同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用制造技术

技术编号:22017067 阅读:43 留言:0更新日期:2019-09-04 00:04
本发明专利技术属于信息存储技术领域,具体涉及一种同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用。本发明专利技术还提供了基于石墨烯材料构造三态阻变存储器件的方法。本发明专利技术中器件由底电极,基于高分子修饰石墨烯材料的活性层以及顶点极构成,其中高分子具有给体和受体两种类型基团。对该存储器件施加不同的电压时,该器件表现出三种不同的电阻状态,具有存储功能。由于施加电压时存储器件表现为三种电阻态,相对于双稳态器件,该器件存储密度从2

Polymer Covalently Modified Graphite Materials with Donor and Receptor Groups and Their Preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用
本专利技术属于高分子修饰石墨烯及其在信息存储技术应用领域,具体涉及了同时含有电子给体和电子受体的高分子的制备方法,同时还涉及这种高分子共价修饰石墨烯制备复合材料的方法,并提供了基于石墨烯材料构造三态阻变存储器件的方法。
技术介绍
随着互联网、移动网、GPS、气象监控、安全监控、媒体等行业的飞速发展,近年来信息量发生了爆炸式增长。正如亚马逊前任首席科学家AndreasWiegand说,“数据是新的石油”,若能及时对数据进行挖掘和运用,将产生巨大的效益。而要实现对数据的挖掘和运用,首先要对数据进行及时的存储和处理。过去几十年,电子设备始终沿着摩尔定律发展,即价格不变的情况下,性能每隔18-24个月提高一倍。为了实现性能每隔18-24个月提高一倍的目标,半导体工业通常通过降低硅电路中的元件尺寸来提升性能,但是单一芯片上集成元件的尺寸不能无限制小下去,一方面当尺寸过度降低时,会增强电路间的串扰失真,另一方面,制备成本也会随着尺寸的减小而急剧增加。2016年2月,Nature发文说明摩尔定律将面临极限。除了摩尔定律极限外,冯·诺本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料,其特征在于,其结构式如下式复合材料PVK‑AZO‑GO所示:

【技术特征摘要】
1.同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料,其特征在于,其结构式如下式复合材料PVK-AZO-GO所示:R为高分子PVK-AZO-NH2;x=y,约为89;复合材料PVK-AZO-GO。2.根据权利要求1所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料,其特征在于,所述同时具有给体和受体基团的高分子为PVK-AZO-NH2,其结构式如下式:其中x=y,约为89。3.一种权利要求1所述同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在冰浴条件下,将4-硝基苯胺、浓盐酸和亚硝酸钠混合制备重氮盐;然后在4℃条件下,向混合物加入十二烷基苯磺酸钠和PVK(聚乙烯咔唑,Mn~48000,Mw/Mn~2)的硝基苯溶液进行反应,分离提纯得到产物PVK-AZO-NO2;Mn=4.8×104,PDI=2.3高分子PVK-AZO-NO22)将PVK-AZO-NO2,硫化钠加入到四氢呋喃和水体积比5:1溶液中回流反应,分离提纯得到产物PVK-AZO-NH2;3)将氧化石墨烯(GO)加入到含有催化量DMF的氯化亚砜溶剂中回流反应24h,减压蒸馏除去溶剂,然后在N2氛围中加入高分子PVK-AZO-NH2,三乙胺和溶剂DMF反应,分离提纯得到复合材料PVK-AZO-G...

【专利技术属性】
技术研发人员:张斌李东奇樊菲赵智峥陈彧
申请(专利权)人:华东理工大学
类型:发明
国别省市:上海,31

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