掩膜版及滤光基板的制造方法技术

一种掩膜版及滤光基板的制造方法，其中掩膜版包括：基板；位于基板上的挡光层，所述挡光层包括不透光区域、第一图案区域和第二图案区域，第一图案区域和第二图案区域分立，所述第一图案区域被不透光区域包围，且第二图案区域被不透光区域包围，所述第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱；所述第二图案区域包括第一子区和第二子区，第一子区包围第二子区，第一子区部分透光，第二子区全透光。采用所述掩膜版对光阻层进行曝光，使得副间隔柱的支撑性能提高。

Manufacturing method of mask and filter substrate

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及滤光基板的制造方法
本专利技术涉及液晶显示领域，尤其涉及一种掩膜版及滤光基板的制造方法。
技术介绍
近年来，随着信息通讯领域的发展，对各种类型的显示设备的需求越来越大。目前，主流的显示装置包括：液晶显示器、等离子体显示器、电致发光显示器和真空荧光显示器等。由于液晶显示器具有轻、薄、体积小、耗电小、辐射低等优点，被广泛应用于各种数据处理设备中，例如电视、笔记本、移动电话、个人数字助理等。液晶显示器主要包括：TFT阵列基板、彩色滤光基板、TFT阵列基板和彩色滤光基板之间的液晶层。所述TFT阵列基板和彩色滤光基板上的电极通过控制液晶分子的偏转，以调节外界光的通过率，进而达到显示的目的。其中，彩色滤光基板上具有间隔柱，所述间隔柱用于保持TFT阵列基板和彩色滤光基板之间的距离均匀性，所述间隔柱包括主间隔柱和副间隔柱。然而，现有的彩色滤光基板的副间隔柱的支撑性能有待提高。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种掩膜版及滤光基板的制造方法，以提高副间隔柱的支撑性能。为解决上述问题，本专利技术提供一种用于形成滤光基板的掩膜版，包括：基板；位于基板上的挡光层，所述挡光层包括不透光区域、第一图案区域和第二图案区域，第一图案区域和第二图案区域分立，所述第一图案区域被不透光区域包围，且第二图案区域被不透光区域包围，所述第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱；所述第二图案区域包括第一子区和第二子区，第一子区包围第二子区，第一子区部分透光，第二子区全透光。可选的，所述第二子区具有特征尺寸，所述第二子区的特征尺寸为1微米～5微米；所述第二子区的边缘至所述第二图案区域的边缘之间的最小距离大于等于8微米；所述第二子区的总面积为所述第一子区的总面积的1％～10％。可选的，所述第二子区为环状结构，所述第二子区的中心与所述第二图案区域的中心重合。可选的，所述环状结构为多边环或圆环。可选的，所述多边环包括偶数边环。可选的，在每个第二图案区域中，第二子区的数量为一个。可选的，在每个第二图案区域中，第二子区的数量为多个，各第二子区相互分立，一个第二子区套设在另一个第二子区的外围。可选的，各个第二子区之间的距离为4um～16um。可选的，所述第二子区为多边形或圆形。可选的，在每个第二图案区域中，所述第二子区的数量为一个，所述第二子区的中心与所述第二图案区域的中心重合。可选的，在每个第二图案区域中，所述第二子区的数量为多个，各第二子区相互分立，所述第二子区沿着第二图案区域的周向均匀分布。可选的，所述第二子区均为开口结构；所述第一图案区域均为开口结构。本专利技术还提供一种滤光基板的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成遮光图案层和滤光层；在所述基底、遮光图案层和滤光层上形成光阻层；采用上述任意一项所述的掩膜版对所述光阻层进行光刻，使所述光阻层形成主间隔柱和副间隔柱，所述主间隔柱的位置对应所述第一图案区域，所述副间隔柱的位置对应所述第二图案区域。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：本专利技术技术方案提供的掩膜版中，第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，第二图案区域包括第一子区和第二子区，第一子区部分透光，第二子区全透光，所述第二图案区域用于形成副间隔柱，因此副间隔柱对应的曝光量小于主间隔柱对应的曝光量，使副间隔柱的高度低于主间隔柱的高度。所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度。所述主间隔柱和副间隔柱使得滤光板与TFT阵列基板之间具有足够的空间注入一定量的液晶。所述主间隔柱用于保持常规的力学性能，所述副间隔柱用于当显示屏受到超常规压力时，起到支撑作用。尽管在副间隔柱对应的曝光量不足的情况下，受到光的波动性的影响，副间隔柱中边缘区域对应的曝光量大于中间区域对应的曝光量，但是由于第二图案区域包括第二子区，而第二子区全透光，因此通过第二子区的光经过衍射后能够增强对第二图案区域的曝光量，那么使得副间隔柱中边缘区域对应的曝光量与中间区域对应的曝光量的差别减小，这样避免副间隔柱中边缘区域的高度大于中间区域的高度。综上，使得副间隔柱的支撑性能提高，表现在：当显示屏受到超常规压力时，副间隔柱用于支撑的面积较大，提高抗压性能，避免显示屏光学性能降低。本专利技术技术方案提供的滤光基板的制造方法中，采用上述掩膜版对所述光阻层进行光刻，使所述光阻层形成主间隔柱和副间隔柱，所述主间隔柱的位置对应所述第一图案区域，所述副间隔柱的位置对应所述第二图案区域。所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度，且提高了副间隔柱的支撑性能。附图说明图1是一种彩色滤光基板的结构示意图；图2至图7是本专利技术一实施例中用于形成滤光基板的掩膜版的结构示意图；图8至图9是本专利技术一实施例中滤光基板形成过程的结构示意图。具体实施方式正如
