掩膜设备制造技术

本发明专利技术提供一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，液晶基板包括像素区，掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于像素区中一个子像素区的宽度；第二图形区域包括沿着第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，第二透光区与第二遮光区的宽度之和等于像素区中一个子像素区的宽度，沿着第一方向，相邻的第一遮光区和第二遮光区之间具有可供紫外光透过的透光间隙，能够使液晶基板上的每个子像素区的中心和边缘形成规则的暗纹，从而提高液晶显示屏的显示效果。

Mask equipment

【技术实现步骤摘要】
掩膜设备
本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种掩膜设备。
技术介绍
UV2A(UltraVioletVerticalAlignment)技术是一种采用紫外线(UV＝UltraViolet)进行液晶配向的VA(VerticalAlignment，垂直配向)面板技术，其名称来源于紫外线UV与液晶基板VA模式的相乘，其原理是利用UV光来实现液晶分子的精准配向控制，UV2A技术能够通过配向膜实现所有液晶分子向设计方向倾斜的状态，所以在载入电场时，液晶分子可以同时向同一方向倾倒，使响应速度增至原来的2倍，且由于其不使用突起和狭缝隙也能分割成多个区域，因此其开口率与原来的利用突起形成多区域相比得到显著的提高，还具有降低耗电，节省成本等优点。目前是使用掩膜版对基板上的配向膜进行紫外线扫描曝光处理，以实现对配向膜的配向处理。目前，现有的UV2A配向为将液晶基板分割成多个区域，以部分改变配向方向，其中，液晶基板可以是TFT基板或者CF基板。目前使用的配向方式多为采用掩膜版扫描曝光的方式。图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向前的俯视图暗纹。参照图1所示，以液晶基板100上由水平排列的三个子像素区110(红色R、绿色G、蓝色B)组成的一个像素单元为例进行配向过程的说明。继续参照图1，下文以中间的子像素区110(也即绿色子像素区112)为例，简要介绍其配向过程以便本领域技术人员更好的理解相关技术背景，本领域技术人员应该理解，在现有技术中，其他子像素区(红色子像素区111、蓝色子像素区113)同样按照下述方式进行配向。掩膜版200包括第一图形区域210和第二图形区域220，在第一图形区域210上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第一透光区211和第一遮光区212，第二图形区域220上设置有沿掩膜版200的横向交替排列的第二透光区221和第二遮光区222，第一透光区211的宽度与第一遮光区221的宽度之和等于绿色子像素区112的宽度，第二透光区221的宽度与第二遮光区222的宽度之和等于绿色子像素区112的宽度，也即是说，第一透光区221和第一遮光区212的宽度之和等于一个子像素区110的宽度，同理，第二透光区221和第二遮光区222的宽度之和也等于一个子像素区110的宽度。其中，第一透光区211的宽度等于第一遮光区212的宽度，第二透光区221的宽度等于第二遮光区222的宽度。配向前，将液晶基板100放置在掩膜版200的下方，且第一图形区域210的第一透光区211被配置成在液晶基板100上的投影正好覆盖绿色子像素区112的右半部分，第二图形区域220的第二遮光区221被配置成在液晶基板100上的投影正好覆盖绿色子像素区112的左半部分。配向时，液晶基板100从图1所示的上方往下方移动，以便依次经过第一图形区域210和第二图形区域220。在经过第一图形区域210时，紫外线透过第一透光区211对绿色子像素区112的右半部分进行曝光；液晶基板100在经过第二图形区域220时，紫外线透过第二透光区221对绿色子像素区112的左半部分进行曝光，以此完成对绿色子像素区112所对应的部分配向膜的光配向。配向过程中，紫外线的照射方向与液晶基板100的移动方向平行，且在使用掩膜版200的第一图形区域210和第二图形区域220对液晶基板100进行曝光时所使用的紫外光的照射方向相反。然而，在上述的配向过程中，因掩膜设备和制程的精度问题，导致在子像素区110的中心和边缘出现不规则的重复曝光区域，从而使得子像素区110的中心和边缘产生不规则且杂乱无章的暗纹，从而影响液晶显示屏的显示效果。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜设备，能够使液晶基板上每个子像素区的中心和边缘形成规则的暗纹，从而提高液晶显示屏的显示效果。本专利技术提供一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括像素区，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度；所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第二图形区域包括沿着所述第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度，且所述第一透光区与所述第二透光区沿所述第一方向错位设置；在所述第一方向上，相邻的所述第一遮光区和所述第二遮光区之间具有透光间隙。