空管道三连接真空泵二，所述真空管道二外表面安装压力传感器二和压力传感器三，且真空管道二上安装进气接头，所述进气接头通过管道连接气路系统，所述气路系统内安装压力控制器，所述压力控制器输入端通过数据线连接上位机输出端，所述压力传感器一输出端、压力传感器二输出端以及压力传感器三输出端均通过数据线与上位机输入端相连接。进一步地，所述腔体外表面安装对接管一，所述对接管一另一端外表面焊接法兰一，所述真空管道一远离真空阀一的一端焊接法兰二，所述法兰一通过螺栓与法兰二固定连接。进一步地，所述真空过渡腔外表面安装对接管二，所述对接管二另一端外表面焊接法兰三，所述真空管道二远离真空阀二的一端焊接法兰四，所述法兰三通过螺栓与法兰四固定连接。进一步地，所述进气接头与压力控制器之间安装有隔膜阀。本技术的有益效果：本技术根据上位机设定的工艺压力设定值与压力传感器三实际测量值的比较，压力控制器自动对工艺内腔进行补气，使工艺内腔压力值稳定控制在工艺压力上，避免出现工艺内腔压力不稳的情况。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本技术一种新型高温氧化炉的结构示意图；图2为本技术一种新型高温氧化炉中气路系统的结构示意图；图3为本技术一种新型高温氧化炉中压力控制原理框图；图中：1-机柜、2-腔体、3-高温加热器、4-密封内衬管、5-真空过渡腔、6-真空管道一、7-压力传感器一、8-进气接头、9-压力传感器二、10-压力传感器三、11-真空管道二、12-分子泵、13-真空管道三、14-真空阀一、15-真空泵一、16-真空泵二、17-真空阀二、18-压力控制器、19-气路系统、20-上位机。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。请参阅图1至图3，本技术提供一种技术方案：一种新型高温氧化炉，包括机柜1，机柜1内部上侧安装腔体2，腔体2内部安装高温加热器3，高温加热器3内安装密封内衬管4，腔体2下端面安装真空过渡腔5，密封内衬管4下端延伸至真空过渡腔5内，腔体2外表面安装真空管道一6，真空管道一6另一端安装真空阀一14，真空阀一14通过管道连接真空泵一15，真空管道一6外表面安装压力传感器一7，在真空管道一6上安装有压力传感器一7，用于测量腔体2内的真空度，在工艺进行时，通过真空泵一15对腔体2单独进行抽真空，以保证腔体2内的真空度，避免高温加热器3出现氧化情况，真空过渡腔5外表面安装真空管道二11，真空管道二11另一端安装真空阀二17，真空阀二17通过管道连接分子泵12抽气口上，分子泵12出气口通过真空管道三13连接真空泵二16，真空管道二11外表面安装压力传感器二9和压力传感器三10，且真空管道二11上安装进气接头8，在真空管道二11上安装压力传感器二9和压力传感器三10，用于测量真空过渡腔5内的真空度，通过真空泵二16和分子泵12对真空过渡腔5和密封内衬管4进行抽真空，使真空过渡腔5和密封内衬管4的本底真空度＜1.0×10-3Pa，进气接头8通过管道连接气路系统19，气路系统19内安装压力控制器18，压力控制器18输入端通过数据线连接上位机20输出端，压力传感器一7输出端、压力传感器二9输出端以及压力传感器三10输出端均通过数据线与上位机20输入端相连接，真空管道二11上安装有进气接头8，进气接头8通过管道连接到气路系统19，在气路系统19上，安装压力控制器18，根据上位机20设定的工艺压力设定值与压力传感器三10实际测量值的比较，压力控制器18自动对真空过渡腔5和密封内衬管4进行补气，使真空过渡腔5和密封内衬管4的压力值稳定控制在工艺压力上。作为本技术的一个实施例：腔体2外表面安装对接管一，对接管一另一端外表面焊接法兰一，真空管道一6远离真空阀一14的一端焊接法兰二，法兰一通过螺栓与法兰二固定连接，通过将法兰一和法兰二固定连接，完成对接管一与真空管道一6的固定连接。作为本技术的一个实施例：真空过渡腔5外表面安装对接管二，对接管二另一端外表面焊接法兰三，真空管道二11远离真空阀二17的一端焊接法兰四，法兰三通过螺栓与法兰四固定连接，通过将法兰三和法兰四固定连接，完成对接管二与真空管道二11的固定连接。作为本技术的一个实施例：进气接头8与压力控制器18之间安装有隔膜阀，隔膜阀的设计起到阻隔工艺气体的作用。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术作任何形式上的限制，虽然本技术已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本技术技术方案范围内，当可利用上述揭示的
技术实现思路
作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本技术技术方案的内容，依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型高温氧化炉，包括机柜，其特征在于：所述机柜内部上侧安装腔体，所述腔体内部安装高温加热器，所述高温加热器内安装密封内衬管，所述腔体下端面安装真空过渡腔，所述密封内衬管下端延伸至真空过渡腔内，所述腔体外表面安装真空管道一，所述真空管道一另一端安装真空阀一，所述真空阀一通过管道连接真空泵一，所述真空管道一外表面安装压力传感器一，所述真空过渡腔外表面安装真空管道二，所述真空管道二另一端安装真空阀二，所述真空阀二通过管道连接分子泵抽气口上，所述分子泵出气口通过真空管道三连接真空泵二，所述真空管道二外表面安装压力传感器二和压力传感器三，且真空管道二上安装进气接头，所述进气接头通过管道连接气路系统，所述气路系统内安装压力控制器，所述压力控制器输入端通过数据线连接上位机输出端，所述压力传感器一输出端、压力传感器二输出端以及压力传感器三输出端均通过数据线与上位机输入端相连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型高温氧化炉，包括机柜，其特征在于：所述机柜内部上侧安装腔体，所述腔体内部安装高温加热器，所述高温加热器内安装密封内衬管，所述腔体下端面安装真空过渡腔，所述密封内衬管下端延伸至真空过渡腔内，所述腔体外表面安装真空管道一，所述真空管道一另一端安装真空阀一，所述真空阀一通过管道连接真空泵一，所述真空管道一外表面安装压力传感器一，所述真空过渡腔外表面安装真空管道二，所述真空管道二另一端安装真空阀二，所述真空阀二通过管道连接分子泵抽气口上，所述分子泵出气口通过真空管道三连接真空泵二，所述真空管道二外表面安装压力传感器二和压力传感器三，且真空管道二上安装进气接头，所述进气接头通过管道连接气路系统，所述气路系统内安装压力控制器，所述压力控制器输入端通过数据线连接上位机输出...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，
申请(专利权)人：青岛华旗科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37