The invention relates to the technical field of microwave plasma chemical vapor deposition, and in particular discloses a microwave plasma diamond film deposition equipment, in which the top and bottom of the microwave quartz window are respectively sealed with the depositing platform and the bottom plate through the sealing gasket group, which includes the outer ring sealing gasket and the inner ring sealing gasket, and the outer ring sealing gasket and the inner ring sealing gasket are arranged between the outer ring sealing gasket and the inner ring sealing gasket. The exhaust clearance, the top and bottom of the exhaust clearance are connected through the second ventilation hole, the third ventilation hole on the bottom plate is used to connect the exhaust clearance with the second exhaust pipe, and the second exhaust pipe is connected with the vacuum pumping device. The invention can effectively isolate the external air, maintain the vacuum working environment in the reaction chamber, effectively reduce the vacuum leakage rate of the MPCVD equipment of this type, and finally realize the effective isolation between the reaction chamber and the external air, which provides favorable guarantee for the preparation of high-quality products, improves the quality of microwave plasma chemical vapor deposition products, and meets the needs of scientific research and industrial production.
【技术实现步骤摘要】
一种微波等离子体金刚石膜沉积设备
本专利技术涉及微波等离子体化学气相沉积
,具体公开了一种微波等离子体金刚石膜沉积设备。
技术介绍
微波等离子体化学气相沉积(Microwaveplasmachemicalvapordeposition)简称MPCVD,是一种将微波发生器产生的微波用波导管经隔离器进入反应室,在微波的激励下,使反应室中的气体分子电离产生等离子体,在衬底上沉积得到金刚石膜。公告号CN103668121A的专利技术专利公开了一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括由反应腔上盖和反应台组成的反应腔,反应腔下方设置有相连接的矩形波导和同轴波导;同轴波导的中心轴伸入在反应腔内,中心轴的上方同轴固定连接有用于放置衬底的样品台;反应腔上盖的中心开有气体导入口,反应腔上盖的颈部还设置均匀开有多个进气小孔的水平隔板,水平隔板和反应腔上盖的顶部之间形成气体缓冲混合腔,样品台上紧邻衬底的边缘外侧呈圆周分布均匀开有排气通道。本专利技术解决反应腔中的气体不能均匀的分布在衬底周围的问题。公告号CN101864560B的专利技术专利公开了一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括微波谐振腔的上圆柱体、微波谐振腔的下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、石英窗、等离子体、调节机构一和调节机构二。金刚石膜沉积台、微波反射体在上圆柱体和下圆柱体内部,石英窗在金刚石膜沉积台的下方;微波反射体通过调节机构一调节微波反射体的高度,调节机构二调节上圆柱体的高度,微波反射体对微波电场起反射和增强作用。上圆柱体、下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、调节机构一和调节机构二都能实现直接的 ...
【技术保护点】
1.一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在上盖板的顶部设置有进气口,在底板上设置有抽气口,所述抽气口接入抽真空装置,将反应腔抽为真空环境;还包括沉积台和微波石英窗,微波石英窗为圆环形,设于沉积台与底板之间,通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离,其特征在于,所述微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接,在沉积台和底板上设有第二密封槽,所述密封垫片组设于第二密封槽内,所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片,外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有圆环形的泄气间隙,与泄气间隙相对应的微波石英窗上绕周向均布多个第二通气孔,将微波石英窗的顶部与底部贯穿连通,第二通气孔分别与顶部和底部的泄气间隙连接,在底板上设有一个或多个第三通气孔,第三通气孔上端与底部的泄气间隙连接,第三通气孔下端与第二出气管连接,第二出气管与抽真空装置连接。
【技术特征摘要】
1.一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在上盖板的顶部设置有进气口,在底板上设置有抽气口,所述抽气口接入抽真空装置,将反应腔抽为真空环境;还包括沉积台和微波石英窗,微波石英窗为圆环形,设于沉积台与底板之间,通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离,其特征在于,所述微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接,在沉积台和底板上设有第二密封槽,所述密封垫片组设于第二密封槽内,所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片,外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有圆环形的泄气间隙,与泄气间隙相对应的微波石英窗上绕周向均布多个第二通气孔,将微波石英窗的顶部与底部贯穿连通,第二通气孔分别与顶部和底部的泄气间隙连接,在底板上设有一个或多个第三通气孔,第三通气孔上端与底部的泄气间隙连接,第三通气孔下端与第二出气管连接,第二出气管与抽真空装置连接。2.根据权利要求1所述的微波等离子体金刚石膜...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫宁,吴啸,郭兴星,范波,蔡玉珺,常豪峰,徐帅,
申请(专利权)人:郑州磨料磨具磨削研究所有限公司,
类型:发明
国别省市:河南,41
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