A manufacturing method for a component (350) for a component bearing member (300) includes: setting a conductive structure (100); forming a highly conductive and electrically insulated or semi-conductive structure (102) on the conductive structure (100); and subsequently attaching a thermally conductive and electrically insulated structure (200) to an exposed surface of a highly conductive and electrically insulated or semi-conductive structure (102), which is thermally conductive and electrically insulated. The structure has a lower thermal conductivity than the high thermal conductivity structure (102), which is electrically insulated or semi-conductive.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】部件承载件中用于散热的高导热介电结构本专利技术涉及制造方法并涉及制造部件承载件的方法。此外,本专利技术涉及用于部件承载件的组成件(consituent,构成件、组成部分)、涉及部件承载件并涉及使用方法。随着电子工业的发展,电子产品具有朝向微型化和高性能的趋势,并且相应地,开发了多层板以便满足对高密度集成电路的需求并同时减小封装基板的厚度。在部件承载件技术的现代应用中,实施了复杂的电子功能。这也涉及高功率密度和高电压应用。因此,通过安装在部件承载件上和/或嵌入部件承载件内的一个或多个部件可以生成大量的热,该部件承载件诸如印刷电路板(PCB)。这可能对可靠性有影响。传统的PCB依赖于将FR4和铜作为散热(heatspread,热散布)结构。FR4用作PCB积层中的机械体和电介质。尽管FR4在一定程度上导热,但是其热导率并不很高(通常约0.5W/mK)。出于该原因,热主要经由铜结构散发。然而,在具有复杂电子功能和高集成密度导电结构的现代印刷电路板应用的场景中可以发生的是,印刷电路板和/或安装在其上和/或其中的部件在运行期间被显著地加热,并且不能充分地移除所生成的热。这引起可靠性问题和过热危险。本专利技术的目的在于使能够利用合理的制造努力来制造可靠的部件承载件。为了实现上文限定的目的,提供了根据独立权利要求的制造方法、制造部件承载件的方法、用于部件承载件的组成件、以及部件承载件。根据本专利技术的示例性实施方式,提供了一种制造用于部件承载件的组成件的制造方法,该方法包括:设置导电结构;在导电结构上形成高导热且电绝缘或半导电的结构;以及随后,在高导热且电绝缘或半导电的结 ...
【技术保护点】
1.一种制造用于部件承载件(300)的组成件(350)的制造方法,所述方法包括:设置导电结构(100);在所述导电结构(100)上形成高导热且电绝缘或半导电的结构(102);随后,在所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)的暴露表面上附接导热且电绝缘的结构(200),所述导热且电绝缘的结构具有比所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)低的热导率。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.27 DE 102016118275.31.一种制造用于部件承载件(300)的组成件(350)的制造方法,所述方法包括:设置导电结构(100);在所述导电结构(100)上形成高导热且电绝缘或半导电的结构(102);随后,在所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)的暴露表面上附接导热且电绝缘的结构(200),所述导热且电绝缘的结构具有比所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)低的热导率。2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,所述方法包括移除所述导电结构(100)的至少一部分。3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,使所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)形成为全部地或部分地覆盖所述导电结构(100)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)在高温下、特别是在大于300℃的温度下形成在所述导电结构(100)上,所述高温与所述导热且电绝缘的结构(200)的完整性不相容。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制造方法,其中,所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)通过由下述构成的组中的至少一种形成在所述导电结构(100)上:溅射、物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、施加纳米颗粒、烧结以及电弧沉积。6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造方法,其中,通过层压完成所述附接。7.根据权利要求1至6中任一项所述的制造方法,其中,将所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)形成为薄层,特别地具有小于或等于10μm的厚度,更特别地具有小于或等于5μm的厚度,甚至更特别地具有在100nm至5μm之间的范围内的厚度。8.根据权利要求1至7中任一项所述的制造方法,其中,将所述导电结构(100)完全移除,特别地通过蚀刻来移除。9.根据权利要求1至8中任一项所述的制造方法,其中,对所述导电结构(100)图案化,特别地通过光刻和蚀刻进行所述图案化,使得图案化的导电结构(100)保持附接至所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)。10.根据权利要求1至9中任一项所述的制造方法,其中,在所述导电结构(100)上的所述高导热且电绝缘或半导电的结构(102)包括由下述构成的组中的至少一种:无机材料、陶瓷、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、氧化铝、氮化铝、类金刚石碳以及石墨烯。11.根据权利要求1至10中任一项所述的制造方法,其中,所述导电层结构(100)包括由下述构成的组中的至少一种:铜、铝、镍、银、金、钯和钨,所提及的材料中的任意一种可选地涂覆有超导材料诸如石墨烯。12.根据权利要求1至11中任一项所述的制造方法,其中,所述导热且电绝缘的结构(102)包括由下述构成的组中的至少一种:树脂,特别是增强树脂或非增强树脂,例如环氧树脂或双马来酰亚胺-三嗪树脂、FR-4、FR-5;氰酸酯;聚亚苯基衍生物;玻璃;预浸材料;聚酰亚胺;聚酰胺;液晶聚合物;环氧基积层膜;聚四氟乙烯;陶瓷;以及金属氧化物。13.根据权利要求1至12中任一项所述的制造方法,其中,在所述附接之前,将所述导热且电绝缘的结构(102)连接至完全固化的结构(202),特别是连接至覆盖有至少一个导电层结构(204)的完全固化的结构(202),诸如芯部或多层件。14.根据权利要求1至13中任一项所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:乔纳森·西尔瓦诺·德索萨,汉内斯·沃拉伯格,马库斯·莱特格布,
申请(专利权)人:奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司,
类型:发明
国别省市:奥地利,AT
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