一种光学邻近效应修正方法技术

本发明专利技术提供了一种光学邻近效应修正方法，包括：筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，第一类型边缘线包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角；量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差；修正步骤，根据计算步骤中确定的边缘放置误差，对第一类型边缘线进行修正；其中，第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同，由此减少了光学邻近效应修正的时间。

A correction method of optical proximity effect

The invention provides an optical proximity effect correction method, which comprises the following steps: screening step, screening out the first type of edge line, wherein the first type of edge line includes the first segment, the second segment and the third segment connected in sequence, and the turning angle types of the two ends of the first segment and the third segment are both the combination of the outer angle and the inner angle or the combination of the inner angle and the outer angle The corner type of the two ends of the segment is the same as the flat angle; the measurement step is to obtain the sample value of edge placement error of several reference position points on each segment; the calculation step is to calculate the edge placement error of the three segments of the first type of edge line with the preset value of edge placement error; the correction step is to correct the edge placement error according to the edge placement error determined in the calculation step The first type of edge line is modified, in which the value of edge placement error of the second segment is the same as that of the first segment and the third segment, thus reducing the time of optical proximity effect correction.

【技术实现步骤摘要】
一种光学邻近效应修正方法
本专利技术涉及半导体
，更详细地说，本专利技术涉及一种光学邻近效应修正方法。
技术介绍
在半导体制造过程中，随着光刻尺寸越来越小，分辨率增强技术被普遍采用，其中，在180nm技术节点以下，分辨率增强技术中的光学邻近效应修正方法(OPC,opticalproximitycorrection)作为一种常规的技术手段被采用，其基本原理是通过建立基于特定光刻条件的曝光模型，对原始版图或目标版图进行模拟以得到模拟误差，然后将原始版图按一定的规则进行分段切割，根据模拟误差对片断进行偏移补偿并重新模拟，经过数个回合的模拟和修正和得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图，基于模型OPC方法在修正过程中一般要经历多次修正(每一次修正称为一个迭代)，直到修正后的模拟结果符合目标图像，或者修正后的模拟值与目标值的误差在允许范围内。现有技术中，OPC修正迭代的次数较多，OPC修正时间较长，因此，有必要对现有的光学邻近效应修正方法加以改进。
技术实现思路
为了解决现有技术中的上述问题，即提供一种具有能够减少光学邻近效应修正迭代次数的光学邻近效应修正方法。本专利技术所提供的光学邻近效应修正方法，包括：筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，第一类型边缘线为具有三个片段的边缘线，三个片段包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，第二片段的两端点的拐角类型同为平角；量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算第一类型边缘线的三个片段的边缘放置误差，其中，取值方式是指，根据片段端点的拐角类型，从多个边缘放置误差样本值中选取作为边缘放置误差的统计值的选取方式；修正步骤，根据计算步骤中确定的边缘放置误差，对第一类型边缘线进行修正；其中，第一片段和第三片段的边缘放置误差的取值方式根据该片段的两端点的拐角类型确定，第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同。在该技术方案中，通过对特殊图像也即第一类型边缘线的筛选，实现了对第二片段的优化修正，由此减少了修正迭代次数，减少了修正时间，提高了修正效率。在本专利技术的较优技术方案中，在修正步骤之后还包括：检测步骤，检测当前经修正的图像与目标图像的更新的边缘放置误差。在本专利技术的较优技术方案中，在检测步骤之后，还包括：将更新的边缘放置误差与预设范围进行比较，若更新的边缘放置误差的绝对值小于预设的阈值，则结束修正过程；若更新的边缘放置误差的绝对值超过阈值，则转至修正步骤。在该技术方案中，实现了对待修正图像的循环修正，通过对边缘放置误差的绝对值和预设的阈值的比较，实现了对经修正的图像是否需要再次修正的判定。在本专利技术的较优技术方案中，计算步骤中，预先设定的边缘放置误差的取值方式包括：若第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合，则返回第二片段的多个边缘放置误差样本值中的最大值作为第二片段的边缘放置误差；若第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为内角和平角的组合，则返回第二片段的多个边缘放置误差样本值中的最小值作为第二片段的边缘放置误差。