【技术实现步骤摘要】
一种分体式靶材屏蔽罩
本技术涉及屏蔽罩
,尤其涉及一种分体式靶材屏蔽罩。
技术介绍
在真空磁控溅射的工作过程中,电子受到电磁场的作用向阳极靠近,其运动轨迹为旋轮线,电子向阳极运动的过程中与氩原子发生了电离碰撞,生成的氩离子在电场力的作用下加速飞向阴极靶材,并以高能量轰击靶材,发生溅射效果。为确保在磁控溅射过程中沉积薄膜的纯度,需在平面靶材侧面四周及靶材表面非靶材区域添加阳极屏蔽罩。现有平面靶材的屏蔽罩为分体结构,屏蔽罩内壁设有绝缘块,用来隔绝屏蔽罩与靶材,以免靶材与屏蔽罩接触造成电弧,烧坏靶材。但是靶材在工作的过程中需要转动,其工作温度最高可达200℃,高温会使绝缘块损坏,导致靶材在转动时接触到屏蔽罩,从而造成异常放电和因两者接触摩擦而产生微颗粒,进而影响靶材的安全和溅射镀膜的效果。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足,本技术提供一种可调节内腔大小的靶材屏蔽罩。本技术解决其技术问题所采用的技术方案为:一种分体式靶材屏蔽罩,包括第一本体和第二本体,所述第一本体设有承口部,所述第二本体设有插接部,第一本体和第二本体通过承口部和插接部进行承插连接并形成可罩扣在靶材上的罩体。作为上述技术方案的改进,所述承口部的底部设有止挡部。作为上述技术方案的改进,所述罩体的内腔室与所述靶材的形状相匹配。作为上述技术方案的改进,所述第一本体和第二本体均为顶端设有端盖的半圆柱形壳体,所述罩体由两个所述半圆柱形壳体拼接而成。作为上述技术方案的改进,所述第一本体和第二本体均在内部设有半环形槽。作为上述技术方案的改进,所述第一本体和第二本体均在底端设有半环形凸缘。作为上述技术方案的改 ...
【技术保护点】
1.一种分体式靶材屏蔽罩,其特征在于:包括第一本体(1)和第二本体(2),所述第一本体(1)设有承口部(11),所述第二本体(2)设有插接部(21),第一本体(1)和第二本体(2)通过承口部(11)和插接部(21)进行承插连接并形成可罩扣在靶材上的罩体。
【技术特征摘要】
1.一种分体式靶材屏蔽罩,其特征在于:包括第一本体(1)和第二本体(2),所述第一本体(1)设有承口部(11),所述第二本体(2)设有插接部(21),第一本体(1)和第二本体(2)通过承口部(11)和插接部(21)进行承插连接并形成可罩扣在靶材上的罩体。2.根据权利要求1所述的一种分体式靶材屏蔽罩,其特征在于:所述承口部(11)的底部设有止挡部(12)。3.根据权利要求1所述的一种分体式靶材屏蔽罩,其特征在于:所述罩体的内腔室与所述靶材的形状相匹配。4.根据权利要求1所述的一种分体式靶材屏蔽罩,其特征在于:所述第一本体(1)和第二本体(2)均为顶端设有端盖的半圆柱形壳体,所述罩体由两个半圆柱形壳体拼接而成。...
【专利技术属性】
技术研发人员:周磊,张竞中,段琳琳,龚红辉,张晓东,
申请(专利权)人:珠海和泽科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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