防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框制造技术

本实用新型专利技术公开了防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，包括转轴、支撑框和驱动装置，转轴的两端由轴承座进行支撑，驱动装置驱动转轴绕自身轴线转动，支撑框通过连接板与转轴连接，在支撑框上位于转轴轴线的两端均滑动设置有屏蔽板，屏蔽板位于竖框边之间，屏蔽板能沿转轴的轴线滑动，屏蔽板的两侧分别各与一个竖框边接触，屏蔽板互相靠近时，支撑框的内部被屏蔽板覆盖的面积逐渐增大。本实用新型专利技术解决了在蒸镀工艺中，蒸镀物会污染主辊的问题。在主辊的下方设置一可以摆动的蒸发屏蔽框，在屏蔽框两端用于滑动连接屏蔽板的轨道结构，将活动挡板设置于轨道上，可以滑动调节屏蔽段遮挡主辊的长度，以适应不同幅宽基膜的镀制要求。

Swing type evaporation shield frame to prevent the main roll from being polluted by evaporation materials

The utility model discloses a swing type evaporation shield frame to prevent the main roll from being polluted by the evaporated plating substance, which comprises a rotating shaft, a supporting frame and a driving device. The two ends of the rotating shaft are supported by a bearing seat, the driving device drives the rotating shaft to rotate around its own axis, the supporting frame is connected with the rotating shaft through a connecting plate, and the two ends of the supporting frame at the axis of the rotating shaft are slidably provided with shield plates, and the shield plates are located at the Between the mullion edges, the shield plate can slide along the axis of the shaft, and both sides of the shield plate contact with a mullion edge respectively. When the shield plates are close to each other, the area covered by the shield plate inside the support frame increases gradually. The utility model solves the problem that in the evaporation plating process, the evaporation plating substance will pollute the main roll. A swinging evaporation shield frame is set under the main roll. The two ends of the shield frame are used to slide the track structure connecting the shield plate. The movable baffle plate is set on the track. The length of the shield section shielding the main roll can be adjusted to meet the plating requirements of the base film with different width.