在本专利技术的较优技术方案中，在计算步骤中，针对除第一类型边缘线以外的第二类型边缘线的取值方式为：以两个拐角类型为内角为端点或以拐角类型为内角和平角为端点的片段，边缘放置误差的统计值为边缘放置误差样本值中的最小值；以拐角类型为内角和外角为端点或以拐角类型为两个平角为端点的片段，边缘放置误差的统计值为边缘放置误差样本值中的平均值；以拐角类型为两个外角为端点或以拐角类型为外角和平角为端点的片段，边缘放置误差的统计值为边缘放置误差样本值中的最大值。在本专利技术的较优技术方案中，统计值包括最大值、最小值或者平均值三种类型。在本专利技术的较优技术方案中，拐角类型包括平角、外角和内角三种类型。在本专利技术的较优技术方案中，在量测步骤中，每个片段的参考位置点相对于片段的中点对称设置。在该技术方案中，每个片段被参考位置点相对于片段的中点均分，由此可以较为全面且准确的得到边缘放置误差样本值。在本专利技术的较优技术方案中，参考位置点以5-15nm的间距均匀分布在片段上。附图说明图1是本专利技术一个较优技术方案中具有第一类型边缘线的待修正图像的示意图；图2是本专利技术一个较优技术方案中另一具有第一类型边缘线的待修正图像的示意图；图3是本专利技术一个较优技术方案中的光学邻近效应修正方法的流程图；图4是图1中第二片段和其对应的目标图像的示意图；图5是本专利技术一个较优技术方案中的光学邻近效应修正方法的迭代流程图；图6是图1中待修正图像的第二片段经现有技术一次迭代修正后的示意图；图7是图1中待修正图像的第二片段经本专利技术所提供的光学邻近效应修正方法一次迭代修正后的示意图。附图说明：1-待修正图像，1′-经修正的图像；2-目标图像；3-边缘线，31-第一类型边缘线，32-第二类型边缘线；4-片段，41-第一片段，42-第二片段，43-第三片段。具体技术方案下面参照附图来描述本专利技术的优选技术方案。本领域技术人员应当理解的是，这些技术方案仅仅用于解释本专利技术的技术原理，并非旨在限制本专利技术的保护范围。本领域技术人员可以根据需要对其做出调整，以便适应具体的应用场合。需要说明的是，在本专利技术的优选实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或组成部分必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在光学邻近效应修正工艺中，如图1所示，通常根据待修正图像1和目标图像2的相对位置关系将目标图像2的边缘线3分割成若干片段4，其中，边缘线3为直线线段，目标图像2中，相邻的边缘线3相互正交，每一片段4的端点的两个临边构成的拐角的角度分为三种：90度、180度、270度，其中，90度的拐角称为外角，180度的拐角称为平角，270度的拐角称为内角，相应地，构成拐角的类型为外角的端点为外端点；构成拐角的类型为平角的端点为平端点；构成拐角的类型为内角的端点为内端点；本实施例给出一种片段4的划分规则作为参考：以边缘线3与待修正图像1的边缘的交点为分割点进行划分；若边缘线3与待修正图像1的边缘无交点，在边缘线3上任选两个平端点将边缘线3分割成三个片段4，具体地，在本实施例中，若边缘线3与待修正图像1的边缘无交点，则选取两个平端点将边缘线3三等分以形成三个片段4，上述规则为示例性的，为了便于说明本实施例的技术方案而示出，但并未对本专利技术的限定。根据上述规则，本实施例提供了一种的光学邻近效应修正方法，其流程图如图3所示，包括：筛选步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学邻近效应修正方法，其特征在于，包括：/n筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，所述第一类型边缘线为具有三个片段的边缘线，所述三个片段包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，所述第一片段和所述第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角；/n量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；/n计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算所述第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差，其中，取值方式是指，根据所述片段端点的拐角类型，从多个边缘放置误差样本值中选取作为边缘放置误差的统计值的选取方式；/n修正步骤，根据所述计算步骤中确定的所述边缘放置误差，对所述第一类型边缘线进行修正；/n其中，所述第一片段和所述第三片段的边缘放置误差的取值方式根据该片段的两端点的拐角类型确定，所述第二片段的边缘放置误差的取值方式与所述第一片段、所述第三片段保持相同。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学邻近效应修正方法，其特征在于，包括：
筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，所述第一类型边缘线为具有三个片段的边缘线，所述三个片段包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，所述第一片段和所述第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角；
量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；
计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算所述第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差，其中，取值方式是指，根据所述片段端点的拐角类型，从多个边缘放置误差样本值中选取作为边缘放置误差的统计值的选取方式；
修正步骤，根据所述计算步骤中确定的所述边缘放置误差，对所述第一类型边缘线进行修正；
其中，所述第一片段和所述第三片段的边缘放置误差的取值方式根据该片段的两端点的拐角类型确定，所述第二片段的边缘放置误差的取值方式与所述第一片段、所述第三片段保持相同。


2.如权利要求1所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，在所述修正步骤之后还包括
检测步骤，检测当前经修正的图像与目标图像的更新的边缘放置误差。


3.如权利要求2所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，在所述检测步骤之后，还包括：
将所述更新的边缘放置误差与预设范围进行比较，若所述更新的边缘放置误差的绝对值小于预设的阈值，则结束修正过程；若所述更新的边缘放置误差的绝对值超过阈值，则转至所述修正步骤。


4.如权利要求1-3所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，所述计算步骤中，所述预先设定的边缘放置误差的取值...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄双龙，倪凌云，黄增智，夏睿，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32