【技术实现步骤摘要】
一种阴极支座装置
本技术涉及磁控溅射镀膜
，特别是涉及一种阴极支座装置。
技术介绍
磁控溅射技术广泛应用于五金装饰、光学玻璃镀膜、薄膜太阳能、纳米功能薄膜、硬质涂层等领域，是物理气相沉积(PVD)技术中应用最为广泛一种通过辉光放电离化的荷能粒子在电场作用下轰击靶材表面，靶材原子经过级联碰撞能量传递后，获得能量，溢出靶材表面沉积在基片表面上形成薄膜或涂层。溅射过程中，等离子体内的电子的主要作用是在磁场的作用下，进行螺旋运动，并在运动过程中对惰性气体进行活化及离化，离华后的惰性气体粒子进行溅射；然而磁控溅射过程中辉光放电的电流密度(等离子体密度)较低，产生的电子能维持对惰性气体的活化及离化，对于溅射出来的原子不能很好的离化，常规的磁控溅射溅射原子的离化率不高于10％。为提升磁控溅射沉积粒子的能量，在现有磁控溅射阴极的基础上需要做以下工作：一方面就需要提升阴极体的冷却效果，另一方面也要保证电子通道的畅通。目前的磁控溅射镀膜设备的阴极通常都是不锈钢与黄铜组合式装配而成，一方面增加了加工成本，同时不锈钢的散热差、导电也差；还需要四氟等绝缘件对其进行电位悬浮，另一方面不...
【技术保护点】
1.一种阴极支座装置，用于将溅射靶材密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，其特征在于，包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。
【技术特征摘要】
1.一种阴极支座装置，用于将溅射靶材密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，其特征在于，包括：法兰板，所述法兰板具有第一面和第二面，所述第二面用于通过螺栓密封安装于磁控溅射镀膜设备的外壁，所述第二面与所述外壁间设有绝缘板；所述第一面设有导电件；阴极体，与所述第二面间隔所述绝缘板设置，所述阴极体为U形形状，所述阴极体与所述第二面间通过带有绝缘套的导电螺栓固定并电连接；所述阴极体的远离所述第二面的端面设有铜片，所述铜片与所述端面间设有冷却水腔，所述冷却水腔通过穿设于所述阴极体的进出水管连通外部，所述铜片上用于安装靶材。2.根据权利要求1所述的阴极支座装置，其特征在于，所述导电件与所述法兰板间绝缘设置。3.根据权利要求1所述的阴极支座装置，其特征在于，所述导电件为铜条、铝条及以铜铝...
【专利技术属性】
技术研发人员：郎文昌，刘俊红，刘伟，胡晓忠，
申请(专利权)人：苏州艾钛科纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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