技术介绍
所述，现有的彩色滤光基板的副间隔柱的支撑性能有待提高。一种彩色滤光基板，参考图1，包括：透明玻璃基板100；位于透明玻璃基板100上的遮光图案层(BM)110、位于遮光图案层110和透明玻璃基板100上的滤光层(RGB层)120，滤光层120覆盖在遮光图案层110的开口区域内，且滤光层120与遮光图案层110有重叠；位于滤光层120和遮光图案层110上的平坦层130；位于平坦层130上的具有段差的主间隔柱140和副间隔柱150。所述主间隔柱140的高度大于所述副间隔柱150的高度。所述主间隔柱140和副间隔柱150使得滤光板与TFT阵列基板之间具有足够的空间注入一定量的液晶。所述主间隔柱140用于保持常规的力学性能。所述副间隔柱150用于当显示屏受到超常规压力时，起到支撑作用。目前，用于形成彩色滤光基板的掩膜版，对应主间隔柱140的曝光区域为全透光的，对应副间隔柱150的曝光区域为部分透光的。这样设置的目的是：副间隔柱150对应的曝光量小于主间隔柱140对应的曝光量，使副间隔柱150的高度低于主间隔柱140的高度。由于光的波动性的影响，因此副间隔柱150中边缘区域对应的曝光量大于中间区域对应的曝光量。在上述副间隔柱150对应的曝光量不足的情况下，副间隔柱150中边缘区域相对于中间区域对应的曝光量之差较大。而曝光量越大，副间隔柱150的高度越大，因此导致副间隔柱150中边缘区域的高度大于中间区域的高度，副间隔柱150的形状呈现中间低四周高的现象。而该形状的副间隔柱150的支撑性能较差，表现在：当显示屏受到超常规压力时，副间隔柱150用于支撑的面积较小，抗压性能降低，容易使显示屏光学性能降低。在此基础上，本专利技术提供一种用于形成滤光基板的掩膜版，包括：基板；位于基板上的挡光层，所述挡光层包括不透光区域、第一图案区域和第二图案区域，第一图案区域和第二图案区域分立，所述第一图案区域被不透光区域包围，且第二图案区域被不透光区域包围，所述第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于形成滤光基板的掩膜版，其特征在于，包括：/n基板；/n位于基板上的挡光层，所述挡光层包括不透光区域、第一图案区域和第二图案区域，第一图案区域和第二图案区域分立，所述第一图案区域被不透光区域包围，且第二图案区域被不透光区域包围，所述第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱；/n所述第二图案区域包括第一子区和第二子区，第一子区包围第二子区，第一子区部分透光，第二子区全透光。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于形成滤光基板的掩膜版，其特征在于，包括：
基板；
位于基板上的挡光层，所述挡光层包括不透光区域、第一图案区域和第二图案区域，第一图案区域和第二图案区域分立，所述第一图案区域被不透光区域包围，且第二图案区域被不透光区域包围，所述第一图案区域全透光，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱；
所述第二图案区域包括第一子区和第二子区，第一子区包围第二子区，第一子区部分透光，第二子区全透光。


2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子区具有特征尺寸，所述第二子区的特征尺寸为1微米～5微米；所述第二子区的边缘至所述第二图案区域的边缘之间的最小距离大于等于8微米；所述第二子区的总面积为所述第一子区的总面积的1％～10％。


3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子区为环状结构，所述第二子区的中心与所述第二图案区域的中心重合。


4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述环状结构为多边环或圆环。


5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述多边环包括偶数边环。


6.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，在每个第二图案区域中，第二子区的数量为一个。


7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：王达兴，王菁晶，徐广军，范刚洪，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31