缺陷检测系统及其缺陷检测方法技术方案

本发明专利技术提供一种缺陷检测系统及其缺陷检测方法，所述缺陷检测系统包括：缺陷检测模块，包括：显微成像装置，用于对待检测物的多个待检测区域进行显微成像，所述多个待检测区域在所述待检测物的表面排列形成第一图案；及缺陷标记模块，包括：待标记物，所述待标记物包括多个待标记区域，所述多个待标记区域在所述待标记物表面形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同，所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应；及遮盖物，与所述待标记物的表面相对设置，所述遮盖物上设置有开孔，所述开孔暴露出所述待标记物的至少一个待标记区域。所述缺陷检测系统及其缺陷检测方法提高了缺陷定位的准确率。

Defect Detection System and Defect Detection Method

【技术实现步骤摘要】
缺陷检测系统及其缺陷检测方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种缺陷检测系统及其缺陷检测方法。
技术介绍
半导体制造工艺中，需要使用检验工艺来检测晶圆(wafer)上的缺陷进而提高晶圆的合格率。根据检验主体的不同，检验工艺可以分为机器检验工艺和人工检验工艺。机器检验工艺主要依赖于机台的自动化流程完成晶圆表面缺陷的检验。而人工检验工艺，需要检测人员在借助于检验工具的同时进行晶圆外观的判定，并手动地作以缺陷标识。人工检验用于机器检验后的抽检程序，能够进一步提高晶圆的合格率，然而人工检验过程中，不可避免地会发生一些人为原因导致的缺陷定位的错误，例如检测人员对缺陷坐标的辨认错误或者手动标记时将缺陷位置标错等，均易导致缺陷检测和定位的误差。因此，如何提高半导体器件的缺陷检测准确率、降低缺陷定位错误发生率是目前亟待解决的问题。
技术实现思路
为了提高晶片缺陷检测的准确率和检测效率，本专利技术实施例提供一种缺陷检测系统，包括：缺陷检测模块，包括：显微成像装置，所述显微成像装置用于对待检测物的多个待检测区域分别进行显微成像，所述多个待检测区域在所述待检测物的表面排列形成第一图案；以及缺陷标记模块，包括：待标记物，所述待标记物包括多个待标记区域，所述多个待标记区域在所述待标记物的表面排列形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同，且所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应；以及遮盖物，所述遮盖物与所述待标记物的表面相对设置，所述遮盖物上设置有开孔，所述开孔暴露出所述待标记物的至少一个待标记区域。可选地，所述显微成像装置包括物镜，所述物镜与所述待检测物的表面相对设置，所述待检测物的表面和所述待标记物的表面均沿水平方向延伸，所述物镜初始对准的待检测区域与所述遮盖物的开孔初始对准的待标记区域相对应；所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，以改变所述物镜对准的待检测区域，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动，以改变所述遮盖物的开孔对准的待标记区域，且在所述第一相对运动和所述第二相对运动的过程中，所述物镜对准的待检测区域与所述遮盖物的开孔对准的待标记区域始终保持对应。可选地，所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应包括：每个待标记区域和与其对应的一个待检测区域具有相同的形状和尺寸，且每个待标记区域在所述第二图案中的位置坐标和与其对应的一个待检测区域在所述第一图案中的位置坐标相同。可选地，所述缺陷检测系统还包括：载物台，所述载物台用于承载所述待检测物和所述待标记物。可选地，所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动包括：所述物镜和所述遮盖物的开孔各自的空间位置保持不变，所述待检测物和所述待标记物能够沿所述水平方向同步移动。可选地，所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动包括：所述待检测物和所述待标记物各自的空间位置保持不变，所述物镜和所述遮盖物的开孔能够沿所述水平方向同步移动。可选地，所述缺陷检测系统还包括运动控制装置，所述运动控制装置用于控制所述待检测物和所述待标记物沿所述水平方向的同步移动。可选地，所述缺陷检测系统还包括运动控制装置，所述运动控制装置用于控制所述物镜和所述遮盖物的开孔沿所述水平方向的同步移动。