蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：掩模箱，所述掩模箱用于承载多层掩模；以及掩模箱室，所述掩模箱室用于放置所述掩模箱，其中，所述蒸镀装置还具备对掩模箱的位置进行检测的位置检测系统，能够检测掩模箱在掩模箱室中的位置，从而使得掩模箱能够放置到正确的位置，由此确保掩模的位置正确。

Evaporating Plating Device

The invention discloses an evaporation plating device, which uses a mask for evaporation plating. It has: a mask box, which is used for carrying multi-layer masks; and a mask chamber, which is used for placing the mask box. The evaporation plating device also has a position detection system for detecting the position of the mask box, which can detect the position of the mask box in the mask chamber. So that the mask can be placed in the right position, thus ensuring the correct position of the mask.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置
本专利技术涉及一种蒸镀装置，具体涉及一种具有位置检测系统以准确判断掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确的蒸镀装置。
技术介绍
蒸镀装置在进行蒸镀作业时往往需要使用掩模。为了便于实现自动化和提高效率，可以利用掩模箱来承载多个掩模。掩模箱例如可从上方放入蒸镀装置的掩模箱室内，在需要时可借助于机械手等装置经掩模箱室的取放口取出掩模。在蒸镀装置进行蒸镀时，掩模箱承载多层掩模，被从外部放入掩模箱室中，如果掩模箱在掩模箱室内部的位置不正确，则可能发生掩模无法经取放口取出的问题，由此会导致设备故障，严重影响生产效率。由于掩模相对于掩模箱的位置是固定的，因此，只要能保证掩模箱在掩模箱室中的位置正确，则掩模在掩模箱室中的正确位置就能得到保证。因此如何确认掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确成为非常重要的课题。
技术实现思路
本专利技术正是为了解决上述问题而提出的，其主要目的在于提供一种判断掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确的蒸镀装置。为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：掩模箱，所述掩模箱用于承载多层掩模；以及掩模箱室，所述掩模箱室用于放置所述掩模箱，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：掩模箱(100)，所述掩模箱(100)用于承载多层掩模；以及掩模箱室(200)，所述掩模箱室(200)用于放置所述掩模箱(100)，所述蒸镀装置的特征在于，所述蒸镀装置还具备对所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中的位置进行检测的位置检测系统。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：掩模箱(100)，所述掩模箱(100)用于承载多层掩模；以及掩模箱室(200)，所述掩模箱室(200)用于放置所述掩模箱(100)，所述蒸镀装置的特征在于，所述蒸镀装置还具备对所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中的位置进行检测的位置检测系统。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述位置检测系统包括距离传感器(210)，所述距离传感器(210)以测距的方式对所述掩模箱(100)的位置进行检测。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述掩模箱(100)上设置有圆柱状结构(106)，所述距离传感器(210)用于对所述圆柱状结构(106)的外周面进行测距。4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述圆柱状结构(106)为所述掩模箱(100)的支承脚部。5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，所述掩模箱(100)具有四个支承脚部，其中，所述距离传感器(210)至少包括第一传感器(210a)和第二传感器(210b)，分别用于对位于对角线上的两个支承脚部进行测距。6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，所述支承脚部的下端面上设有定位孔，用于与位于下方的定位销(205)相配合；所述距离传感器(210)配置成测头朝向所述定位销(205)的轴线。7.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述位置检测系统包括光传感器(220)，所述光传感器(220)以光是否被遮挡来对所述掩模箱(100)的位置进行检测。8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，所述光传感器(220)具有发光部(221)和受光部(222)，所述发光部(221)和所述受光部(222)分别设置在所述掩模箱室(200)的两侧，使得所述掩模箱(100)能够遮挡或者不遮挡所述发光部(221)发向所述受光部(222)的光。9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于正...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤功康，前泽裕介，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP