【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜机冷却装置
本技术设计一种磁控溅射镀膜机冷却装置，属于冷却装置
技术介绍
磁控溅射属于物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种，磁控溅射镀膜机包括放置靶材的阴极和放置基片的阳极，通过在靶材下方放置永磁体组引入磁场，与靶材和基片间的电场形成电磁场。在溅射的过程中，充入溅射镀膜室内的惰性气体在电场作用下电离，离子在电场和靶材附近的磁场作用下，高速轰击靶材，使靶材表面的原子溅射出，溅射出的原子在基片表面沉积成膜。由于离子高速轰击靶材，会在靶材处产生热量，如不及时将热量导出，会对溅射产生不良影响，影响镀膜质量。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种磁控溅射镀膜机冷却装置，用于在保证靶材表面磁场分布的前提下，解决靶材的冷却问题。为达到上述目的，本使用新型使采用下述技术方案实现的：本技术提供一种磁控溅射镀膜机冷却装置，包括设置于镀膜机靶材下方的冷却背板、设置于冷却背板和永磁体组之间的冷却室；进一步的，所述冷却室内设置有多个冷却水管道组，所述冷却水管道组包括平铺的第一冷却水管道，以及经过永磁体间隙处的第二冷却水管道，优...
【技术保护点】
1.一种磁控溅射镀膜机冷却装置，其特征在于，包括设置于镀膜机靶材下方的冷却背板、设置于冷却背板和永磁体组之间的冷却室；所述冷却室内设置有多个冷却水管道，所述冷却水管道包括平铺的第一冷却水管道，以及经过永磁体组间隙处的第二冷却水管道。
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜机冷却装置，其特征在于，包括设置于镀膜机靶材下方的冷却背板、设置于冷却背板和永磁体组之间的冷却室；所述冷却室内设置有多个冷却水管道，所述冷却水管道包括平铺的第一冷却水管道，以及经过永磁体组间隙处的第二冷却水管道。2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜机冷却装置，其特征在于，所述冷却背板与永磁体端面对应处设置有软磁材料段。3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜机冷却装置，其特征在于，所述软磁材料段包括表面镀有防腐材料的坡莫合金。4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜机冷却装置，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋贵霞，贾建国，
申请(专利权)人：昆山英利悦电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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