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本实用新型提供了一种光刻机框架及光刻机，光刻机框架包括测量支架、主基板、Y向干涉仪支架及连接臂，测量支架的下底面形成有一延伸部，延伸部上沿Y向相对的两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，测量支架的下底面上沿Y向位于延伸部的两侧的底面分别为第一下...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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