【技术实现步骤摘要】
一种可调节的硅片清洗舟
本技术涉及硅片清洗设备，具体涉及一种可调节的硅片清洗舟。
技术介绍
硅片在生产中须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷。现有的硅片清洗方法，是将多个硅片整齐的排列在硅片清洗舟上，以便于整体放置到清洗液中清洗，但是现有的硅片清洗舟均为一体式，不可调节且每个硅片清洗舟对应特定大小形状的硅片现有的硅片大多为圆形和方形，且形状尺寸不一，若清洗不同形状大小的硅片则需要制造多个硅片清洗舟，浪费材料和制作成本。
技术实现思路
本技术的目的是：提供一种可调节的硅片清洗舟，可适用不同大小和形状的硅片，适用范围广，节省制造成本。为了实现上述目的，本技术提供如下的技术方案：一种可调节的硅片清洗舟，包括底板、侧板和伸缩架；所述底板两端均可转动的连接有第一调节杆，第一调节杆两端均分别通过螺纹与伸缩架连接；所述侧板具体有两个，分别位于底板的两侧且两个侧板的底部两端均可转动的与伸缩架远离第一调节杆的一端连接；两个所述侧板顶部均连接有连杆，连杆位于远离侧板的一端通过螺纹连接有第二调节杆的一端，第二调节杆的另一端通过螺纹与摆杆的一端连接；所述摆杆远离第二调节杆的一端通过铰链连接在吊环的底端；所述第一调节杆的两端螺纹与第二调节杆的两端螺纹旋向均相反；所述底板和侧板上均设有隔板块。进一步，所述第一调节杆的上位于底板的两侧均设有固定环；所述第一调节杆和第二调节杆上均设有调节纹。进一步的，所述第一调节杆和第二调节杆的两端均设有外螺纹，伸缩架位...
【技术保护点】
1.一种可调节的硅片清洗舟，其特征在于：包括底板(1)、侧板(2)和伸缩架(3)；所述底板(1)两端均可转动的连接有第一调节杆(4)，第一调节杆(4)两端均分别通过螺纹与伸缩架(3)连接；所述侧板(2)具体有两个，分别位于底板(1)的两侧且两个侧板(2)的底部两端均可转动的与伸缩架(3)远离第一调节杆(4)的一端连接；两个所述侧板(2)顶部均连接有连杆(5)，连杆(5)位于远离侧板(2)的一端通过螺纹连接有第二调节杆(6)的一端，第二调节杆(6)的另一端通过螺纹与摆杆(7)的一端连接；所述摆杆(7)远离第二调节杆(6)的一端通过铰链连接在吊环(8)的底端；所述第一调节杆(4)的两端螺纹与第二调节杆(6)的两端螺纹旋向均相反；所述底板(1)和侧板(2)上均设有隔板块(9)。
【技术特征摘要】
1.一种可调节的硅片清洗舟，其特征在于：包括底板(1)、侧板(2)和伸缩架(3)；所述底板(1)两端均可转动的连接有第一调节杆(4)，第一调节杆(4)两端均分别通过螺纹与伸缩架(3)连接；所述侧板(2)具体有两个，分别位于底板(1)的两侧且两个侧板(2)的底部两端均可转动的与伸缩架(3)远离第一调节杆(4)的一端连接；两个所述侧板(2)顶部均连接有连杆(5)，连杆(5)位于远离侧板(2)的一端通过螺纹连接有第二调节杆(6)的一端，第二调节杆(6)的另一端通过螺纹与摆杆(7)的一端连接；所述摆杆(7)远离第二调节杆(6)的一端通过铰链连接在吊环(8)的底端；所述第一调节杆(4)的两端螺纹...
【专利技术属性】
技术研发人员：陶锡昆，
申请(专利权)人：昆山佳鹿石英有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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