可选地，所述遮盖物的开孔的尺寸大于或等于所述多个待检测区域的平均尺寸、且小于所述多个待检测区域的平均尺寸的两倍。可选地，所述待检测区域、所述待标记区域、和所述遮盖物的开孔三者的形状和尺寸均相同。可选地，所述遮盖物的开孔的尺寸可以调节；和/或，所述开孔在所述遮盖物上的位置可以调节。可选地，所述遮盖物由半透明或透明材料形成。可选地，所述遮盖物的材料为硬塑料。可选地，所述遮盖物与所述待标记物之间有预设距离。可选地，所述显微成像装置包括光学显微镜，所述光学显微镜还包括目镜。可选地，所述显微成像装置还包括图像采集器，所述图像采集器用于采集所述物镜透射的携带有所述待检测区域的表面信息的光束。可选地，所述待检测物为晶圆，所述晶圆包括多个裸片，每个裸片为一个待检测区域。可选地，所述待标记物为纸张或硬纸板，所述多个待标记区域通过绘图的方式形成于所述纸张或硬纸板上。相应地，本专利技术实施例还提供一种采用本专利技术实施例的缺陷检测系统的缺陷检测方法，包括：步骤一：将所述显微成像装置的物镜与所述待检测物的某一待检测区域进行初始对准，将所述遮盖物的开孔与所述待标记物的某一待标记区域进行初始对准，所述某一待检测区域和所述某一待标记区域相对应；步骤二：采用所述显微成像装置对位于所述物镜当前视场内的待检测区域进行显微成像，并根据所述显微成像的结果，判定位于所述物镜当前视场内的待检测区域是否存在缺陷，若存在缺陷，则在所述遮盖物的开孔暴露出的待标记区域作标记，所述被标记的待标记区域与所述存在缺陷的待检测区域相对应；步骤三：控制所述物镜和所述待检测物沿水平方向作第一相对运动，以改变所述物镜对准的待检测区域，控制所述遮盖物的开孔和所述待标记物沿所述水平方向作第二相对运动，以改变所述遮盖物的开孔对准的待标记区域，在所述第一相对运动和所述第二相对运动的过程中，所述物镜对准的待检测区域与所述遮盖物的开孔对准的待标记区域始终保持对应；以及重复执行上述步骤二和步骤三，直至所述待检测物的每个待检测区域均已完成缺陷检测。可选地，在执行所述步骤二之前，所述缺陷检测方法还包括：对所述待检测物和所述待标记物进行调平，使得所述待检测物的表面和所述待标记物的表面均平行于所述水平方向。可选地，在执行所述步骤一之前，所述缺陷检测方法还包括：将所述待检测物和所述待标记物放置于载物台上。可选地，在所述步骤三中，控制所述物镜和所述待检测物沿所述水平方向作第一相对运动，控制所述遮盖物的开孔和所述待标记物沿所述水平方向作第二相对运动包括：控制所述物镜和所述遮盖物的开孔各自的空间位置保持不变，控制所述待检测物和所述待标记物沿所述水平方向同步移动。可选地，在所述步骤三中，控制所述物镜和所述待检测物沿所述水平方向作第一相对运动，控制所述遮盖物的开孔和所述待标记物沿所述水平方向作第二相对运动包括：控制所述待检测物和所述待标记物的空间位置保持不变，控制所述物镜和所述遮盖物的开孔沿所述水平方向同步移动。可选地，控制所述物镜和所述遮盖物的开孔沿所述水平方向同步移动包括：所述开孔在所述遮盖物上的位置固定不变，控制所述物镜和所述遮盖物沿所述水平方向同步移动。可选地，所述开孔在所述遮盖物上的位置可以调节，控制所述物镜和所述遮盖物的开孔沿所述水平方向同步移动包括：控制所述遮盖物的空间位置保持不变，控制所述物镜和所述开孔沿所述水平方向同步移动。可选地，所述遮盖物的开孔的尺寸可以调节，在执行所述步骤一之前，所述缺陷检测方法还包括：调节所述开孔的尺寸大于或等于所述待检测物的多个待检测区域的平均尺寸、且小于所述多个待检测区域的平均尺寸的两倍。与现有技术相比，本专利技术实施例的技术方案具有以下有益效果：本专利技术实施例的缺陷检测系统包括缺陷检测模块和缺陷标记模块，所述缺陷检测模块中的显微成像装置能够对所述待检测物的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种缺陷检测系统，其特征在于，包括：缺陷检测模块，包括：显微成像装置，所述显微成像装置用于对待检测物的多个待检测区域分别进行显微成像，所述多个待检测区域在所述待检测物的表面排列形成第一图案；以及缺陷标记模块，包括：待标记物，所述待标记物包括多个待标记区域，所述多个待标记区域在所述待标记物的表面排列形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同，且所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应；以及遮盖物，所述遮盖物与所述待标记物的表面相对设置，所述遮盖物上设置有开孔，所述开孔暴露出所述待标记物的至少一个待标记区域。

【技术特征摘要】
