用于估计随机变量的模型制造技术

一种方法包括：获得用于图案化过程的抗蚀剂过程剂量敏感度值；将抗蚀剂过程剂量敏感度值应用于随机模型，所述随机模型提供作为抗蚀剂过程剂量敏感度的函数的随机变量的值，以获得所述随机变量的值；以及基于随机变量的值来设计或修改图案化过程的参数。

A Model for Estimating Random Variables

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于估计随机变量的模型相关申请的交叉引用本申请要求于2016年12月2日提交的美国临时申请62/429，253的优先权，该美国临时申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
本文的描述涉及图案化过程及其设备，更具体地涉及其中的随机变化。
技术介绍
光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。在这种情况下，图案化装置(例如掩模)可以包含或提供对应于IC的单层的器件图案(“设计布局”)，并且可以由诸如通过图案化装置上的图案辐射已经涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层的衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)的方法将该图案转移到该目标部分上。通常，单个衬底包含多个相邻目标部分，图案由光刻设备被连续地转移到所述多个相邻目标部分，一次一个目标部分。在一种类型的光刻设备中，将整个图案化装置上的图案一次转移到一个目标部分上；这种设备通常被称作步进器。在通常被称作步进扫描设备的可替代设备中，投影束沿给定的参考方向(“扫描”方向)横跨图案化装置进行扫描，同时沿平行或反向平行于该参考方向的方向同步地移动衬底。图案化装置的图案的不同部分被逐渐地转移到一个目标部分。通常，由于光刻设备将具有一放大因本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，包括：获得用于图案化过程的抗蚀剂过程剂量敏感度值；通过硬件计算机将抗蚀剂过程剂量敏感度值应用于随机模型以获得随机变量的值，所述随机模型提供作为抗蚀剂过程剂量敏感度的函数的所述随机变量的值；以及基于所述随机变量的值来设计或修改图案化过程的参数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.02 US 62/429,2531.一种方法，包括：获得用于图案化过程的抗蚀剂过程剂量敏感度值；通过硬件计算机将抗蚀剂过程剂量敏感度值应用于随机模型以获得随机变量的值，所述随机模型提供作为抗蚀剂过程剂量敏感度的函数的所述随机变量的值；以及基于所述随机变量的值来设计或修改图案化过程的参数。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗蚀剂过程剂量敏感度的函数包括：[a·(DS)b]其中，DS是抗蚀剂过程剂量敏感度，a和b是拟合系数。3.如权利要求1所述的方法，其中，所述随机变量包括特征边缘或宽度粗糙度。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述随机模型提供作为抗蚀剂猝灭剂参数的函数的随机变量的值，和/或其中，所述抗蚀剂猝灭剂参数是抗蚀剂猝灭剂通量。5.如权利要求4所述的方法，其中，所述抗蚀剂猝灭剂通量的函数包括：(1-c·Qflux)其中，Qflux是抗蚀剂猝灭剂通量，c是拟合系数，和/或其中，抗蚀剂猝灭剂通量和抗蚀剂过程剂量敏感度的函数包括：[a·(DS)b]·(1-c·Qflux)。6.如权利要求1所述的方法，还包括：基于随机变量的值，创建关于图案边缘位置随机过程可变性带，或者通过将随机变量的值与单位噪声矢量相乘来产生随机图案边缘。7.如权利要求6所述的方法，包括：基于所述随机变量的值，创建关于所述图案边缘位置所述随机过程可变性带，其中，所述图案边缘位置是从光刻模型获得的平均边缘位置。8.如权利要求1所述的方法，其中，获得所述抗蚀剂过程剂量敏感度值包括：使用所述图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·G·汉森，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL