【技术实现步骤摘要】
一种清洗镀膜机
本技术涉及清洗镀膜机。技术背景随着电子产品对镀膜的质量要求的提升，在镀膜工序之前需要添加等离子清洗工序对产品进行清洗以提高镀膜质量。现有的用于聚对二甲苯镀膜的真空镀膜机和等离子清洗机是两台独立的设备，在配合过程中存在如下问题：1、需要将待镀件放入等离子清洗机的腔体内抽真空后打等离子体清洗产品表面，再恢复常压后取出待镀件放入真空镀膜机的腔体内再抽真空到指定真空值后开始镀膜。多次抽真空的操作，耗时长，影响加工处理效率，并且随着时间的延长，等离子清洗的效果减弱。2、两种设备在配合处理过程中，待镀件需要在不同腔体间转移、搬运和重新排布，容易受到环境及操作人员的二次污染，影响等离子清洗的效果。为了解决上述存在的缺陷，中国专利技术申请201510449218.X，一种低应力的各项同性有机物填充的装置及方法中公开了一种将抽真空与镀膜集成一体的装置，其在蒸发室内的样品夹具托盘的正上方设置等离子清洗源，解决了上述缺陷，但是其等离子清洗得到的待镀件表面的达因值不高，从而导致等离子清洗后的待镀件的表面亲水性以及镀膜后的膜层附着力不佳。
技术实现思路
本技术所要解决的技术...
【技术保护点】
1.一种清洗镀膜机，包括依次连通的粉体气化炉、高温裂解炉、处理腔、冷阱以及真空泵，所述高温裂解炉与处理腔之间通过粉体阀门连通，所述处理腔内设有用于摆放待镀件的可转动托架组件以及等离子清洗组件，其特征在于，还包括：若干组气体罐组，每组所述气体罐组均包括一气体罐以及一气体阀门，所述气体罐通过所述气体阀门与所述处理腔的内部连通；中控器，所述中控器分别与所述粉体气化炉、高温裂解炉、粉体阀门、可转动托架组件、冷阱、真空泵和等离子清洗组件连接；所述等离子清洗组件包括：等离子控制器、等离子正极板与等离子负极板，所述等离子正极板与等离子负极板分别设置于所述可转动托架组件的两侧，所述等离子控...
【技术特征摘要】
1.一种清洗镀膜机，包括依次连通的粉体气化炉、高温裂解炉、处理腔、冷阱以及真空泵，所述高温裂解炉与处理腔之间通过粉体阀门连通，所述处理腔内设有用于摆放待镀件的可转动托架组件以及等离子清洗组件，其特征在于，还包括：若干组气体罐组，每组所述气体罐组均包括一气体罐以及一气体阀门，所述气体罐通过所述气体阀门与所述处理腔的内部连通；中控器，所述中控器分别与所述粉体气化炉、高温裂解炉、粉体阀门、可转动托架组件、冷阱、真空泵和等离子清洗组件连接；所述等离子清洗组件包括：等离子控制器、等离子正极板与等离子负极板，所述等离子正极板与等离子负极板分别设置于所述可转动托架组件的两侧，所述等离子控制器...
【专利技术属性】
技术研发人员：钦晔，
申请(专利权)人：苏州凯瑞纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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