【技术实现步骤摘要】
防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框
本技术涉及镀膜领域，具体涉及防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框。
技术介绍
真空卷绕镀膜设备在蒸镀过程中，除了蒸镀物质沉积在薄膜基材上是有用的，沉积到设备上其余地方的蒸镀物质就成了污染物，到一定程度的时候就必须清洁处理，但往往蒸发设备中蒸发源都是布置在下方往上蒸发的，清洁的时候工作人员就必须仰头往上清洁污染物，很不方便且不人性化。在包鼓镀的设备中，为了对基膜的冷却效果和蒸镀质量，主辊的长度往往要比基膜的宽度大，就造成了主辊两端各有一部分暴露在蒸发源上，在基膜沉积的过程中也会在主辊两端没被基膜遮挡部分沉积，造成主辊的污染，清洁污染物时也会对主辊造成无法修复的伤害。
技术实现思路
本技术的目的在于：提供了防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，解决了主辊两端暴露在蒸发源上的部位会被蒸镀物污染的问题。本技术就是在主辊两端设置挡板遮挡暴露在蒸发源上方部分；另一方面，设备上蒸镀的基膜幅宽有不同规格，主辊暴露部分随幅宽变化而变化，这就要求挡板可以移动来满足不同幅宽的基膜镀制。本技术采用的技术方案如下：防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，包括转轴、支撑框和驱动装置，所述转轴的两端由轴承座进行支撑，所述驱动装置驱动转轴绕自身轴线转动，所述支撑框通过连接板与转轴连接，支撑框为一对平行于转轴轴线的竖框边以及一对垂直于转轴轴线的横框边围城的矩形框体，在支撑框上位于转轴轴线的两端均滑动设置有屏蔽板，所述屏蔽板位于竖框边之间，屏蔽板能沿转轴的轴线滑动，且屏蔽板均平行于支撑框围成的矩形面，屏蔽板的两侧分别各与一个竖框边接触，屏蔽板互相靠近时，支撑框的内部被屏蔽板覆盖的面积逐渐增大。使用前，先将本技术安装在主辊的下方，且转轴的轴线平行于主辊的轴线，且转轴位于主辊下方的一侧。使用时，驱动装置使转轴转动，直至支撑框围成的矩形面平行于水平面时，两个竖框边沿主辊的轴线对称，同时主辊在水平面中的正投影位于支撑框在水平面中的正投影的内侧，两个屏蔽板将主辊的两端遮挡住，从而防止来自蒸发源的蒸镀物质沉积在主辊上，避免主辊被蒸镀物污染，保证了主辊的工作环境和自身质量。同时，设备上蒸镀的基膜幅宽有不同规格，当基膜的幅宽较小时，则沿着转轴的轴线移动两个屏蔽板，以使屏蔽板互相靠近，从而使屏蔽板之间的最短距离与基膜的幅宽一致，以将主辊上未被基膜覆盖的端部均被屏蔽板遮盖住，防止有蒸镀物沉积到主辊端部；当基膜的幅宽较大时，则沿着转轴的轴线移动两个屏蔽板，以使屏蔽板互相远离，从而使屏蔽板之间的最短距离与基膜的幅宽一致。当需要将屏蔽框从主辊下方移开时，启动驱动装置，反向转动转轴，以使支撑框上远离转轴的一侧向下转动，从而离开处于主辊正下方的位置。驱动装置是用于是主轴转动的装置，其根据实际情况可以是气缸，也可以是直线电机，还可以用大减速比的减速电机直接扭动中间旋转轴，实现摆动功能。综上，本技术解决了在蒸镀工艺中，蒸镀物会污染主辊的问题。具体地，在主辊的下方设置一可以摆动的蒸发屏蔽框，在屏蔽框两端用于滑动连接屏蔽板的轨道结构，将活动挡板设置于轨道上，可以滑动调节屏蔽段遮挡主辊的长度，以适应不同幅宽基膜的镀制要求。由于采用了本技术方案，本技术的有益效果是：1.本技术防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，驱动装置使转轴转动，直至支撑框围成的矩形面平行于水平面时，两个竖框边沿主辊的轴线对称，同时主辊在水平面中的正投影位于支撑框在水平面中的正投影的内侧，两个屏蔽板将主辊的两端遮挡住，从而防止来自蒸发源的蒸镀物质沉积在主辊上，避免主辊被蒸镀物污染，保证了主辊的工作环境和自身质量；2.本技术防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，设备上蒸镀的基膜幅宽有不同规格，当基膜的幅宽较小时，则沿着转轴的轴线移动两个屏蔽板，以使屏蔽板互相靠近，从而使屏蔽板之间的最短距离与基膜的幅宽一致，以将主辊上未被基膜覆盖的端部均被屏蔽板遮盖住，防止有蒸镀物沉积到主辊端部；当基膜的幅宽较大时，则沿着转轴的轴线移动两个屏蔽板，以使屏蔽板互相远离，从而使屏蔽板之间的最短距离与基膜的幅宽一致。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图，本说明书附图中的各个部件的比例关系不代表实际选材设计时的比例关系，其仅仅为结构或者位置的示意图，其中：图1是本技术的结构示意图；图2是屏蔽板的结构示意图；图3是本技术的侧视剖视图；图4是图3所示结构与主辊的位置关系示意图；图5是端面示意图中本技术处于工作位置的示意图；图6是屏蔽框转动后的示意图；附图中标号说明：1-转轴，2-支撑框，3-轴承座，4-屏蔽板，5-连接板，6-导轨条，7-导向槽，8-通槽，9-匹配板，10-键，11-主辊，12-摇臂，13-推杆电缸，14-连接筒。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术，即所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。下面结合图1至图6对本技术作详细说明。实施例1如图1-图6所示，本技术中，防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，包括转轴1、支撑框2和驱动装置，所述转轴1的两端由轴承座3进行支撑，所述驱动装置驱动转轴1绕自身轴线转动，所述支撑框2通过连接板5与转轴1连接，支撑框2为一对平行于转轴1轴线的竖框边以及一对垂直于转轴1轴线的横框边围城的矩形框体，在支撑框2上位于转轴1轴线的两端均滑动设置有屏蔽板4，所述屏蔽板4位于竖框边之间，屏蔽板4能沿转轴1的轴线滑动，且屏蔽板4均平行于支撑框2围成的矩形面，屏蔽板4的两侧分别各与一个竖框边接触，屏蔽板4互相靠近时，支撑框2的内部被屏蔽板4覆盖的面积逐渐增大。使用前，先将本技术安装在主辊的下方，且转轴1的轴线平行于主辊的轴线，且转轴1位于主辊下方的一侧。使用时，驱动装置使转轴1转动，直至支撑框2围成的矩形面平行于水平面时，两个竖框边沿主辊的轴线对称，同时主辊在水平面中的正投影位于支撑框2在水平面中的正投影的内侧，两个屏蔽板4将主辊的两端遮挡住，从而防止来自蒸发源的蒸镀物质沉积在主辊上，避免主辊被蒸镀物污染，保证了主辊的工作环境和自身质量。同时，设备上蒸镀的基膜幅宽有不同规格，当基膜的幅宽较小时，则沿着转轴1的轴线移动两个屏蔽板4，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，其特征在于：包括转轴(1)、支撑框(2)和驱动装置，所述转轴(1)的两端由轴承座(3)进行支撑，所述驱动装置驱动转轴(1)绕自身轴线转动，所述支撑框(2)通过连接板(5)与转轴(1)连接，支撑框(2)为一对平行于转轴(1)轴线的竖框边以及一对垂直于转轴(1)轴线的横框边围城的矩形框体，在支撑框(2)上位于转轴(1)轴线的两端均滑动设置有屏蔽板(4)，所述屏蔽板(4)位于竖框边之间，屏蔽板(4)能沿转轴(1)的轴线滑动，且屏蔽板(4)均平行于支撑框(2)围成的矩形面，屏蔽板(4)的两侧分别各与一个竖框边接触，屏蔽板(4)互相靠近时，支撑框(2)的内部被屏蔽板(4)覆盖的面积逐渐增大。

