一种阴极支座装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种阴极支座装置，涉及磁控溅射技术领域。其包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。本实用新型专利技术提供了提供一种阴极支座装置，可以提升其导电性能和散热性能，并降低成本。

A Cathode Support Device

【技术实现步骤摘要】
一种阴极支座装置
本技术涉及磁控溅射镀膜
，特别是涉及一种阴极支座装置。
技术介绍
磁控溅射技术广泛应用于五金装饰、光学玻璃镀膜、薄膜太阳能、纳米功能薄膜、硬质涂层等领域，是物理气相沉积(PVD)技术中应用最为广泛一种通过辉光放电离化的荷能粒子在电场作用下轰击靶材表面，靶材原子经过级联碰撞能量传递后，获得能量，溢出靶材表面沉积在基片表面上形成薄膜或涂层。溅射过程中，等离子体内的电子的主要作用是在磁场的作用下，进行螺旋运动，并在运动过程中对惰性气体进行活化及离化，离华后的惰性气体粒子进行溅射；然而磁控溅射过程中辉光放电的电流密度(等离子体密度)较低，产生的电子能维持对惰性气体的活化及离化，对于溅射出来的原子不能很好的离化，常规的磁控溅射溅射原子的离化率不高于10％。为提升磁控溅射沉积粒子的能量，在现有磁控溅射阴极的基础上需要做以下工作：一方面就需要提升阴极体的冷却效果，另一方面也要保证电子通道的畅通。目前的磁控溅射镀膜设备的阴极通常都是不锈钢与黄铜组合式装配而成，一方面增加了加工成本，同时不锈钢的散热差、导电也差；还需要四氟等绝缘件对其进行电位悬浮，另一方面不锈钢密度大，造成阴极组件重量重，维护保养困难。
技术实现思路
本技术的一个目的是要提供一种阴极支座装置，以提升其导电性能和散热性能，并降低成本。本技术的另一个目的是要提供一种阴极支座装置，降低其重量，以便于拆卸保养。特别地，本技术提供了一种阴极支座装置，用于将溅射靶材密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，其特征在于，包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。可选地，所述导电件与所述法兰板间绝缘设置。可选地，所述导电件为铜条、铝条及以铜铝为基材进行镀银、镀金、表面石墨化处理的条状导体。可选地，所述导电件为封闭环形。可选地，所述导电螺栓为铜制成。可选地，所述铜片与所述端面密封并导电连接。可选地，所述导电螺栓与所述阴极体连接，并通过绝缘套与法兰板电位绝缘。可选地，所述阴极体采用铝材一体化制成。可选地，所述阴极体的表面制备有绝缘层。可选地，所述阴极体的表面的绝缘层为经过阳极氧化或微弧氧化工艺制备的氧化铝层。本技术提供的一种阴极支座装置，其包括法兰板和阴极体，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材的冷却。通过导电件、导电螺栓以及铜片的设置，提高其导电性能，且冷却水腔的设置既能提高铜片与靶材间的导电性能，还能提高散热效果。本技术提供的一种阴极支座装置，通过利用材质铝进行一体化制备，并使用阳极氧化、微弧氧化工艺做绝缘，使得其具有较好的导电性能和散热性能，并降低重量和成本，方便进行维护保养。根据下文结合附图对本技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本技术的上述以及其他目的、优点和特征。附图说明后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本技术的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。附图中：图1是根据本技术一个实施例的一种阴极支座装置的示意性结构图；图2是根据图1所示的一种阴极支座装置的示意性左视图；图3是根据图2所示的一种阴极支座装置的示意性纵剖面图；图4是根据图1所示的一种阴极支座装置的示意性主视图；图5是根据图4所示的一种阴极支座装置的示意性纵剖面图。具体实施方式图1是根据本技术一个实施例的一种阴极支座装置的示意性结构图。图2是根据图1所示的一种阴极支座装置的示意性左视图。图3是根据图2所示的一种阴极支座装置的示意性纵剖面图。图4是根据图1所示的一种阴极支座装置的示意性主视图。图5是根据图4所示的一种阴极支座装置的示意性纵剖面图。如图1-图5所示，一种阴极支座装置，用于将靶材9密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，一般地可以包括：法兰板1和阴极体3。法兰板1具有第一面11和第二面12。第二面12用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁。第二面12与外壁间设有绝缘板2。第一面11设有导电件4。阴极体3与第二面12间隔绝缘板2设置。阴极体3为U形形状。阴极体3与第二面12间通过带有绝缘套5的导电螺栓6固定并电连接。阴极体3的远离第二面12的端面31设有铜片7。铜片7与端面31间设有冷却水腔32。冷却水腔32通过穿设于阴极体3的进出水管8连通外部。铜片7上用于安装靶材9。具体地，导电件4与法兰板1间通过绝缘套5绝缘设置。导电件4为铜条、铝条及以铜铝为基材进行镀银、镀金、表面石墨化处理的条状导体。可选地，导电件4为封闭环形，以环绕在法兰板1的第一面11上。可选地，导电螺栓6为铜制成。法兰板1上设有安装孔，导电件4通过带有绝缘套5的导电螺栓6穿过安装孔后与阴极体3固定连接，并且导电件4与阴极体3之间电连接，且具有较好的导电性。铜片7上安装靶材9，使得导电件4与铜片7之间具有极好的导电性，并能够保证铜片7以及靶材9各部位的电位完全一致，从而提高靶材放电时的稳定性。同时，在法兰板1的端面31上密封固定有薄铜片7。薄铜片7与法兰板1的端面31之间设有冷却水腔32，冷却水腔32与通过穿设于阴极体3的进出水管8连通外部。铜片7上安装靶材9。冷却水腔32的设置使得冷却水能够直接对铜片7进行冷却降温。同时冷却水腔32的设置还使得当冷却水腔32内通入冷却水后，薄铜片7在水压的作用下，更加向靶材9靠近，以使得薄铜片7与靶材9接触更加紧密，既能同时提高对靶材9的导电性能，还能够提高对靶材9的散热性能。在一个具体的实施方式中，导电螺栓6可以与铜片7直接接触并电连接，以进一步提高其导电性，使得靶材9各部位的电位更加一致，提高放电稳定性。本技术提供的一种阴极支座装置，阴极体3采用铝材一体化制成。阴极体3的表面制备有绝缘层。可选地，阴极体的表面经过阳极氧化、微弧氧化工艺以制备出氧化铝的绝缘层。铝材一体化制成的阴极体3，使得其质量较轻，且其阳极氧化、微弧氧化工艺以制备出氧化铝的绝缘层，使得可以减少绝缘板层的使用，进一步降低阴极支座装置的质量，简化其结构，使其在拆卸维护保养过程中，更加方便。本技术提供的一种阴极支座装置，其包括法兰板和阴极体，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阴极支座装置，用于将溅射靶材密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，其特征在于，包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。

【技术特征摘要】
1.一种阴极支座装置，用于将溅射靶材密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，其特征在于，包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。2.根据权利要求1所述的阴极支座装置，其特征在于，所述导电件与所述法兰板间绝缘设置。3.根据权利要求1所述的阴极支座装置，其特征在于，所述导电件为铜条、铝条及以铜铝...

【专利技术属性】
技术研发人员：郎文昌，刘俊红，刘伟，胡晓忠，
申请(专利权)人：苏州艾钛科纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32