薄膜沉积装置及系统制造方法及图纸

技术编号:21747550 阅读:67 留言:0更新日期:2019-08-01 02:43
本实用新型专利技术公开了薄膜沉积装置及系统,涉及薄膜沉积技术领域。本实用新型专利技术提供的薄膜沉积装置包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件。沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,升降机构使沉积室升降,沉积室能够与水平底座密封连接并围成密封的沉积空间。沉积室设置有第一进气口和第二进气口,混气组件与第一进气口密封连接,抽真空组件与第二进气口密封连接。加热组件包括均位于沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱。本实用新型专利技术还提供一种包括薄膜沉积装置的薄膜沉积系统。本实用新型专利技术提供的薄膜沉积装置及系统装配方便,具有良好的沉积速度和均匀性,能够保证金刚石薄膜产品的质量,也能够保证电热丝的使用寿命。

Thin Film Deposition Device and System

【技术实现步骤摘要】
薄膜沉积装置及系统
本技术涉及薄膜沉积
,具体而言,涉及薄膜沉积装置及系统。
技术介绍
金刚石是一种特殊的物质材料,不仅具有非常稳定的化学性质,而且硬度在固体材料中最高。现有的热丝化学气相沉积金刚石薄膜的装置中的热丝加热到一定温度后,会因受热发生弯曲、变形现象,甚至损坏,从而降低了热丝的使用寿命。并且,现有装置装配过程也较为复杂,不便于作业人员装配。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种薄膜沉积装置,其装配方便,具有良好的沉积速度和均匀性,能够保证金刚石薄膜产品的质量,也能够保证电热丝的使用寿命。本技术提供一种关于薄膜沉积装置的技术方案:一种薄膜沉积装置,包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。进一步地,所述电热丝包括发热体和二导电连接件,所述发热体的两端设置于二所述导电连接件上,二所述导电连接件分别与二所述导电支撑柱可拆卸地连接。进一步地,所述导电支撑柱设置有安装通孔,所述安装通孔的孔径尺寸大于或等于所述导电连接件的尺寸,所述导电连接件伸入所述安装通孔并与所述安装通孔的内壁电性连接。进一步地,所述安装通孔的内壁上设置有至少一导电弹片,所述导电弹片与所述导电连接件抵持。进一步地,所述沉积组件还包括均位于所述沉积空间内的通气管和设置于所述通气管上的多个喷头,所述通气管与所述第一进气口连通,多个所述喷头均匀间隔地设置于所述通气管上,且所述喷头朝向所述电热丝设置。进一步地,所述混气组件包括混气室和气体流量计,所述混气室与所述第一进气口密封连接,所述气体流量计设置于所述混气室与所述第一进气口之间并用于检测所述第一进气口的进气量。进一步地,所述抽真空组件包括真空泵和截止阀,所述真空泵与所述第二进气口密封连接,所述截止阀设置于所述真空泵与所述截止阀之间。进一步地,所述沉积室为立方体结构并采用透明材料制成。进一步地,所述薄膜沉积装置还包括水平仪和报警装置,所述水平仪设置于所述水平底座上并与所述报警装置电连接。本技术的另一目的在于提供一种薄膜沉积系统,其高度可根据实际需要灵活地定制,同时重量较轻,使用更加便捷。本技术还提供一种关于薄膜沉积系统的技术方案:一种薄膜沉积系统,包括薄膜沉积装置。薄膜沉积装置包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。相比现有技术,本技术提供的薄膜沉积装置及系统的有益效果是:沉积室的作用是为薄膜沉积提供反应场所,在进行反应时其为密封环境。设置在沉积室侧壁上的第一进气口与混气组件密封连接,以通过混气组件向沉积室内提供所需气体;通常通入的气体为CH4(甲烷)和H2(氢气)设置在沉积室侧壁上的第二进气口与抽真空组件密封连接,以通过抽真空组件对沉积室抽取真空,进而保证反应环境的真空要求。电热丝通过导电支撑柱设置在沉积室内,导电支撑柱在导电后,能够使电热丝发热,以提供反应所需要的高温环境。通常温度在2000~2500摄氏度。升降机构的作用是带动沉积室作升降运动,便于沉积室的装配和拆卸,进而便于实验的操作。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。应当理解,以下附图仅示出了本技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定。对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本技术的实施例提供的薄膜沉积装置的结构示意图;图2为本技术的实施例提供的沉积室的结构示意图;图3为本技术的实施例提供的电热丝的结构示意图;图4为本技术的实施例提供的电热丝与导电支柱的结构示意图;图5为图4中V处的放大结构示意图。图标:10-薄膜沉积装置;100-水平底座;200-沉积组件;201-第一进气口;202-第二进气口;210-沉积室;220-支架;230-基片台;240-衬底;250-升降机构;260-通气管;270-喷头;300-加热组件;310-电热丝;311-发热体;312-导电连接件;320-导电支撑柱;321-安装通孔;322-导电弹片;400-混气组件;410-混气室;420-气体流量计;500-抽真空组件;510-真空泵;520-截止阀。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围,而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本技术的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,“设置”、“连接”等术语应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜沉积装置,其特征在于,包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉积装置,其特征在于,包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置,其特征在于,所述电热丝包括发热体和二导电连接件,所述发热体的两端设置于二所述导电连接件上,二所述导电连接件分别与二所述导电支撑柱可拆卸地连接。3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置,其特征在于,所述导电支撑柱设置有安装通孔,所述安装通孔的孔径尺寸大于或等于所述导电连接件的尺寸,所述导电连接件伸入所述安装通孔并与所述安装通孔的内壁电性连接。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘金章杨欣泽
申请(专利权)人:北京蜃景光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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