【技术实现步骤摘要】
一种用于化学气相沉积反应的源瓶
本技术涉及化学气相沉积
，特别是指一种用于化学气相沉积反应的源瓶。
技术介绍
化学气相沉积(CVD，ChemicalVaporDeposition)是一种薄膜沉积方式，一般参与反应物质为气态。当反应物为液态时，需要对反应源进行加热，保证反应物以气态形式参与反应。通常将反应源放置在源瓶中，现有技术中源瓶的结构如图1所示，源瓶包括瓶体3、管路6和阀门7，在瓶体3的顶部设置连通瓶体内外的管路6，管路6上设置有阀门7。源瓶的底部外侧设置有第一加热带2以及对应第一热电偶1，侧壁和上部的外侧有第二加热带4及对应的第二热电偶5，第一加热带2和第二加热带4外部含绝热材质，所述第一热电偶1和所述第二热电偶5设置在瓶体3和加热带之间。反应源9放置在瓶体3内，设置在瓶体3外侧的加热带加热瓶体3，瓶体3与反应源9热交换，反应源9受热形成反应气体8，反应气体8通过管路6和阀门7流出瓶体3参与化学气相沉积反应，设置在瓶体3外表面的热电偶检测瓶体3的温度变化进行控温，保证反应源9的温度稳定，持续产生反应气体8。在实际工艺时，源瓶外侧的第一加热带2和第二加热...
【技术保护点】
1.一种用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，其包括上盖(10)、瓶身(13)和加热带；所述上盖(10)和所述瓶身(13)密封连接，所述瓶身(13)的外表面设置有加热带；所述瓶身(13)内用于盛放反应源(9)，所述瓶身(13)和所述上盖(10)中的至少一者上设置有伸入所述反应源(9)的热交换结构，所述热交换结构未将所述反应源(9)完全隔离，并用于将所述加热带的热量传导至反应源(9)。
【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，其包括上盖(10)、瓶身(13)和加热带；所述上盖(10)和所述瓶身(13)密封连接，所述瓶身(13)的外表面设置有加热带；所述瓶身(13)内用于盛放反应源(9)，所述瓶身(13)和所述上盖(10)中的至少一者上设置有伸入所述反应源(9)的热交换结构，所述热交换结构未将所述反应源(9)完全隔离，并用于将所述加热带的热量传导至反应源(9)。2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，所述热交换结构为平板结构，多块所述平板结构交错排列。3.根据权利要求2所述的用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，所述平板结构的板面上设置有多个凸起，所述凸起上设置有通孔。4.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，所述热交换结构包括与所述瓶身(13)的底部连接的第一环形结构，所述第一环形结构与所述瓶身(13)连接的部位设置有至少一个第一缺口(17)。5.根据权利要求4所述的用于化学气相沉积反应的源瓶，其特征在于，所述热交换结构还包括与所述上盖(10)连接的第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：张军，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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