一种RFID芯片及其制作方法技术

技术编号:22886502 阅读:25 留言:0更新日期:2019-12-21 08:13
本发明专利技术涉及一种RFID芯片及其制作方法,一方面,其公开了一种RFID芯片,采用无基板的电极嵌入封装胶结构,电极嵌入在封装胶中,由于没有传统QFN电极所附着的筋线的限制,框架间隙更小、所需键合线更少,在相同感抗下,封装体结构更简单、成本更低;另一方面,相应的,其还公开了一种RFID制作方法,采用剥离式承载片的加工工艺,制作工艺流程也更简单、更环保,其芯片产品的布线设计也有了更大自由度,后续封装的效率也获得了极大提高。

A kind of RFID chip and its making method

【技术实现步骤摘要】
一种RFID芯片及其制作方法
本专利技术属于RFID(射频识别)领域,其具体涉及一种RFID(射频识别)芯片及其制作方法。
技术介绍
RFID是RadioFrequencyldentification的缩写,即,射频识别,是一种非接触式的自动识别技术,它通过射频信号自动识别目标对象,可快速地进行物品追踪和数据交换。识别工作无须人工干预,可工作于各种恶劣环境。RFID技术可识别高速运动物体并可同时识别多个标签,操作快捷方便。RFID技术诞生于第二次世界大战期间,它是传统条码技术的继承者,又称为″电子标签″或“射频标签”。RFID芯片是物联网的关键部件,现有技术中,它的芯片封装通常是在QFN的支架上完成的,封装工艺较为复杂,且由于支架蚀刻受限于框架铜厚及支撑筋,使得这类框架的精度和应用大大受限制,图1为传统的RFID芯片结构,我们可以看到,框架的筋挡住了环形天线的连续性,需要用键合线来实现跨接,无疑对阻抗有较大影响;同时,QFN框架的铜厚通常为0.15mm-0.25mm,天线蚀刻的间隙通常是厚度的0.8倍,即,0.12mm-0.2mm,导致封装可靠性较低,获得的封装体较大,成本高、机械强度较低。正是由于现有技术的种种缺陷,目前,亟需获得一种制作工艺流程更为简单环保,且可降低生产成本、提高封装效率的RFID芯片制作工艺,并亟需获得一种具有大感抗、小体积的RFID芯片产品;这对于积极推动我国物联网产业发展,提升核心竞争力,都具有重要的作用。
技术实现思路
针对现有技术存在的缺陷,本专利技术提供了一种RFID芯片及其制作方法,该RFID芯片采用无基板的电极嵌入封装胶结构,没有传统QFN电极所附着的筋线的限制,框架间隙更小、所需键合线更少,在相同感抗下,封装体结构更简单、成本更低;且其采用剥离式承载片的加工工艺,制作工艺流程也更简单、更环保,且芯片产品的布线设计也有了更大自由度,后续封装的效率也获得了极大提高。本专利技术技术方案为:一种RFID芯片,该RFID芯片采用无基板的电极嵌入封装胶结构,包括电极、芯片元件、及封装胶,其中,所述芯片元件通过固晶形成在电极上,所述封装胶对上述电极和芯片元件进行封装,所述电极嵌入在封装胶中。较佳的,所述芯片元件附着在电极上,由一种以上的子芯片构成,子芯片间通过电极或键合线进行连接。较佳的,所述子芯片的朝向一致,或者,所述键合线的朝向一致。较佳的,所述电极的纵截面为“T”形结构或“I”形结构。较佳的,所述电极为单层金属材料构成,所述单层金属包括如下任一或其合金:铝、金、银、镍、铜;或者,所述电极为多层金属构成,其包括内核金属和表面金属构成的多层结构,其中内核金属和表面金属包括如下任一或其任意组合:银、金、镍、铜。较佳的,所述电极分布为多圈的环形线结构。与上述RFID芯片的技术方案对应的,其还公开了一种RFID芯片制作方法,包括如下步骤:步骤1)准备铜箔A、粘接层B及承载片C;步骤2)在铜箔上选择性电镀形成电极;步骤3)贴合铜箔A,粘接层B和承载片C;步骤4)蚀刻除去没有被电极保护的铜箔,得到独立的封装载体;步骤5)在电极上固晶、封装;步骤6)剥离承载片C;步骤7)分割、测试。较佳的,所述粘接层B为耐高温的可剥胶。较佳的,在所述步骤2)中选择性电镀形成顶电极D及底电极E,其中,底电极E表面为铜、锡、镍、银、金或它们的合金;顶电极E全表面或部分表面为铜、锡、镍、银、金或它们的合金;电极体为导电性能良好的金属。较佳的,在所述步骤2)中形成的电极分布为多圈的环形线结构。可见,本专利技术提供的RFID芯片,由于采用了无基板的电极嵌入封装胶结构,没有传统QFN电极所附着的筋线的限制,框架间隙更小、所需键合线更少,在相同感抗下,封装体结构更简单、成本更低;相应的RFID制作方法,由于采用剥离式承载片的加工工艺,制作工艺流程也更简单、更环保,且芯片产品的布线设计也有了更大自由度,后续封装的效率也获得了极大提高。