流体摩擦式离合器制造技术

本发明专利技术涉及一种流体摩擦式离合器，具有一个壳体（１０，１８）并具有一个离合器片（３２），该离合器片安排为相对于该壳体（１０，１８）可旋转并且在旋转意义上固定地安排在一根轴（３４）的一端上，该轴安装在该壳体内中心处，该轴（３４）在其另一端处支撑由该离合器驱动的一个主动元件，其中，能够由离合器流体加压的一个工作室（３０）形成于该壳体（１０，１８）与该离合器片（３２）之间，它具有形成在该壳体（１０，１８）中的用于该离合器流体的一个储液室（２０）、并具有从所述储液室（２０）通向该工作室（３０）的一条供应管道（２２），还具有用于使该离合器流体从该工作室（３０）返回到该储液室（２０）中的一个反向泵送系统，其中，在该供应管道（２２）中安排了用于控制供应到该工作室（３０）中的离合器流体的一个阀门安排。为了能够在所有条件下以一种可靠的方式维持一个预定标称旋转速度，根据本发明专利技术提出将该壳体（１０、１８）连接于一个驱动元件（１２），安排成可相对于一个静止的离合器部分（１６）旋转并形成该离合器的初级侧，其中，当该从动壳体（１０、１８）旋转时，从该储液室（２０）流出的离合器流体穿过从该储液室大体径向朝外延伸的该供应管道（２２）进入该工作室（３０）中，并且在于该壳体（１０、１８）与该离合器片（３２）的外缘之间形成有一个径向间隙，并且还在于该反向泵送系统包括用于该离合器流体的一个刮擦元件（３８），该刮擦元件被安排在该静止的离合器部分（１６）的该离合器片（３２）背对该工作室（３０）的一侧上，该刮擦元件（３８）具有与该储液室（２０）流体流体相通的一个管道（４０）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体摩擦式离合器本专利技术涉及一种流体摩擦式离合器，该流体摩擦式离合器具有 一个 壳体和一个离合器片，该离合器片安排成相对于该壳体可旋转并且在旋转意义上固定地安排在一根轴的一端上，该轴安装在该壳体内中心处， 并且该轴在其另一端处支撑由该离合器驱动的一个主动元件，其中，能 够由离合器流体加压的 一个工作室形成于该壳体与该离合器片之间，它 具有形成在该壳体中的用于该离合器流体的 一个储液室、并具有从所述 储液室通向该工作室的 一条供应管道，还具有用于使该离合器流体从该 工作室返回到该储液室中的一个反向泵送系统，其中，在该供应管道中 安排了用于控制供应到该工作室中的离合器流体的 一个阀门安排。在所述类型的一种离合器中，扭矩传递是取决于在该工作室中的离 合器流体的量。如果该工作室中存在小量流体，那么初级与次级侧之间 的滑动程度相对较大，该滑动随着工作室的不断充满而减小。该主动部 件的旋转速度相应地变化。为了确保该次级侧的一个恒定的旋转速度， 也就是说为了确保该次级侧的一个稳定的工作点，不管初级侧的旋转速 度如何，流进和流出该工作室的离合器流体的相对体积流量必须始终相 等。因此，用于该离合器流体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体摩擦式离合器，具有一个壳体（１０，１８）并具有一个离合器片（３２），该离合器片安排为相对于该壳体（１０，１８）可旋转并且在旋转意义上固定地安排在一根轴（３４）的一端上，该轴安装在该壳体内中心处，该轴（３４）在其另一端处支撑由该离合器驱动的一个主动元件，其中，能够由离合器流体加压的一个工作室（３０）形成于该壳体（１０，１８）与该离合器片（３２）之间，它具有形成在该壳体（１０，１８）中的用于该离合器流体的一个储液室（２０）、并具有从所述储液室（２０）通向该工作室（３０）的一条供应管道（２２），还具有用于使该离合器流体从该工作室（３０）返回到该储液室（２０）中的一个反向泵送系统，其中，在该供...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T布赫霍尔茨，
申请(专利权)人：博格华纳公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]