锅盖组件以及烹饪器具制造技术

本实用新型专利技术公开一种锅盖组件以及烹饪器具，其中，所述锅盖组件包括锅盖主体以及线圈绕组，所述锅盖主体包括处在下侧的盖板，所述线圈绕组设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。本实用新型专利技术的技术方案中，通过在靠近所述线圈绕组的外缘设置所述加密区，这样所述线圈绕组工作时会产生强度较为均匀的磁场，从而避免了所述盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。

【技术实现步骤摘要】
锅盖组件以及烹饪器具
本技术涉及烹饪器具
，特别涉及一种锅盖组件以及烹饪器具。
技术介绍
烹饪器具包括烹饪座(通常包括煲体和设于煲体的内锅)、以及盖合所述烹饪座的锅盖组件，锅盖组件在盖合后与烹饪座围合形成烹饪腔，现有技术中对烹饪腔的加热方式为从下方加热，如此，烹饪腔的蒸汽遇到盖板后遇冷会形成冷凝水，打开锅盖时，会有较多的水流到烹饪器具煲体和锅盖上，对用户形成不好的体验，并且对烹饪腔内的食材有影响，例如，以电饭煲为例，在电饭煲的保温阶段中，冷凝水会滴到米饭上，导致“滴白”现象，容易使米饭变质。为改善冷凝水的问题，本设计人员有考虑在锅盖组件内设置IH加热装置，通过IH加热装置对盖板进行加热，由于现有IH加热装置的线圈绕组布线方式通常为等间距的多匝绕设布置，这样易导致盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种锅盖组件以及烹饪器具，旨在解决现有锅盖组件的线圈绕组的布线方式，易导致盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。为实现上述目的，本技术提供一种锅盖组件，包括：锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，线圈绕组，设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。优选地，所述多匝线圈通过减小间距设置，以实现线圈分布密度的加大。优选地，所述线圈绕组于所述盖板的投影区域自所述盖板的中部分布至外围，所述线圈绕组于所述盖板上的投影面积与所述盖板的面积的比值大于50％。优选地，所述盖板上开设有蒸汽出口，所述线圈绕组邻近所述蒸汽出口的多匝所述线圈为多匝邻近线圈，且所述多匝邻近线圈的的线圈分布密度比处在所述多匝邻近线圈外侧邻近区域的线圈分布密度大。优选地，所述多匝邻近线圈在靠近所述蒸汽出口的方向上线圈分布密度呈逐渐加大设置。优选地，所述线圈绕组呈环绕所述蒸汽出口布置；或者，所述线圈绕组布置于所述蒸汽出口在径向上的一侧。优选地，所述多匝邻近线圈局部朝内凹陷，以在所述多匝邻近线圈的外侧形成有凹陷区；所述蒸汽出口位于所述凹陷区。优选地，所述盖板的局部向下凹陷形成有凹坑，所述凹坑开设有回流孔，所述凹坑至少部分与所述线圈绕组呈相对设置。优选地，所述凹坑的底壁局部上凸形成有凸起，所述回流孔开设于所述凸起的上端；和/或，所述线圈绕组的邻近所述凹坑的多匝线圈的线圈分布密度比其邻近区域的线圈分布密度大。本技术还提供一种烹饪器具，包括锅盖组件，所述锅盖组件包括：锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，线圈绕组，设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。本技术的技术方案中，通过在靠近所述线圈绕组的外缘设置所述加密区，这样所述线圈绕组工作时会产生强度较为均匀的磁场，从而避免了所述盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本技术提供的烹饪器具的第一实施例的结构示意图；图2为图1中线圈绕组处的结构示意图；图3为本技术提供的烹饪器具的第二实施例中线圈绕组处的结构示意图；图4为本技术提供的烹饪器具的第三实施例的结构示意图；图5为图4中的A处局部放大示意图；图6为图5中线圈绕组处的结构示意图。附图标号说明：标号名称标号名称100锅盖组件16凹陷区1锅盖主体2线圈绕组11盖板21线圈12凹坑21a多匝邻近线圈13回流孔3线圈绕组支架14凸起200烹饪器具15蒸汽出口210烹饪座本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。需要说明，若本技术实施例中有涉及方向性指示，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。本技术提供一种烹饪器具，所述烹饪器具可以是电饭煲或者炒菜机等，以下将以所述烹饪器具是电饭煲为例进行介绍，图1和图2为本技术提供的烹饪器具的第一实施例。请参阅图1，所述烹饪器具200包括烹饪座210以及锅盖组件100，其中，所述烹饪座210具有上端呈开口设置的腔体，所述锅盖组件100可盖合地安装于所述烹饪座210的开口端，以与所述腔体围合形成烹饪腔。通常而言，所述烹饪座210包括煲体、以及设于所述煲体内的内锅，所述内锅的内腔为所述烹饪器具200的腔体，在所述锅盖组件100盖合所述腔体的上端口时，与所述内锅的内腔共同形成所述烹饪腔。为了解决现有锅盖组件的线圈绕组的布线方式，易导致盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题，请参阅图1和图2，在第一实施例中，所述锅盖组件100包括锅盖主体1以及线圈绕组2，所述锅盖主体1包括处在下侧的盖板11，所述线圈绕组2设于所述锅盖主体1内且位于所述盖板11的上方，所述线圈绕组2包括呈内外圈设置的多匝线圈21，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。本技术的技术方案中，在靠近所述线圈绕组2的外缘设置所述加密区，因为现有的线圈绕组布线方式为等间距的多匝绕设布置，这样会导致中部的磁场强度较外围的强，本申请通过所述加密区的设置，相对增加了外围的磁场强度，使得所述线圈绕组2工作时会产生强度较为均匀的磁场，从而避免了所述盖板11温度不均匀，会有残留水产生的问题。要实现线圈分布密度的加大的方式有多种，例如，可以是通过增加局部的线圈分布的层数，从而实现局部的线圈分布密度的加大，还可以是请参阅图2，在第一实施例中，所述多匝线圈21通过减小间距设置，以实现线圈分布密度的加大，这样所述线圈绕组2的布线方式相对较为简单。为了让所述盖板11能更好得均匀受热，请参阅图1和图2，在第一实施例中，所述线圈绕组2于所述盖板11的投影区域自所述盖板11的中部分布至外围，即为所述线圈绕组2呈对应整个所述盖板1进行布设，这样有利于整个所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种锅盖组件，其特征在于，包括：锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，线圈绕组，设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。

【技术特征摘要】
1.一种锅盖组件，其特征在于，包括：锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，线圈绕组，设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。2.如权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述多匝线圈通过减小间距设置，以实现线圈分布密度的加大。3.如权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述线圈绕组于所述盖板的投影区域自所述盖板的中部分布至外围，所述线圈绕组于所述盖板上的投影面积与所述盖板的面积的比值大于50％。4.如权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述盖板上开设有蒸汽出口，所述线圈绕组邻近所述蒸汽出口的多匝所述线圈为多匝邻近线圈，且所述多匝邻近线圈的线圈分布密度比处在所述多匝邻近线圈外侧邻近区域的线圈分布密度大。5.如权利要求4所述的锅盖组件...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁志佳，刘化勇，黄韦铭，罗飞龙，邢胜华，羊小亮，吴慧民，瞿月红，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44