一种气相沉积设备的喷灯机构制造技术

一种气相沉积设备的喷灯机构，包括：内支架、灯调整器和喷射器，灯调整器位于内支架上，喷射器设置在灯调整器上，喷射器包括：喷灯架和喷灯，喷灯为多个，多个喷灯位于喷灯架上并且从上至下依次排列。具有上述结构的喷灯机构，不仅可以高效地在靶棒上沉积材料，而且可以对沉积的速率进行调节，从而调整光纤预制棒的直径，自由度高。

A Blowtorch Mechanism for Vapor Deposition Equipment

A spray lamp mechanism of a vapor deposition device includes an inner bracket, a lamp regulator and an ejector. The lamp regulator is located on the inner bracket, and the ejector is arranged on the lamp regulator. The ejector comprises a spray lamp holder and a spray lamp. The spray lamp has a plurality of spray lamps, and a plurality of spray lamps are arranged on the spray lamp holder in order from top to bottom. The blowtorch mechanism with the above structure can not only deposit materials on the target rod efficiently, but also adjust the deposition rate, thereby adjusting the diameter of the optical fiber preform rod with high degree of freedom.

【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积设备的喷灯机构
本专利技术涉及光纤预制棒制造领域，尤其是涉及一种气相沉积设备的喷灯机构。
技术介绍
光纤预制棒是具有特定折射率剖面并用于制造光导纤维(简称光纤)的石英玻璃棒。预制棒一般直径为几毫米至几十毫米(俗称光棒)。光纤的内部结构就是在预制棒中形成的。因为预制棒的制作是光纤工艺中最重要的部分，所以从20世纪70年代末期开始规模生产光纤以来，对光纤预制棒制造技术的研究和完善改进就从来没有间断过。在光纤预制棒的制造过程中，其外包层常常采用OVD法制备，OVD法具有效率高、灵活性强、经济效益好等优点。如：中国专利CN107188404公开的一种使用有机硅制备高质量光纤预制棒的方法，该方法通过控制喷灯和芯棒的相对移动速度、喷灯与芯棒的相对旋转速度、燃气与氧气的比例、有机硅载气比例和箱体内风速，最终优化OVD沉积第一层的反应温度，从而使得芯棒上第一层SiO2沉积物的粒径大小介于20nm～200nm、且粒径分布均匀，获得烧结后光棒界面质量好的光纤预制棒。为了克服传统光纤预制棒OVD沉积制备装置沉积效率和速率不高的问题，中国专利CN204644158公开了一种多喷灯的疏松体光纤预制棒OVD沉积制备装置，该制备装置通过多喷灯来提高疏松体光纤预制棒制备沉积速率和效率高，并能使疏松体光纤预制棒的直径的均匀性好，能保证产品内部晶格结构的单一性。然而，上述制备装置虽然通过设置多个喷灯来实现高速沉积，但是由于其喷灯与靶棒的距离相对固定，因此沉积的速率无法调节，光纤预制棒的直径相对固定，制备自由度低。
技术实现思路
