用于预测测量方法的性能的方法和设备、测量方法和设备技术

重叠测量(OV)基于由光刻过程而形成的目标结构的衍射光谱中的不对称性。目标结构之间的叠层差异可被认为是光栅不平衡性(GI)，且所述重叠测量的准确度可被降级。一种预测GI灵敏度的方法是利用相对衍射阶使用目标结构的第一图像和第二图像(45+、45‑)来执行的。使用相同图像的区(ROI)来测量重叠。进行对所述相对衍射阶之间的强度的对称性(S)和不对称性(A)的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于目标结构上的具体部位。基于对称性值和不对称性值的局部测量的统计分析，获得对光栅不平衡性的灵敏度的预测。这能够用以选择较佳测量配置方案和/或用以校正由光栅不平衡性造成的误差。

Methods and equipment for predicting the performance of measurement methods, measurement methods and equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于预测测量方法的性能的方法和设备、测量方法和设备相关申请的交叉引用本申请要求于2016年12月9日提交的欧洲申请16203208.0的优先权，所述申请的全部内容以引用的方式被并入本文中。
本专利技术涉及能够用于例如通过光刻技术进行器件制造的检查(例如量测)的方法和设备，并且涉及使用光刻技术来制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上的机器，通常施加到衬底的目标部分上。光刻设备能够用在例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将这种图案转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。所述图案的转印通常经由将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包括被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。这些目标部分通常被称作“场”。在光刻过程中，经常期望对所产生的结构进行测量，例如，用于过程控制和验证。用于进行这些测量的各种工具是公知的，包括经常用来测量临界尺寸(CD)的扫描电子显微镜，和用来测量重叠的专用工具，重叠本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种预测测量方法的性能的方法，所述测量方法基于由光刻过程形成的一个或更多个目标结构内的周期性特征的衍射光谱中的不对称性，所述预测性能的方法包括以下步骤：(a)使用由所述目标结构衍射的辐射的所述衍射光谱的对称地相对的部分来形成所述目标结构的第一图像和第二图像；(b)从所述第一图像和所述第二图像，导出在所述衍射光谱的相对的部分之间的强度的对称性和不对称性的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于所述目标结构上的具体部位；和(c)基于对称性值和不对称性值的所述局部测量的统计分析，确定对所述测量方法的性能的预测。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.09 EP 16203208.01.一种预测测量方法的性能的方法，所述测量方法基于由光刻过程形成的一个或更多个目标结构内的周期性特征的衍射光谱中的不对称性，所述预测性能的方法包括以下步骤：(a)使用由所述目标结构衍射的辐射的所述衍射光谱的对称地相对的部分来形成所述目标结构的第一图像和第二图像；(b)从所述第一图像和所述第二图像，导出在所述衍射光谱的相对的部分之间的强度的对称性和不对称性的多个局部测量，对称性和不对称性的每个局部测量对应于所述目标结构上的具体部位；和(c)基于对称性值和不对称性值的所述局部测量的统计分析，确定对所述测量方法的性能的预测。2.根据权利要求1所述的方法，其中使用不同测量条件重复步骤(a)至(c)以获得在不同测量条件下对所述测量方法的性能的预测。3.根据权利要求2所述的方法，还包括执行所述测量方法以获得相同或相似目标结构的特性的测量的步骤(d)，其中在步骤(d)中，使用通过比较所述所获得的性能的预测而选择的测量条件来执行所述测量方法。4.根据权利要求1或2所述的方法，还包括执行所述测量方法以获得对相同或相似目标结构的特性的测量的步骤(d)。5.根据权利要求3或4所述的方法，还包括步骤(e)：与所述测量方法的性能的预测一起报告对所述目标结构的所述特性的所述测量。6.根据权利要求3、4或5所述的方法，其中步骤(d)还包括使用在步骤(c)中获得的性能的所述预测将校正应用至所述特性的所述测量。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述校正基于在步骤(c)中获得的性能的所述预测和所述相同或相似目标结构的额外特性的测量。8.根据权利要求7所述的方法，其中在步骤(d)中，对所述目标的所述特性的所述测量基于在所述相同或相似目标结构内的两个或更多个目标结构之间观测到的不对称性的差异，且对额外特性的所述测量基于在所述两个或更多个周期性结构之间观测到的对称性的差异。9.根据权利要求4至8中任一项所述的方法，还包括步骤(e)：与对所述测量方法的性能的预测一起报告对所述目标结构的所述特性的所述测量。10.根据权利要求4至9中任一项所述的方法，其中针对通过光刻在多个衬底上形成的目标结构重复所述步骤(d)，且针对每个衬底至少重复所述步骤(a)至(c)。11.根据权利要求10所述的方法，其中针对通过光刻在一个衬底上形成的多个目标结构重复所述步骤(d)，且针对同一衬底上的多个目标结构重复所述步...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·J·J·杰克，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL