真空电子束镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空电子束镀膜装置，包括电子束炉、前置真空室、加热真空室、后置真空室和冷却真空室；前置真空室连通在电子束炉的进口端，加热真空室连通在前置真空室与电子束炉之间；后置真空室连通在电子束炉的出口端，冷却真空室连通在后置真空室与电子束炉之间。本实用新型专利技术对镀膜工件进行镀膜前的单级或多级加热以及镀膜后的多级冷却，通过对镀膜工件的加热提高了镀膜效率，在镀膜后通过冷却调节材料内部晶粒组织结构，避免镀膜氧化，也有利于工件尽快取出，可有效缩短镀膜时间；同时为镀膜工作提供真空环境，避免镀膜材料在空气中氧化成氧化物而失去金属性能，提高了镀膜层的耐腐蚀性、增加了镀膜层厚度。

Vacuum Electron Beam Coating Device

【技术实现步骤摘要】
真空电子束镀膜装置
本技术涉及镀膜设备
，尤其是一种真空电子束镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是把金属或者金属氧化物变成气态的分子或原子使其沉积在镀件表面形成镀层的一项技术。真空镀膜技术和电镀技术相比污染更小，能耗更低，所需的成本较低，装饰效果以及金属感都比较强，是一项很有发展前景的技术。真空镀膜具体包括很多种类：真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。目前真空镀膜所采用的镀膜设备存在镀膜厚度较薄、镀膜效率较低的缺点，造成镀膜层的耐腐蚀性较差、使用时间较短。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：提供一种镀膜层厚度较厚大、耐腐蚀性强的真空电子束镀膜装置。为解决上述技术问题本技术所采用的技术方案是：真空电子束镀膜装置，包括电子束炉、前置真空室、加热真空室、后置真空室和冷却真空室；所述前置真空室连通在电子束炉的进口端，加热真空室连通在前置真空室与电子束炉之间；所述后置真空室连通在电子束炉的出口端，冷却真空室连通在后置真空室与电子束炉之间；所述电子束炉由至少一个工作腔组成，每个工作腔内设有至少一把电子枪。优选的，所述电子束炉由1～3个连通的工作腔组成，每个工作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.真空电子束镀膜装置，其特征在于：包括电子束炉(1)、前置真空室(2)、加热真空室(4)、后置真空室(3)和冷却真空室(5)；所述前置真空室(2)连通在电子束炉(1)的进口端，加热真空室(4)连通在前置真空室(2)与电子束炉(1)之间；所述后置真空室(3)连通在电子束炉(1)的出口端，冷却真空室(5)连通在后置真空室(3)与电子束炉(1)之间；所述电子束炉(1)由至少一个工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有至少一把电子枪(12)。

【技术特征摘要】
1.真空电子束镀膜装置，其特征在于：包括电子束炉(1)、前置真空室(2)、加热真空室(4)、后置真空室(3)和冷却真空室(5)；所述前置真空室(2)连通在电子束炉(1)的进口端，加热真空室(4)连通在前置真空室(2)与电子束炉(1)之间；所述后置真空室(3)连通在电子束炉(1)的出口端，冷却真空室(5)连通在后置真空室(3)与电子束炉(1)之间；所述电子束炉(1)由至少一个工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有至少一把电子枪(12)。2.如权利要求1所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述电子束炉(1)由1～3个连通的工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有1～2把电子枪(12)。3.如权利要求1或2所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述前置真空室(2)由至少两个连通的前置真空腔(21)组成，所述后置真空室(3)由至少两个连通的后置真空腔(31)组成，...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖奇，廖先杰，肖传海，彭富昌，邹宇，李俊瀚，江思媛，黄双华，范立男，
申请(专利权)人：攀枝花学院，成都天宇坤实机电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51