一种防溅罩及化学机械抛光机台制造技术

本发明专利技术公开了一种防溅罩及化学机械抛光机台，属于半导体制造技术领域，所述防溅罩环绕工作机台设置，用于阻挡所述工作机台甩溅出来的液体，所述防溅罩由多个罩部件组成，每个所述罩部件固定安装于一升降台；所述升降台连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述升降台上下运动。化学机械抛光机台应用了如上所述的防溅罩。本发明专利技术通过将一体式防溅罩改为组合式防溅罩，从而大大降低了对各个驱动装置同步性的要求，且当个别驱动装置发生故障不能正常升起或下降时，不会对整个防溅罩产生扯拽，进而也不会影响到其他正常工作的驱动装置，组合式防溅罩的设计可以仅仅针对损坏的罩部件进行更换，节约了维修费用。

A splash proof cover and a chemical mechanical polishing machine

【技术实现步骤摘要】
一种防溅罩及化学机械抛光机台
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种防溅罩及化学机械抛光机台。
技术介绍
化学机械抛光(CMP)工艺又称化学机械平坦化工艺或化学机械研磨工艺，是目前主流的抛光工艺，用于降低晶圆表面粗糙度或对晶圆进行减薄。化学机械抛光机台在进行研磨作业的过程中，旋转的研磨平台会将废液从研磨平台的表面甩向研磨平台的四周，这些废液中含有大量的研磨液成分，因此，当废液挥发后会析出大量结晶物，这些结晶物不仅对化学抛光机台上的各运动部件造成阻碍，还会对金属部件造成腐蚀，影响到机台的使用寿命。在现有技术中，通过在研磨平台的四周增设一防溅罩来阻挡废液甩溅到平台周围的部件上，防溅罩环绕在研磨平台的四周设置，且罩体采用塑料材质，防溅罩与三个位于不同方位的气缸固定连接，且连接方式采用气缸与防溅罩点接触的方式，当研磨头与研磨平台配合进行研磨作业时，防溅罩需要在气缸的带动下升起，从而罩住研磨平台，研磨平台进行研磨作业过程中甩出的废液便会被防溅罩承接，然后顺着防溅罩流向排水口排走；当研磨作业完成后，研磨头需要转动至下一止点，此时，气缸带动防溅罩下降至研磨平台以下，以避免妨碍到研磨头的转动。在这个过程中，由于防溅罩是一个整体，因此对带动防溅罩的3个气缸驱动的同步性要求很高，如果任意1个气缸因故障导致上下运动速度和其他气缸不一致，就会导致防溅罩受到扯拽，导致罩体扭曲变形，甚至损坏。变形的防溅罩又会反过来对气缸进行挤压拉扯，降低气缸的使用寿命。本专利技术提供一种防溅罩，可以在有效阻挡各种工作机台甩溅出来的液体的同时，防止防溅罩变形，提高机台的使用寿命，并节约了更换成本。
技术实现思路
根据现有技术中存在的上述问题，现提供一种防溅罩及化学机械抛光机台，将现有技术中的一体式防溅罩改为组合式防溅罩。上述技术方案具体包括：一种防溅罩，所述防溅罩环绕工作机台设置，用于阻挡所述工作机台甩溅出来的液体，其特征在于，所述防溅罩由多个罩部件组成，每个所述罩部件固定安装于一升降台；所述升降台连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述升降台上下运动。优选地，所述多个罩部件大小相同。优选地，所述多个罩部件依次排列，所述罩部件之间的缝隙小，以罩住所述工作机台。优选地，相邻的两个所述罩部件内外交错设置，并在连接处部分重叠。优选地，所述驱动装置为电机。优选地，所述驱动装置为气缸。优选地，所述气缸包括一缸体和一驱动杆；所述罩部件与所述升降台的接触面积大于所述驱动杆的横截面面积。优选地，所述升降台上表面设置有凹槽，所述罩部件镶嵌于所述凹槽内。优选地，所述驱动装置采用统一控制的方法，使得所述多个罩部件的上下运动同步，或采用分别独立控制的方法。本专利技术同时公开了一种化学机械抛光机台，采用了如上所述的防溅罩，其特征在于，包括：研磨平台，用于承载晶圆；研磨头，配合所述研磨平台对所述晶圆进行研磨；动力源接口，用于连接所述驱动装置；上述技术方案的有益效果在于：提供一种防溅罩及化学机械抛光机台，通过将现有技术中的一体式防溅罩改为组合式防溅罩，从而大大降低了对各个驱动装置同步性的要求，且当个别驱动装置发生故障不能正常升起或下降时，不会对整个防溅罩产生扯拽，进而也不会影响到其他正常工作的驱动装置，组合式防溅罩的设计可以仅仅针对损坏的罩部件进行更换，节约了维修费用。