抛光布修复装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及修复装置领域，尤其为抛光布修复装置，包括工作台、驱动电机、抛光布工件、清理装置、喷液板以及修复盘，所述工作台顶部内侧设有安装槽，所述工作台内部底端固定安装有驱动电机，所述驱动电机顶部安装有转轴，所述转轴外部且位于安装槽内侧套设有抛光布工件，所述工作台顶部且位于抛光布工件连接设有定位板，所述抛光布工件内侧且贴近转轴外围固定安装有安装套管，所述抛光布工件上表面分布有导流槽，所述转轴内部且位于对应的导流槽一侧设有清理装置，且所述清理装置包括套筒和伸缩杆，所述伸缩杆外侧设有清理刷，所述工作台顶部左侧设置有集液箱。本实用新型专利技术中整体装置结构简单，操作方便，且修复效果好，具有一定的推广价值。

Polishing cloth repair device

【技术实现步骤摘要】
抛光布修复装置
本技术涉及修复装置领域，具体为抛光布修复装置。
技术介绍
半导体硅片是现代超大规模集成电路的主要衬底材料。集成电路级半导体硅片一般通过拉品、切片、倒角、磨片(包括磨削和研磨)、腐蚀、抛光、清洗等工艺过程制造而成，其中抛光工艺能使硅片获得较高精度的几何参数，其加工的精度直接影响到产品的几何参数。为了解决硅片抛光过程中因尺寸的增大而带来的平整度的问题，采用双面抛光代替单面抛光，从而获得集成电路用大尺寸硅抛光片，双面抛光过程中硅片的运动状态完全不同于单面抛光，硅片不用固定在陶瓷板上，而是被安放在游轮片内，在中心齿轮和边缘齿轮的带动下自转和以大盘为中心公转，由于硅片是像三明治一样“悬浮”在上下大盘之间，自由度增加，抛光工艺变得更加复杂，在双面抛光过程中，抛光布的平整度起到非常重要的作用，极大的影响着抛光后的硅片表面几何参数，抛光布的平整度越好，硅片的几何参数越好。而在直径约为300mm的硅片的加工过程中，双面抛光机在贴布后和抛光中间需要对抛光布进行修整，提高抛光布的平整度，使抛光后的硅片表面几何参数更加稳定，在贴布后修整抛光布可以有效地修整贴布过程中出现的气泡和贴布受力不均导致的不平，或者每抛若干盘硅片后修整，可以修整加工过程中导致的不平，除此之外，传统的修复装置不能针对抛光布表面的导流槽内的抛光残渣进行去除，因此，需要抛光布修复装置对上述问题做出改善。
技术实现思路
本技术的目的在于提供抛光布修复装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：抛光布修复装置，包括工作台、驱动电机、抛光布工件、清理装置、喷液板以及修复盘，所述工作台顶部内侧设有安装槽，所述工作台内部底端固定安装有驱动电机，所述驱动电机顶部安装有转轴，所述转轴外部且位于安装槽内侧套设有抛光布工件，所述工作台顶部且位于抛光布工件连接设有定位板，所述抛光布工件内侧且贴近转轴外围固定安装有安装套管，所述抛光布工件上表面分布有导流槽，所述转轴内部且位于对应的导流槽一侧设有清理装置，且所述清理装置包括套筒和伸缩杆，所述伸缩杆外侧设有清理刷，所述工作台顶部左侧设置有集液箱，所述集液箱顶部中侧贯通连接有导液管，所述导液管上安装有泵体，所述导液管远离泵体的一端安装有喷液板，所述工作台顶部右侧设置有支撑架，所述支撑架顶部左侧固定安装有旋转件，且通过所述旋转件转动安装有连接板，所述连接板远离旋转件的一侧固定安装有修复盘。优选的，所述伸缩杆安装于套筒的内部，且所述清理装置设置在转轴的内部一侧。优选的，所述导流槽和清理装置均设有多组，且所述导流槽沿着抛光布工件中心点呈环形分布。优选的，所述喷液板底部均匀分布有多组喷孔。优选的，所述修复盘设置为金刚石砂轮。优选的，所述集液箱内部设有去离子水溶液。与现有技术相比，本技术的有益效果是：1、本技术中，通过设置的驱动电机，带动转轴转动，从而致使转轴带动抛光布工件旋转运动，然后修复盘通过旋转件的工作，使得修复盘水平置于的抛光布工件顶部一侧，并通过修复盘对旋转的抛光布工件进行修整处理，方便快捷。2、本技术中，通过设置的清理装置，当抛光布工件表面修整结束，然后转轴内部的清理装置弹出，伸缩杆从套筒内部延伸出来，并通过清理刷来回对导流槽内的抛光残渣进行去除，以提高抛光布工件的修复效果。3、本技术中，通过设有去离子水溶液的集液箱，利用泵体的工作将集液箱内部的去离子水溶液通过导液管导出，并由喷液板喷洒到旋转的抛光布工件表面，从而代替碱性水溶液的抛光溶液，可以提高抛光布工件的使用效率，同时具有较强的化学去除作用，有效的提高了加工效率。4、本技术中，整体装置结构简单，操作方便，且修复效果好，具有一定的推广价值。附图说明图1为本技术整体结构示意图；图2为本技术中抛光布工件的结构俯视图；图3为本技术中清理装置的结构示意图；图中：1-工作台、2-安装槽、3-驱动电机、4-转轴、5-抛光布工件、6-定位板、7-安装套管、8-导流槽、9-清理装置、91-套筒、92-伸缩杆、93-清理刷、10-集液箱、11-泵体、12-导液管、13-喷液板、14-支撑架、15-旋转件、16-连接板、17-修复盘。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，本技术提供一种技术方案：抛光布修复装置，包括工作台1、驱动电机3、抛光布工件5、清理装置9、喷液板13以及修复盘17，工作台1顶部内侧设有安装槽2，工作台1内部底端固定安装有驱动电机3，驱动电机3顶部安装有转轴4，转轴4外部且位于安装槽2内侧套设有抛光布工件5，工作台1顶部且位于抛光布工件5连接设有定位板6，抛光布工件5内侧且贴近转轴4外围固定安装有安装套管7，抛光布工件5上表面分布有导流槽8，转轴4内部且位于对应的导流槽8一侧设有清理装置9，导流槽8和清理装置9均设有多组，且导流槽8沿着抛光布工件5中心点呈环形分布，且清理装置9包括套筒91和伸缩杆92，伸缩杆92外侧设有清理刷93，伸缩杆92安装于套筒91的内部，且清理装置9设置在转轴4的内部一侧，通过设置的清理装置9，当抛光布工件5表面修整结束，然后转轴4内部的清理装置9弹出，伸缩杆92从套筒91内部延伸出来，并通过清理刷93来回对导流槽8内的抛光残渣进行去除，以提高抛光布工件5的修复效果，工作台1顶部左侧设置有集液箱10，集液箱10内部设有去离子水溶液，集液箱10顶部中侧贯通连接有导液管12，导液管12上安装有泵体11，导液管12远离泵体11的一端安装有喷液板13，喷液板13底部均匀分布有多组喷孔，通过设有去离子水溶液的集液箱10，利用泵体11的工作将集液箱10内部的去离子水溶液通过导液管12导出，并由喷液板13喷洒到旋转的抛光布工件5表面，从而代替碱性水溶液的抛光溶液，可以提高抛光布工件5的使用效率，同时具有较强的化学去除作用，有效的提高了加工效率，工作台1顶部右侧设置有支撑架14，支撑架14顶部左侧固定安装有旋转件15，且通过旋转件15转动安装有连接板16，连接板16远离旋转件15的一侧固定安装有修复盘17，修复盘17设置为金刚石砂轮，通过设置的驱动电机3，带动转轴4转动，从而致使转轴4带动抛光布工件5旋转运动，然后修复盘17通过旋转件15的工作，使得修复盘17水平置于的抛光布工件5顶部一侧，并通过修复盘17对旋转的抛光布工件5进行修整处理，方便快捷，整体装置结构简单，操作方便，且修复效果好，具有一定的推广价值。技术工作流程：使用前，将设有安装套管7的抛光布工件5套设在转轴4外侧，且固定安装有安装槽2的内部，使用时，驱动电机3带动转轴4转动，从而致使转轴4带动抛光布工件5旋转运动，然后修复盘17通过旋转件15的工作，使得修复盘17水平置于的抛光布工件5顶部一侧，并通过修复盘17对旋转的抛光布工件5进行修整处理，当抛光布工件5表面修整结束，驱动电机3和转轴4停止工作，然后转轴4内部的清理装置9弹本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.抛光布修复装置，包括工作台(1)、驱动电机(3)、抛光布工件(5)、清理装置(9)、喷液板(13)以及修复盘(17)，其特征在于：所述工作台(1)顶部内侧设有安装槽(2)，所述工作台(1)内部底端固定安装有驱动电机(3)，所述驱动电机(3)顶部安装有转轴(4)，所述转轴(4)外部且位于安装槽(2)内侧套设有抛光布工件(5)，所述工作台(1)顶部且位于抛光布工件(5)连接设有定位板(6)，所述抛光布工件(5)内侧且贴近转轴(4)外围固定安装有安装套管(7)，所述抛光布工件(5)上表面分布有导流槽(8)，所述转轴(4)内部且位于对应的导流槽(8)一侧设有清理装置(9)，且所述清理装置(9)包括套筒(91)和伸缩杆(92)，所述伸缩杆(92)外侧设有清理刷(93)，所述工作台(1)顶部左侧设置有集液箱(10)，所述集液箱(10)顶部中侧贯通连接有导液管(12)，所述导液管(12)上安装有泵体(11)，所述导液管(12)远离泵体(11)的一端安装有喷液板(13)，所述工作台(1)顶部右侧设置有支撑架(14)，所述支撑架(14)顶部左侧固定安装有旋转件(15)，且通过所述旋转件(15)转动安装有连接板(16)，所述连接板(16)远离旋转件(15)的一侧固定安装有修复盘(17)。...

