The invention provides a fixed assembly of a deposition ring, which comprises a support column, a fixing plate, a limiting member and an elastic member, wherein a supporting column is connected with the deposition ring at the first end; a fixing plate is fixed and provided with an installation hole on the fixing plate, and the second end of the supporting column penetrates the installation hole; and a limiting member is arranged on the supporting column, and the elastic member is limited. Between the limit piece and the fixing plate, and under the elastic action of the support column, the support column can drop in the mounting hole to apply a compressive force to the depositing ring to fix the depositing ring. The invention also provides a loading device and a reaction chamber. The invention greatly improves the service life of the fixed assembly, the loading device and the reaction chamber of the deposition ring.
【技术实现步骤摘要】
沉积环固定组件、承载装置及反应腔室
本专利技术属于半导体加工设备
,具体涉及一种沉积环固定组件、承载装置及反应腔室。
技术介绍
物理气相沉积(以下简称PVD)通常应用在集成电路的制备过程中来沉积薄膜,最常用的是磁控溅射沉积方式。图1为典型的磁控溅射沉积腔室的结构示意图,如图1所示,该磁控溅射沉积腔室包括:腔体1、磁控溅射装置、环形内衬7、盖环8和沉积环10。其中,腔体1与靶材4限定出了腔室空间,在靶材4的上方设置磁控溅射装置,包括:磁控管5和电机6,电机6驱动磁控管5在靶材4的上方旋转,以扫描整个靶材4,靶材4与直流电源相连,直流电源会施加偏压给靶材4,使靶材4相对于接地的腔体成为负压,以致工艺气体放电而产生等离子体,并且,该负偏压同时能将带正电的离子吸引至靶材4,当正电的离子的能量足够高并在由旋转的磁控管5形成的磁场作用下轰击靶材4时,会使金属原子逸出靶材表面,可扩散沉积在基片上形成薄膜;在腔室空间内设置有基座9,用于固定、支撑和传输基片以及对基片S进行温控;环形内衬7为桶状结构,套置在腔室的侧壁内侧,保护腔室的内侧壁;环形内衬7具有朝向腔室中心延伸的悬臂,盖环8搭置在基座9和环形内衬7的悬臂上,以遮挡基座9和环形内衬7的悬臂之间的间隙;沉积环10安装在基座9的边缘区域设置的环形凹部内,沉积环10的内径小于基片的直径,外径大于盖环的内径,以使基片的边缘叠压在沉积环10的内圈部分,盖环8叠压在沉积环10的外圈部分。为防止沉积环10在基片S在上升时被粘起,现有技术中通常采用两个图2所示的弹簧扣将沉积环10固定在基座9上,该弹簧扣包括:薄钣金件2、安装板 ...
【技术保护点】
1.一种沉积环固定组件,其特征在于,包括支撑柱、固定板、限位件以及弹性件,其中:支撑柱,所述支撑柱的第一端用于与沉积环连接;固定板,固定设置且所述固定板上开设有安装孔,所述支撑柱的第二端贯穿所述安装孔;限位件,设置在所述支撑柱上;弹性件,被限制在所述限位件和所述固定板之间,且在其弹力作用下所述支撑柱能在所述安装孔内下降,以向所述沉积环施加压紧力来固定沉积环。
【技术特征摘要】
1.一种沉积环固定组件,其特征在于,包括支撑柱、固定板、限位件以及弹性件,其中:支撑柱,所述支撑柱的第一端用于与沉积环连接;固定板,固定设置且所述固定板上开设有安装孔,所述支撑柱的第二端贯穿所述安装孔;限位件,设置在所述支撑柱上;弹性件,被限制在所述限位件和所述固定板之间,且在其弹力作用下所述支撑柱能在所述安装孔内下降,以向所述沉积环施加压紧力来固定沉积环。2.根据权利要求1所述的沉积环固定组件,其特征在于,所述支撑柱包括柱本体和第一凸块,所述柱本体的第一端沿径向向外形成所述第一凸块,所述第一凸块用于搭接在所述沉积环上设置的搭接面上。3.根据权利要求2所述的沉积环固定组件,其特征在于,所述支撑柱还包括第二凸块,所述第二凸块位于所述第一凸块和所述固定板之间,所述第二凸块用于防止所述支撑柱在安装过程中自所述安装孔掉落。4.根据权利要求3所述的沉积环固定组件,其特征在于,所述第一凸块采用绝缘材料制成。5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:李冰,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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