【技术实现步骤摘要】
用于镀膜设备的气流导散装置及其应用
本专利技术涉及镀膜领域，进一步涉及一用于镀膜设备的气流导散装置及其应用。
技术介绍
近年来，随着科技的发展，镀膜工艺作为提升材料表面性能有效方法被广泛地应用于航空航天、汽车制造、机械重工、五金工具制造、电子设备制造、织物制造等领域。一般来说，利用等离子体化学气相沉积技术的镀膜工艺中，基材需被置入一镀膜设备的真空腔室内，镀膜时真空系统将该镀膜设备的腔室被抽成真空状态。之后持续地通入工艺气体如氮气或氩气等惰性气体和化学气体单体原料，并通过放电提供等离子环境激活化学单体材料，将被激活的化学单体材料用于在该基材的表面生成聚合物膜层。为了提高沉积速率，在镀膜的整个过程中腔室内始终维持在较低的压力下。由于整个镀膜过程中需要持续地对该镀膜设备的腔室进行抽气，且该镀膜设备的该腔室的抽气口、进气口以及进料口的位置是固定的，因此，在压力作用下，在该腔室内，化学气体单体从该进料口向该抽气口方向扩散的趋势，从而导致化学气体单体在进料口区域和扩散方向区域的浓度相对该腔室内的其他区域明显较大。另外，气...
【技术保护点】
1.一用于一镀膜设备的气流导散装置，其特征在于，其中所述气流导散装置形成一安装腔以供安装该镀膜设备的一支架，其中所述气流导散装置具有一气流导散面和位于所述气流导散面的沿圆周方向布置的多个通孔，以供被充入该镀膜设备的腔室的气体中的部分气体穿过所述通孔进入所述安装腔，以使气体尽可能均匀地扩散至被安装于该支架的基材的表面。/n
【技术特征摘要】
1.一用于一镀膜设备的气流导散装置，其特征在于，其中所述气流导散装置形成一安装腔以供安装该镀膜设备的一支架，其中所述气流导散装置具有一气流导散面和位于所述气流导散面的沿圆周方向布置的多个通孔，以供被充入该镀膜设备的腔室的气体中的部分气体穿过所述通孔进入所述安装腔，以使气体尽可能均匀地扩散至被安装于该支架的基材的表面。
2.根据权利要求1所述的气流导散装置，所述气流导散装置还具有连通于所述安装腔的上下二通口，以供被充入该镀膜设备的腔室的气体中的其余部分气体沿所述气流导散面的延伸方向扩散并从所述通口进入所述安装腔。
3.根据权利要求1所述的气流导散装置，其中所述气流导散装置包括一高端部、一中端部以及一低端部，其中所述高端部、所述中端部以及所述低端部依次一体连接形成所述气流导散面，其中位于所述中端部的所述通孔的数量分别大于位于所述气流导散面的所述高端部和所述低端部的所述通孔的数量。
4.根据权利要求1所述的气流导散装置，其中所述气流导散装置包括一高端部、一中端部以及一低端部，其中所述高端部、所述中端部以及所述低端部依次一体连接形成所述气流导散面，其中位于所述中端部的所述通孔的孔径分别大于位于所述气流导散面的所述高端部和所述低端部的所述通孔的孔径。
5.根据权利要求3或4所述的气流导散装置，其中位于所述高端部的所述通孔与位于所述低端部的所述通孔的数量和孔径均一致。
6.根据权利要求1至2中任一所述的气流导散装置，其中所述气流导散装置的首尾粘接连接在一起并形成一筒形结构。
7.根据权利要求1至2中任一所述的气流导散装置，其中所述气流导散装置进一步包括一第一径向遮蔽件，其中所述第一径向遮蔽件沿所述气流导散装置的顶端径向向内延伸并形成所述通口。
8.根据权利要求7所述的气流导散装置，其中所述高端部具有至少一连接件，其中所述连接件与所述第一径向遮蔽件粘接连接。
9.根据权利要求7所述气流导散装置，其中所述第一径向遮蔽件被实施为具有径向宽度的环形结构。
10.根据权利要求7所述的气流导散装置，其中所述气流导散装置进一步包括一第二径向遮蔽件，其中所述第二径向遮蔽件被可拆卸地安装于所述气流导散装置的底端，其中所述第二径向遮蔽件沿所述气流导散装置的底端径向向内延伸并形成所述通口。
11.根据权利要求10所述的气流导散装置，其中所述第二径向遮蔽件包括一径向延伸部和一连接部，其中所述连接部垂直连接于所述径向延伸部，其中所述连接部适于安装于所述气流导散装置的底端，其中所述径向延伸部沿所述气流导散装置的底端径向向内延伸。
12.根据权利要求6所述的气流导散装置，其中所述第二径向遮蔽件与所述第一径向遮蔽件的径向宽度相等。
13.一镀膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，张琳，赵天祥，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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