附图说明图1为传统RFID芯片之俯视图;图2为为本专利技术中RFID芯片之俯视图;图3为本专利技术中RFID芯片之剖示图;图4本专利技术中RFID芯片制作方法之主流程;图5为本专利技术一个实施例中RFID芯片的结构图;图6为本专利技术另一个实施例中RFID芯片的结构图。附图标记说明:1、导体;2、IC芯片;3、键合线;4、电极;5、粘合层;6、载板。具体实施方式下文是附图1至6所示的本专利技术优选实施例的更为具体的说明,通过这些说明,本专利技术的特征和优点将显而易见。在本专利技术一个实施例中,该RFID芯片采用无基板的电极嵌入封装胶结构,包括电极、芯片元件、及封装胶,其中,所述LED发光芯片元件通过固晶形成在电极上,所述封装胶对上述电极和芯片元件进行封装,所述电极嵌入在封装胶中。在该实施例中,由于其采用了无基板的电极嵌入封装胶结构,其没有筋线的限制,其框架的间隙可以做到0.05mm甚至更小;图2为该RFID芯片的俯视图,图3为该RFID芯片的剖示图,比较图1中传统QFN电极结构可以看出,本专利技术中RFID芯片键合的线比QFN的少两条,封装的效率高、可靠性高、成本低,而且,该RFID芯片框架包含的面积更大,可以有更大的感抗,即,要获得同样的感抗,本专利技术中该RFID芯片可以把封装体做得更小,产品的机械强度更高。在一些具体的实施例中,对所述电极进行了进一步的设计,其采用多圈的环形“拉后”(pull-back)电极,即,电极在封装胶里电极为上大下小(“T”结构)或中间小两头大(“I”结构),从而,可将电极牢固地锁定在封装胶里;其中,电极可以是单层金属构成,也可以是多层金属构成:当为单层金属材料构成时,所述单层金属包括如下任一或其合金——铝、金、银、镍、铜;当为多层金属构成,其包括内核金属和表面金属构成的多层结构,其中内核金属和表面金属包括如下任一或其任意组合——银、金、镍、铜等,优选的,内核金属为铜。较优的,其电极分布为多圈的环形线结构,如一到三圈。此外,所述电极除了满足电连接的要求外,还应考虑电极的阻抗,优选镀银作为电极表面金属,从而减少阻抗;进一步的,还可以通过提高电极的厚度,从而减少阻抗。在一些具体实施例中,所述芯片元件附着在电极上,由一种以上的子芯片构成,子芯片间通过电极或键合线进行连接。在设计子芯片分布时,优选的,该子芯片的朝向一致,或者键合线的朝向一致,这样可以有利于固晶焊线的效率及后加工的良率。此外,所述封装胶为保护性的胶体,通常为环氧树脂胶。对应的,在一个实施例中,本专利技术还公开了一种RFID芯片制作方法,如图4所示,其包括如下步骤:步骤1)准备铜箔A、粘接层B及承载片C;步骤2)在铜箔上选择性电镀形成电极;步骤3)贴合铜箔A,粘接层B和承载片C;步骤4)蚀刻除去没有被电极保护的铜箔,得到独立的封装载体;步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种RFID芯片,其特征在于,该RFID芯片采用无基板的电极嵌入封装胶结构,包括电极、芯片元件、及封装胶,其中,所述芯片元件通过固晶形成在电极上,所述封装胶对上述电极和芯片元件进行封装,所述电极嵌入在封装胶中。/n

【技术特征摘要】
1.一种RFID芯片,其特征在于,该RFID芯片采用无基板的电极嵌入封装胶结构,包括电极、芯片元件、及封装胶,其中,所述芯片元件通过固晶形成在电极上,所述封装胶对上述电极和芯片元件进行封装,所述电极嵌入在封装胶中。


2.根据权利要求1所述的RFID芯片,其特征在于,优选的,所述芯片元件附着在电极上,由一种以上的子芯片构成,所述子芯片间通过电极或键合线进行连接。


3.根据权利要求2所述RFID芯片,其特征在于,所述子芯片的朝向一致,或者,所述键合线的朝向一致。


4.根据权利要求1所述的RFID芯片,其特征在于,所述电极的纵截面为“T”形结构或“I”形结构。


5.根据权利要求1所述的RFID芯片,其特征在于,所述电极为单层金属材料构成,所述单层金属包括如下任一或其合金:铝、金、银、镍、铜;或者,所述电极为多层金属构成,其包括内核金属和表面金属构成的多层结构,其中内核金属和表面金属包括如下任一或其任意组合:银、金、镍、铜。


6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:何忠亮徐光泽沈正
申请(专利权)人:深圳市环基实业有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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