一种粉体处理设备及使用方法技术

本发明专利技术涉及一种粉体处理设备及使用方法，该设备包括真空腔、U型电极、转料鼓、电源、传动装置、进气孔、出气孔及格架；所述U型电极、转料鼓、传动装置均设置在所述真空腔内；所述转动装置带动所述转料鼓转动；所述U型电极与所述真空腔之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极与所述电源正极连接，所述真空腔接地；所述格架设置在所述转料鼓内，所述转料鼓四周均匀设置交换孔；该使用方法操作简单，使用方便，装卸料简单；本发明专利技术提高粉体在处理过程中的分散性，避免粉体堆积、结块，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好。

A Powder Treatment Equipment and Its Application Method

【技术实现步骤摘要】
一种粉体处理设备及使用方法
本专利技术涉及等离子体处理
，具体地说是一种粉体处理设备及使用方法。
技术介绍
等离子体表面处理：在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，产生等离子体。等离子体是物质的第四态，其中含有大量的电子、离子和自由基等各种活性粒子，活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化，得到满足实际使用要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高，而且改性仅发生在材料表面，对材料内部本体材料的性能没有影响，是理想的表面改性手段。粉体是一种由干燥、分散的固体颗粒组成的细微粒子，由于粉体分子间的作用力，当粉末颗粒粒径很小时，极易在空气中粘结成团，特别是微米、亚微米级的超细粉末，这种现象对粉体的加工过程极为不利。用等离子体处理粉体和颗粒已有多年实践，等离子体处理可改善粉体和颗粒材料的各种化学和/或物理特性，例如氧化、还原、交联、解吸、蚀刻、接枝和/或聚合等性能。由于粉体物料的特殊性质，在对其进行等离子体表面处理时，由于微粒间的团聚和颗粒间的堆积，使得没有暴露在等离子体气氛中的表面得不到处理，因此难以实现单个微粒表面得到全部的处理，导致处理均匀性差，处理效率低，处理效果差。同时，用等离子体处理粉体或颗粒的现有设备结构各异，但它们都有明显缺点，如操作复杂、处理过程中存在处理盲区等。如中国专利CN202205700U公开了一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置，包括转鼓、电极组、进气口、挡板以及等离子体发生电源，所述转鼓内壁固定有挡板，转鼓外设有环形板电极组，在转鼓的两端设有进气口和抽气口。该装置尽管可以实现对材料表面进行等离子体处理，但转鼓在旋转的过程中材料容易集中在转鼓下端，导致下端的材料处理不完全，出现处理盲区。因此，如何提供一种粉体处理设备及使用方法，以实现提高粉体在处理过程中的分散性，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好，装卸料简单，操作方便，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本申请的目的在于提供一种粉体处理设备及使用方法，以实现提高粉体在处理过程中的分散性，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好，装卸料简单，操作方便。为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。一种粉体处理设备，包括真空腔、U型电极、转料鼓、电源、传动装置、进气孔、出气孔及格架；所述U型电极、转料鼓均设置在所述真空腔内；所述传动装置带动所述转料鼓转动；所述U型电极与所述真空腔之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极与所述电源正极连接，所述真空腔接地；或者所述U型电极下端设置有与其隔离的平板电极，平板电极与真空腔之间设置绝缘层，所述平板电极接地；所述格架设置在所述转料鼓内，所述转料鼓四周均匀设置交换孔。优选地，所述进气孔和出气孔分别设置在所述真空腔上，且在所述U型电极与真空腔相对的位置也分别设置与所述进气孔和出气孔相同大小的孔径。优选地，所述转料鼓前、后两端均设有端盖，方便更换处理粉体。优选地，所述传动装置包括电机、第一转辊、第二转辊，所述电机带动第一转辊转动，所述第一转辊带动第二转辊转动，所述第一转辊和第二转辊均设置在所述转料鼓的下端，带动转料鼓缓慢转动。优选地，所述第一转辊和第二转辊的两端均通过轴承和支架固定在所述U型电极内；所述轴承固定在所述支架上；所述电机通过底座固定在所述U型电极外侧。优选地，所述转料鼓前、后两端均设置有限位板，用于防止转料鼓前后移动，所述限位板可拆卸地固定在所述U型电极内。优选地，所述真空腔的一端为封闭结构，另一端设有密封门；所述格架以可拆卸的方式固定在所述转料鼓内，所述格架的平面板上均匀设置有物料孔，所述物料孔的孔径大于粉体的直接。优选地，所述格架为三角棱体结构，三条棱边上均设有凸起，所述转料鼓内设有卡槽，所述凸起与所述卡槽相配合。优选地，所述格架内还设有内层架，所述内层架上也设置物料孔。一种粉体处理设备的使用方法，包括以下步骤：S1、先选好合适尺寸的格架，并将格架固定在转料鼓内，再将粉体放入转料鼓内，并将转料鼓前、后端的端盖闭合；S2、将转料鼓放置在第一转辊、第二转辊上端，并将转料鼓前端的限位板固定好；S3、连接好传动装置，启动电机，传动装置带动转料鼓转动；S4、关闭真空腔上的密封门，先通过出气孔对真空腔进行抽真空，达到预定真空度时，再通过进气孔定量充入反应气体；S5、启动电源，U型电极释放等离子体，通过转料鼓的表面交换孔，等离子体进入转料鼓内，对转料鼓内的粉体进行等离子体处理；随着转料鼓转动，粉体通过格架分散各空隙，使粉体充分处理；S6、步骤S5处理完成后，关闭电源，停止充反应气体，停止抽真空，并对真空腔进行充气，使真空腔内压力恢复为常压；S7、打开密封门，取下转料鼓前端的限位板，并将转料鼓取出，打开端盖，将处理后的粉体集中收集。本专利技术所获得的有益技术效果：1)本专利技术解决了现有处理设备中存在的粉体容易堆积，表面得不到完全处理，处理效率低，处理效果差的缺陷，本专利技术提高粉体在处理过程中的分散性，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好，装卸料简单，操作方便；2)本专利技术采用U型电极，连接电源正极，U型电极下端直接接地，再通过抽真空，充入反应气体，形成等离子体，对粉体进行表面处理；3)本专利技术通过采用转料鼓，并在转料鼓内设置格架，使粉体在等离子体处理过程中均匀分散，避免粉体堆积、结块，使粉体处理的更完全。上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。图1是实施例1粉体处理设备的结构示意图；图2是实施例1粉体处理设备的主视图；图3是实施例1粉体处理设备的内部结构示意图；图4是实施例1中格架的结构示意图；图5是实施例1中转料鼓的结构示意图；图6是实施例3粉体处理设备的主视图；图7是实施例3粉体处理设备的内部结构示意图。在以上附图中：1、真空腔；2、U型电极；3、转料鼓；4、电源；5、进气孔；6、出气孔；7、格架；8、电机；9、第一转辊；10、第二转辊；11、支架；12、限位板；13、凸起；14、物料孔；15、内层架；16、底座。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粉体处理设备，其特征在于，包括真空腔(1)、U型电极(2)、转料鼓(3)、电源(4)、传动装置、进气孔(5)、出气孔(6)及格架(7)；所述U型电极(2)、转料鼓(3)均设置在所述真空腔(1)内；所述传动装置带动所述转料鼓(3)转动；所述U型电极(2)与所述真空腔(1)之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极(2)与所述电源(4)正极连接，所述真空腔(1)接地；所述格架(7)设置在所述转料鼓(3)内，所述转料鼓(3)四周均匀设置交换孔。