【技术特征摘要】
1.防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，其特征在于：包括转轴(1)、支撑框(2)和驱动装置，所述转轴(1)的两端由轴承座(3)进行支撑，所述驱动装置驱动转轴(1)绕自身轴线转动，所述支撑框(2)通过连接板(5)与转轴(1)连接，支撑框(2)为一对平行于转轴(1)轴线的竖框边以及一对垂直于转轴(1)轴线的横框边围城的矩形框体，在支撑框(2)上位于转轴(1)轴线的两端均滑动设置有屏蔽板(4)，所述屏蔽板(4)位于竖框边之间，屏蔽板(4)能沿转轴(1)的轴线滑动，且屏蔽板(4)均平行于支撑框(2)围成的矩形面，屏蔽板(4)的两侧分别各与一个竖框边接触，屏蔽板(4)互相靠近时，支撑框(2)的内部被屏蔽板(4)覆盖的面积逐渐增大。2.根据权利要求1所述的防止主辊被蒸镀物质污染的摆动式蒸发屏蔽框，其特征在于：在所述屏蔽板(4)和竖框边之间均设置有导轨条(6)，所述导轨条(6)的轴线均平行于转轴(1)的轴线，在屏蔽板(4)的两侧均设置有与导轨条(6)配合的导向槽(7)；在横框边上均设置有供屏蔽板(4)穿过的通槽(8)。3.根据权利要求2所述的防止主辊被蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈清胜，赵锐，
申请(专利权)人：四川海格锐特科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51