【技术实现步骤摘要】
一种CVD反应腔室真空度测量装置
本技术涉及真空度测量
，尤其涉及一种CVD反应腔室真空度测量装置。
技术介绍
在现有的CVD反应腔室中，真空规一般安放于腔室的侧壁中间位置，测量出的真空度是腔室侧壁中间位置附近的真空度。根据CVD工艺与反应原理，CVD反应腔室抽真空的管道布置在腔室底部，而基体反应沉积的位置在腔室的内侧正中位置，这样必然会出现腔室内侧正中的真空度和腔室侧壁中间的真空度不一致，那么在对工艺压力控制的时候会存在一定偏差，无法精确的测出靠近腔室内侧正中位置的真空度，从而难以准确的控制压力范围。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术的目的是提供一种CVD反应腔室真空度测量装置，解决现有真空度测量装置无法精确的测出靠近腔室内侧正中位置的真空度的问题。(二)技术方案为了解决上述技术问题，本技术提供了一种CVD反应腔室真空度测量装置，包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连，所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中；所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移...
【技术保护点】
1.一种CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连，所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中；所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴，所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。
【技术特征摘要】
1.一种CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连，所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中；所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴，所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。2.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：所述传动机构包括与所述驱动机构连接的传动轴，所述传动轴与第一伞齿轮相连，所述第一伞齿轮与第二伞齿轮相啮合，所述第二伞齿轮与传动螺杆相连，所述传动螺杆上设有传动螺母，所述传动螺母通过连接杆与所述移动轴相连。3.根据权利要求2所述的CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：所述传动轴上设有刻度圆盘。4.根据权利要求2所述的CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：所述驱动机构包括传动手柄或驱动电机。5.根据权利要求1所述的CVD反应腔室真空度测量装置，其特征在于：还包括轴套，所述轴套通...
【专利技术属性】
技术研发人员：屈丰超，邓曾红，赵青松，张金斌，南建辉，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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