【技术特征摘要】
1.一种粉体处理设备，其特征在于，包括真空腔(1)、U型电极(2)、转料鼓(3)、电源(4)、传动装置、进气孔(5)、出气孔(6)及格架(7)；所述U型电极(2)、转料鼓(3)均设置在所述真空腔(1)内；所述传动装置带动所述转料鼓(3)转动；所述U型电极(2)与所述真空腔(1)之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极(2)与所述电源(4)正极连接，所述真空腔(1)接地；所述格架(7)设置在所述转料鼓(3)内，所述转料鼓(3)四周均匀设置交换孔。2.根据权利要求1所述的粉体处理设备，其特征在于，所述进气孔(5)和出气孔(6)分别设置在所述真空腔(1)上，且在所述U型电极(2)与真空腔(1)相对的位置也分别设置与所述进气孔(5)和出气孔(6)相同大小的孔径。3.根据权利要求1所述的粉体处理设备，其特征在于，所述转料鼓(3)前、后两端均设有端盖，方便盛装和取出待处理的粉体。4.根据权利要求1-3任一项所述的粉体处理设备，其特征在于，所述传动装置包括电机(8)、第一转辊(9)、第二转辊(10)，所述电机(8)带动第一转辊(9)转动，所述第一转辊(9)带动第二转辊(10)转动，所述第一转辊(9)和第二转辊(10)均设置在所述转料鼓(3)的下端，带动转料鼓(3)缓慢转动。5.根据权利要求4所述的粉体处理设备，其特征在于，所述第一转辊(9)和第二转辊(10)的两端均通过轴承和支架(11)固定在所述U型电极(2)内；所述轴承固定在所述支架(11)上；所述电机(8)通过底座(16)固定在所述U型电极(2)外侧。6.根据权利要求1-3任一项所述的粉体处理设备，其特征在于，所述转料鼓(3)前、后两端均设置有限位板(12)，用于防止转料鼓(3)前后移动，所述限位板(12)可拆卸地固定在所述U型电极(2)内。7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙敏，刘鑫培，王文韵，
申请(专利权)人：苏州科技大学，苏州奥米格材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32