可选地，所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度，所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度。可选地，所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时分别投影在所述子像素区的中心线两侧。可选地，所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时的投影关于所述中心线对称。可选地，对应所述子像素区的边缘处的所述透光间隙在光配向时的投影位于所述液晶基板的配线区内，所述配线区位于两个相邻子像素区的交界处且与所述子像素区异层设置。可选地，所述透光间隙包括与所述子像素区的中心对应的第一透光间隙和与所述子像素区的边缘对应的第二透光间隙；所述第二透光间隙的宽度大于所述第一透光间隙的宽度。可选地，所述透光间隙的宽度小于6μm。可选地，所述第一透光区的宽度等于所述第二透光区的宽度，所述第一遮光区的宽度等于所述第二遮光区的宽度。可选地，所述掩膜设备包括至少一个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域位于同一个掩膜版上。可选地，所述掩膜设备包括至少两个掩膜版，所述第一图形区域和所述第二图形区域分别位于不同的掩膜版上。本专利技术提供一种掩膜设备，通过在第一图形区域设置沿第一方向交替排列的第一透光区和第一遮光区，在第二图形区域设置沿第一方向交替排列的第二透光区和第二遮光区，并将第一透光区和第一遮光区的宽度之和设置为等于液晶基板上像素区中一个子像素区的宽度，同时将第二透光区和第二遮光区的宽度设置为等于液晶基板上像素区中一个子像素区的宽度，以保证每个子像素区能够得到第一透光区和第二透光区的两次相反方向的曝光，从而提高每个子像素区的光透光率。同时，本专利技术的掩膜设备通过将第一图形区域上的第一透光区与第二图形区域上的第二透光区在排布时沿第一方向错位设置，以使相邻的第一遮光区和第二遮光区之间在第一方向上形成可供紫外光透过的透光间隙，在采用该掩膜设备对液晶基板进行配向时，将该透光间隙形成的区域在液晶基板上的投影覆盖像素区中子像素区的中心和边缘处的一定区域，使得子像素区的中心和边缘形成规则的交叠曝光区域，从而使得液晶基板的像素区的暗纹的位置及形状更加规整，提高了液晶显示屏的显示效果，同时降低了对掩膜设备的掩膜过程的精度要求。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有的掩膜版对液晶基板进行配向之前的俯视图；图2是采用本专利技术一实施例提供的掩膜设备对液晶基板进行配向之前的俯视图；图3是图2中I处的局部放大图；图4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括像素区，其特征在于，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度；所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第二图形区域包括沿着所述第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度，且所述第一透光区与所述第二透光区沿所述第一方向错位设置；在所述第一方向上相邻的所述第一遮光区和所述第二遮光区之间具有透光间隙。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜设备，用于对液晶基板上的配向膜进行光配向，所述液晶基板包括像素区，其特征在于，所述掩膜设备包括第一图形区域和第二图形区域；所述第一图形区域用于在第一光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第一图形区域包括沿着第一方向交替设置的第一透光区和第一遮光区，所述第一透光区与所述第一遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度；所述第二图形区域用于在第二光照方向对所述配向膜进行光配向；所述第二图形区域包括沿着所述第一方向交替设置的第二透光区和第二遮光区，所述第二透光区与所述第二遮光区的宽度之和等于所述像素区中一个子像素区的宽度，且所述第一透光区与所述第二透光区沿所述第一方向错位设置；在所述第一方向上相邻的所述第一遮光区和所述第二遮光区之间具有透光间隙。2.根据权利要求1所述的掩膜设备，其特征在于，所述第一透光区的宽度大于所述第一遮光区的宽度，所述第二透光区的宽度大于所述第二遮光区的宽度。3.根据权利要求2所述的掩膜设备，其特征在于，所述第一遮光区和第二遮光区被配置成在光配向时分别投影在所述子像素区的中心线两侧。4.根据权利要求3所述的掩膜设备，其特征在于，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴明鑫，李广圣，神户诚，彭林，李凡，马新语，张波，
申请(专利权)人：成都中电熊猫显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51