【技术实现步骤摘要】
一种光刻机框架及光刻机
本技术属于半导体设备制造领域，涉及一种光刻机框架及光刻机。
技术介绍
当今世界是一个信息化、智能化的世界，科学技术的日新月异使得各类新型智能化产品层出不穷，使得人们的生活更加便捷。与此同时，人们对显示器的各项性能要求也越来越高，显示屏技术向着超薄、低功耗等方向飞速发展。而性能更佳的显示屏的生产制造离不开先进的光刻工艺，稳定、高精确度的曝光成像系统就显得尤为重要。随着光刻机设备的不断发展，生产效率的不断提高，使得光刻机玻璃基板的尺寸不断增大，运动台质量不断增大，当大质量的运动台快速移动时，会产生惯性力和反作用力，受其内部各零部件接口的刚度限制，就会对整机系统的稳定性产生一定的影响，从而造成曝光成像系统的误差，降低成像精度。这就更加迫切地要求设计人员针对多自由度系统采用更加合理的结构布局和连接方法，以使整机系统更加有效的减小外载荷的冲击，减小震动的传递对曝光成像系统的影响，并有效提高整机模态和降低静力变形对曝光成像系统的影响。现有技术中公开了一种光刻机减震框架，用于减小光刻机的框架震动。该光刻机减震框架的优点是将光刻机不同部件质量分布在减震框架...
【技术保护点】
1.一种光刻机框架，其特征在于，包括测量支架和主基板，所述测量支架的下底面的部分沿远离所述下底面的方向向外延伸形成一延伸部，所述测量支架的下底面上沿Y向位于所述延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面；所述主基板的上端面开设有一与所述延伸部相匹配的凹槽，所述延伸部嵌设于所述凹槽内，并且所述测量支架通过所述第一下底面和所述第二下底面与所述主基板连接；所述第一下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第二下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第一下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线与所述第二下底面的两个所述连接...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机框架，其特征在于，包括测量支架和主基板，所述测量支架的下底面的部分沿远离所述下底面的方向向外延伸形成一延伸部，所述测量支架的下底面上沿Y向位于所述延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面；所述主基板的上端面开设有一与所述延伸部相匹配的凹槽，所述延伸部嵌设于所述凹槽内，并且所述测量支架通过所述第一下底面和所述第二下底面与所述主基板连接；所述第一下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第二下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第一下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线与所述第二下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线之间相交呈T形分布，所述Y向为光刻机的扫描方向。2.如权利要求1所述的光刻机框架，其特征在于，所述第一下底面包括第三连接区域和第四连接区域，所述第二下底面包括第一连接区域和第二连接区域；或者，所述第一下底面包括所述第一连接区域和所述第二连接区域，所述第二下底面包括所述第三连接区域和所述第四连接区域；其中，所述第一连接区域和所述第二连接区域分别位于所述T形的顶部的两端，所述第三连接区域和所述第四连接区域均位于所述T形的底部，且所述T形的顶部的两端分别靠近所述测量支架上相对设置的两个端部的边角，所述第三连接区域位于所述第四连接区域远离所述T形的顶部的一侧，所述T形的顶部为所述T形的横向边，所述T形的底部为所述T形的竖向边。3.如权利要求2所述的光刻机框架，其特征在于，所述第一连接区域、所述第二连接区域、所述第三连接区域及所述第四连接区域内均开设有多个通孔，所述主基板上与所述通孔相对应的位置开设有螺纹孔，所述测量支架与所述主基板通过螺栓连接。4.如权利要求3所述的光刻机框架，其特征在于，所述第一连接区域内的多个所述通孔和所述第二连接区域内的多个所述通孔分别以矩形阵列的方式分布在各自的区域内；所述第三连接区域和所述第四连接区域内的多个所述通孔分别沿其区域中心以圆周阵列的方式分布在各自的区域内。5.如权利要求4所述的光刻机框架，其特征在于，所述第一连接区域内的多个所述通孔和所述第二连接区域内的多个所述通孔关于所述测量支架的一垂直于所述第二下底面的对称面对称分布；...
【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞平，杨玉杰，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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