【技术特征摘要】
1.抛光布修复装置，包括工作台(1)、驱动电机(3)、抛光布工件(5)、清理装置(9)、喷液板(13)以及修复盘(17)，其特征在于：所述工作台(1)顶部内侧设有安装槽(2)，所述工作台(1)内部底端固定安装有驱动电机(3)，所述驱动电机(3)顶部安装有转轴(4)，所述转轴(4)外部且位于安装槽(2)内侧套设有抛光布工件(5)，所述工作台(1)顶部且位于抛光布工件(5)连接设有定位板(6)，所述抛光布工件(5)内侧且贴近转轴(4)外围固定安装有安装套管(7)，所述抛光布工件(5)上表面分布有导流槽(8)，所述转轴(4)内部且位于对应的导流槽(8)一侧设有清理装置(9)，且所述清理装置(9)包括套筒(91)和伸缩杆(92)，所述伸缩杆(92)外侧设有清理刷(93)，所述工作台(1)顶部左侧设置有集液箱(10)，所述集液箱(10)顶部中侧贯通连接有导液管(12)，所述导液管(12)上安装有泵体(11)，所述导液管(12)...

【专利技术属性】
技术研发人员：于会永，冯佳峰，王文昌，赵春峰，袁韶阳，荆爱明，穆成锋，张军军，
申请(专利权)人：大庆溢泰半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：黑龙江,23