【技术实现步骤摘要】
本技术涉及提拉偏移装置，特别是涉及一种提拉偏移机构。
技术介绍
1、晶体生长设备用于处理半导体材料如磷化铟、氮化铝等材料的高压生长工艺。由于是高压设备，所以工艺腔室非常厚重的，目前同类产品中，在进行装卸料操作时，需要将上法兰的锁紧打开后再升上去，但始终还是在工艺腔的正上方，操作人员在取放料时很危险。由于高压腔的上法兰升高后位于工艺腔正上方，在对工艺腔内部进行保养维护时也是极不方便，且危险性极大。
技术实现思路
1、本技术所要解决的技术问题是在进行装卸料操作时，需要将上法兰的锁紧打开后再升上去，但始终还是在工艺腔的正上方，操作人员在取放料时很危险。由于高压腔的上法兰升高后位于工艺腔正上方，在对工艺腔内部进行保养维护时也是极不方便，且危险性极大。
2、为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：提供一种提拉偏移机构，包括底部支撑框架组件、旋转电机和液压轴，所述底部支撑框架组件上端安装有腔体，所述腔体上端安装有腔体上盖，所述上盖上端安装有提拉支撑架，所述提拉支撑架侧端安装有上支撑...
【技术保护点】
1.一种提拉偏移机构，包括底部支撑框架组件(1)、旋转电机(15)和液压轴(12)，其特征在于：所述底部支撑框架组件(1)上端安装有腔体(2)，所述腔体(2)上端安装有腔体上盖(3)，所述上盖(3)上端安装有提拉支撑架(4)，所述提拉支撑架(4)侧端安装有上支撑框架(5)，所述提拉支撑架(4)上端安装有顶部升降装置(6)；
2.根据权利要求1所述的一种提拉偏移机构，其特征在于：所述下支撑框架(7)上端安装有支撑臂法兰(10)，所述上支撑框架(5)下端安装有轴承(11)。
3.根据权利要求2所述的一种提拉偏移机构，其特征在于：所述液压轴(12)上...
【技术特征摘要】
1.一种提拉偏移机构，包括底部支撑框架组件(1)、旋转电机(15)和液压轴(12)，其特征在于：所述底部支撑框架组件(1)上端安装有腔体(2)，所述腔体(2)上端安装有腔体上盖(3)，所述上盖(3)上端安装有提拉支撑架(4)，所述提拉支撑架(4)侧端安装有上支撑框架(5)，所述提拉支撑架(4)上端安装有顶部升降装置(6)；
2.根据权利要求1所述的一种提拉偏移机构，其特征在于：所述下支撑框架(7)上端安装有支撑臂法兰(10)，所述上支撑框架(5)下端安装有轴承(11)。
3.根据权利要求2所述的一种提拉偏移机构，其特征在于：所述液压轴(12)上端穿过支撑臂...
【专利技术属性】
技术研发人员：李强，姜洪斌，陈学超，
申请(专利权)人：青岛华旗科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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