一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，真空腔门上安装有悬臂桨，悬臂桨上放置有石英舟，真空腔门通过第一密封圈与进气法兰密封，进气法兰通过标准件与进气水套法兰连接，在进气法兰和进气水套法兰左端设置有石英反应腔，石英反应腔另外一端穿过抽气水套法兰和抽气法兰，石英反应腔外壁通过第二密封圈与抽气法兰和抽气水套法兰密封，抽气法兰左端面通过第三密封圈与真空管道连接，真空管道另外一侧连接真空机组，进气法兰的进气口连接有供气气路管路，供气气路管路另一端连接供气系统,在实际使用的时候，石英舟前侧和后的产品片都可以均匀高效的与工艺气体接触，使得产品片沉积薄膜的均匀性达到一致性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置


[0001]本技术涉及一种半导体材料的低压化学气相沉淀工艺设备，尤其一种低压化学气相沉淀工艺设备的新型进气喷管装置。

技术介绍

[0002]低压化学气相沉积（LPCVD）系统用于集成电路、分立器件、MEMS等不同尺寸晶圆的薄膜沉积及掺杂等工艺。
[0003]目前国内厂家生产的同类产品中，通用型设备在工艺生长过程中，往反应腔内通入工艺气体比较单一，一般选择由进气法兰进行通气，进入反应腔内的工艺气体分布非常不均匀，导致产品片做出来的效果不好，片内均匀性很差，大大影响产品的生产合格率。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]本技术通过以下的技术方案实现：一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，包括石英反应腔、石英舟、悬臂桨、真空腔门、进气法兰、进气水套法兰、第一进气喷管、第二进气喷管、抽气水套法兰、抽气法兰、第四密封圈、真空管道、真空机组、供气气路管路、供气系统本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，包括石英反应腔、石英舟、悬臂桨、真空腔门、进气法兰、进气水套法兰、第一进气喷管、第二进气喷管、抽气水套法兰、抽气法兰、第四密封圈、真空管道、真空机组、供气气路管路、供气系统，其特征在于，所述真空腔门上安装有悬臂桨，所述悬臂桨上放置有石英舟，真空腔门通过第一密封圈与进气法兰密封，所述进气法兰通过标准件与进气水套法兰连接，在所述进气法兰和进气水套法兰左端设置有石英反应腔，所述石英反应腔另外一端穿过抽气水套法兰和抽气法兰，石英反应腔外壁通过第二密封圈与抽气法兰和抽气水套法兰密封，所述抽气法兰左端面通过第三密封圈与真空管道连接，所述真空管道另外一侧连接真空机组，进气法兰的进气口连接有供气气路管路，所述供气气路管路另一端连接供气系统。2.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，姜洪斌，李强，
申请(专利权)人：青岛华旗科技有限公司，
类型：新型
国别省市：