The invention discloses a mask plate and an evaporation plating device. The mask plate includes a plate body with evaporation holes, a dust recess on the plate body, a common side wall between the dust recess and the evaporation hole, and a common side wall separating dust to accommodate the recess and the evaporation hole. The mask plate is equipped with evaporation holes and dust recesses. There are common sidewalls between dust recesses and evaporation holes. There are common sidewalls to separate dust recesses and evaporation holes. That is to say, dust recesses and evaporation holes are spaced. During evaporation, dust recesses are used to accommodate dust. Dust particle pollution during evaporation can be improved and production can be greatly increased. The product yield, and the distance between the mask and the substrate is the distance between the evaporation hole and the substrate, so that the formation of evaporation shadow will not increase.
【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版和蒸镀装置
本文涉及蒸镀设备
，尤指一种掩膜版和一种蒸镀装置。
技术介绍
OLED显示设备中，有机物的制作需要使用掩膜版。掩膜版在蒸镀过程中需要注意两方面，一方面是掩膜版与基板之间有一定距离，而蒸镀粒子在水平方向具有一定的分速度，会产生蒸镀阴影；另一方面是蒸镀过程中不可避免的灰尘，需要进行防灰尘设计。如图1所示，一种掩膜版的防灰尘方案，通过在版体100上蒸镀孔101处设置沉孔102(半蚀刻孔)，蒸镀孔101位于沉孔102的底壁上，蒸镀孔101之外的沉孔102的底壁用来承接灰尘，该方案因增加了蒸镀孔101与基板之间的距离(其大于掩膜版与基板之间的距离)，故其形成的蒸镀阴影会增大(增大的蒸镀阴影见图中a处)。图1中，标号200为蒸镀源，标号300为基板。
技术实现思路
为了解决上述技术问题中的至少之一，本文提供了一种掩膜版，在蒸镀时既满足防灰尘，还能够防止蒸镀阴影增大。本专利技术还提供了一种蒸镀在装置。本专利技术提供的掩膜版，包括版体，所述版体上设置有蒸镀孔；所述版体上还设置有尘埃容纳凹部，所述尘埃容纳凹部与所述蒸镀孔之间具有共有侧壁，所述共有侧壁分隔所述...
【技术保护点】
1.一种掩膜版，包括版体，所述版体上设置有蒸镀孔；其特征在于，所述版体上还设置有尘埃容纳凹部，所述尘埃容纳凹部与所述蒸镀孔之间具有共有侧壁，所述共有侧壁分隔所述尘埃容纳凹部和所述蒸镀孔。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，包括版体，所述版体上设置有蒸镀孔；其特征在于，所述版体上还设置有尘埃容纳凹部，所述尘埃容纳凹部与所述蒸镀孔之间具有共有侧壁，所述共有侧壁分隔所述尘埃容纳凹部和所述蒸镀孔。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述尘埃容纳凹部为容纳槽。3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述容纳槽为环形槽，所述蒸镀孔位于所述环形槽围成区域的内侧。4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述环形槽的宽度为100～300μm。5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述环形槽的背向所述蒸...
【专利技术属性】
技术研发人员：张逵，杨盛际，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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