附图说明图1是本专利技术中，一种防溅罩的较佳实施例的三维图；图2是本专利技术中，一种防溅罩的较佳实施例的三维图；图3是本专利技术中，一种防溅罩的较佳实施例的俯视图；图4是本专利技术中，一种化学机械抛光机台的较佳实施例中，防溅罩位于上止点时的工作示意图；图5是本专利技术中，一种化学机械抛光机台的较佳实施例中，防溅罩位于下止点时的工作示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步说明，但不作为本专利技术的限定。一种防溅罩，所述防溅罩环绕工作机台设置，用于阻挡所述工作机台甩溅出来的液体，其特征在于，所述防溅罩由多个罩部件组成，每个所述罩部件固定安装于一升降台；所述升降台连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述升降台上下运动。如图1-3所示，防溅罩由多个罩部件1组成，每个罩部件1固定安装于一升降台2，图中均示出了4个罩部件，也可以为其他数量。多个罩部件1的大小可以相同，也可以不同，在本专利技术的较佳实施例中，多个罩部件1大小相同。在本专利技术的一个具体实施例中，防溅罩的整体形状与工作机台的边缘形状相适配。参见附图4-5，以CMP工艺为例，在现有化学机械抛光机台中，研磨平台4多为圆板形结构，此时防溅罩采用框形结构，框罩在研磨平台的四周，而对应的罩部件1则采用圆弧形结构，由于研磨平台4在研磨作业的过程中会围绕圆心旋转，因此，罩部件1与研磨平台4不接触，但同时罩部件1又不能距离研磨平台4的边缘过远，否则，防溅罩将失去阻挡研磨平台4研磨过程中甩溅出来的研磨液6的作用。当研磨平台4为其他规则或者不规则构型时，其设置原理同上，在此不再赘述。每个升降台2连接一驱动装置3，驱动装置3驱动升降台2上下运动，使相应的罩部件1分别位于上止点和下止点。驱动装置3可以为气缸或电机，驱动装置3也可以为其他能够将升降台2进行上下升降的装置，甚至可以手动驱动。在上述具体实施例中，每个驱动装置3在带动对应的罩部件1做上下运动时，相邻的两个罩部件1之间相互独立，不会产生干扰和摩擦等。同时为了保证研磨平台4甩溅出来的研磨液不会从相邻罩部件之间的配合缝隙中甩出，相邻的罩部件1之间的缝隙应尽可能小。所述多个罩部件之间的配合方式可以有多种。如图1，将多个罩部件1依次排列，相邻罩部件的缝隙较小，以罩住工作机台，应尽量减小相邻罩部件之间的缝隙，此时，可以在相邻罩部件的连接处涂覆润滑剂，在减小缝隙的同时，减轻或消除相邻罩部件之间的干扰和摩擦，以使相邻的两个罩部件之间相互独立。图2所示，相邻的两个罩部件1内外交错设置，并在连接处部分重叠，在罩部件1为圆弧形结构的情况下，所有罩部件1对应的圆弧的度数之和要大于360度，在一种较佳的具体实施例中相邻的两个罩部件之间重叠5度-10度的圆弧，从而确保罩部件1在工作面所在平面的圆周方向上没有缝隙，避免液滴甩出。总之，多个罩部件1之间互相独立，可以设计多种罩部件的配合方式，减小多个罩部件之间的缝隙，以保证液体不会从相邻罩部件之间的缝隙中甩出。每个罩部件1与一个升降台2固定连接，升降台2再与对应的驱动装置3连接，从而使得驱动装置3能够通过升降台2带动罩部件1做上下运动本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防溅罩，所述防溅罩环绕工作机台设置，用于阻挡所述工作机台甩溅出来的液体，其特征在于，/n所述防溅罩由多个罩部件组成，每个所述罩部件固定安装于一升降台；/n所述升降台连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述升降台上下运动。/n

【技术特征摘要】
1.一种防溅罩，所述防溅罩环绕工作机台设置，用于阻挡所述工作机台甩溅出来的液体，其特征在于，
所述防溅罩由多个罩部件组成，每个所述罩部件固定安装于一升降台；
所述升降台连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述升降台上下运动。


2.根据权利要求1所述的防溅罩，其特征在于，所述多个罩部件大小相同。


3.根据权利要求1所述的防溅罩，其特征在于，所述多个罩部件依次排列，所述罩部件之间的缝隙小，以罩住所述工作机台。


4.根据权利要求1所述的防溅罩，其特征在于，相邻的两个所述罩部件内外交错设置，并在连接处部分重叠。


5.根据权利要求1所述的防溅罩，其特征在于，所述驱动装置为电机。


6.根据权利要求1所述的防溅罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡堃，
申请(专利权)人：武汉新芯集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42