1.一种缺陷检测系统，其特征在于，包括：缺陷检测模块，包括：显微成像装置，所述显微成像装置用于对待检测物的多个待检测区域分别进行显微成像，所述多个待检测区域在所述待检测物的表面排列形成第一图案；以及缺陷标记模块，包括：待标记物，所述待标记物包括多个待标记区域，所述多个待标记区域在所述待标记物的表面排列形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同，且所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应；以及遮盖物，所述遮盖物与所述待标记物的表面相对设置，所述遮盖物上设置有开孔，所述开孔暴露出所述待标记物的至少一个待标记区域。2.如权利要求1所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述显微成像装置包括物镜，所述物镜与所述待检测物的表面相对设置，所述待检测物的表面和所述待标记物的表面均沿水平方向延伸，所述物镜初始对准的待检测区域与所述遮盖物的开孔初始对准的待标记区域相对应；所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，以改变所述物镜对准的待检测区域，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动，以改变所述遮盖物的开孔对准的待标记区域，且在所述第一相对运动和所述第二相对运动的过程中，所述物镜对准的待检测区域与所述遮盖物的开孔对准的待标记区域始终保持对应。3.如权利要求1所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述多个待标记区域与所述多个待检测区域一一对应包括：每个待标记区域和与其对应的一个待检测区域具有相同的形状和尺寸，且每个待标记区域在所述第二图案中的位置坐标和与其对应的一个待检测区域在所述第一图案中的位置坐标相同。4.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，还包括：载物台，所述载物台用于承载所述待检测物和所述待标记物。5.如权利要求2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动包括：所述物镜和所述遮盖物的开孔各自的空间位置保持不变，所述待检测物和所述待标记物能够沿所述水平方向同步移动。6.如权利要求2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述物镜和所述待检测物能够沿所述水平方向发生第一相对运动，所述遮盖物的开孔和所述待标记物能够沿所述水平方向发生第二相对运动包括：所述待检测物和所述待标记物各自的空间位置保持不变，所述物镜和所述遮盖物的开孔能够沿所述水平方向同步移动。7.如权利要求5所述的缺陷检测系统，其特征在于，还包括运动控制装置，所述运动控制装置用于控制所述待检测物和所述待标记物沿所述水平方向的同步移动。8.如权利要求6所述的缺陷检测系统，其特征在于，还包括运动控制装置，所述运动控制装置用于控制所述物镜和所述遮盖物的开孔沿所述水平方向的同步移动。9.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述遮盖物的开孔的尺寸大于或等于所述多个待检测区域的平均尺寸、且小于所述多个待检测区域的平均尺寸的两倍。10.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述待检测区域、所述待标记区域、和所述遮盖物的开孔三者的形状和尺寸均相同。11.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述遮盖物的开孔的尺寸可以调节；和/或，所述开孔在所述遮盖物上的位置可以调节。12.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述遮盖物由半透明或透明材料形成。13.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述遮盖物的材料为硬塑料。14.如权利要求1或2所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述遮盖物与所述待标记物之间有预设距离。15.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄高，刘昌江，田茂，宋闯，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32