本专利技术技术方案是针对上述情况的，为了解决上述问题而提供一种气相沉积设备的喷灯机构，所述喷灯机构包括：内支架、灯调整器和喷射器，所述灯调整器位于所述内支架上，所述喷射器设置在所述灯调整器上，所述喷射器包括：喷灯架和喷灯，所述喷灯为多个，多个喷灯位于所述喷灯架上并且从上至下依次排列。进一步，所述喷射器还包括：火焰检测器，所述火焰检测器为两个，一个火焰检测器位于所述喷灯架的上端，另一个火焰检测器位于所述喷灯架的下端。进一步，所述灯调整器包括：调整座、调整电机、调整丝杆、调整丝杠座和调整螺母，所述调整座位于所述内支架上，所述调整电机固定在所述调整座上，所述调整丝杆通过所述调整丝杠座固定在所述调整座上，所述调整电机与所述调整丝杆形成转动连接，所述调整螺母与所述调整丝杆啮合，所述调整螺母与所述喷射器形成固定，进一步，所述灯调整器还包括：调整轨道和调整滑块，所述调整轨道与所述调整丝杠相互平行，所述调整滑块位于所述调整轨道上，所述调整滑块与所述喷射器形成固定。进一步，所述灯调整器还包括：极限开关，所述极限开关为两个，一个极限开关位于所述调整座的左端，另一个极限开关位于所述调整座的右端。进一步，所述灯调整器还包括：原点感应器，所述原点感应器位于两个极限开关之间。采用上述技术方案后，本专利技术的效果是：具有上述结构的喷灯机构，不仅可以高效地在靶棒上沉积材料，而且可以对沉积的速率进行调节，从而调整光纤预制棒的直径，自由度高。附图说明图1为本专利技术涉及的气相沉积设备的示意图；图2为本专利技术涉及的气相沉积设备的局部视图；图3为本专利技术涉及的机架的示意图；图4为本专利技术涉及的机架的另一示意图；图5为本专利技术涉及的送料机构的示意图；图6为本专利技术涉及的升降器的示意图；图7为本专利技术涉及的横移器的示意图；图8为本专利技术涉及的旋转器的示意图；图9为本专利技术涉及的反应釜的示意图；图10为本专利技术涉及的密封罩的示意图；图11为本专利技术涉及的密封罩的局部视图；图12为本专利技术涉及的反应箱的示意图；图13为本专利技术涉及的排气装置的示意图；图14为本专利技术涉及的喷灯机构的示意图；图15为本专利技术涉及的灯调整器的示意图；图16为本专利技术涉及的喷射器的示意图；图17为本专利技术涉及的托盘的示意图；图18为本专利技术涉及的托盘的内部视图；图19为本专利技术涉及的托杆的内部视图。具体实施方式下面通过实施例对本专利技术技术方案进一步的描述：本专利技术提供一种气相沉积设备，气相沉积设备的整体高度约为10m。结合图1和图2所示，气相沉积设备包括：机架1、送料机构2、反应釜3、喷灯机构4和托盘5。送料机构2、反应釜3、喷灯机构4和托盘5位于机架1上，喷灯机构4与反应釜3正对，送料机构2、反应釜3与托盘5相互对齐并从上往下依次排列。气相沉积设备工作时，利用送料机构2将靶棒固定好并将靶棒送入反应釜3中，喷灯机构4对靶棒进行喷射，与此同时，送料机构2控制靶棒进行旋转以及往复升降，从而使气体均匀地喷烧沉积在靶棒上进行反应。在反应过程中，反应釜3同时向其内部送气以及向其外部排气，并且送气速度大于排气速度，在反应釜3中形成正压，这样可以防止外界的杂质进入反应釜中。托盘5支撑靶棒的下端，并且可以随着靶棒旋转和升降，这样可以使靶棒的升降过程更加平稳，材料喷烧沉积更加均匀。光纤预制棒制备完成后，送料机构2将其送出反应釜3进行卸料。具有上述结构的气相沉积设备，采用立式安装的方式，即使对于大型的靶棒，其装入过程也十分方便，而且可以准确地将靶棒传送至沉积位置上，保证光纤预制棒的质量。具体地，机架1包括：外支架11、容纳室12、顶部平台13、外部检修梯14和内部检修梯15，顶部平台13位于外支架11的上端，容纳室12、外部检修梯14和内部检修梯15固定在外支架11的中部，外支架11的下端埋入地底中，外部检修梯14位于容纳室12的外部并且靠近容纳室12的位置，内部检修梯15位于容纳室12的内部。反应釜3从容纳室12的内部延伸至外部，喷灯机构4位于容纳室12的内部，内部检修梯15位于靠近喷灯机构4的位置，送料机构2位于顶部平台13上，托盘5位于外支架11的下端。若在工作过程中发现气相沉积设备状态异常，则工作人员可以到达顶部平台13、外部检修梯14和内部检修梯15位置处对气相沉积设备进行检修。其中，本专利技术的喷灯机构4上下的跨度较大，设置内部检修梯15能方便工作人员对其进行详细的检修，保证了光纤预制棒反应和沉积的质量。结合图3-4所示，容纳室12具有外部门121、闩锁122、排气缺口123和通风孔124。闩锁122为多个，多个闩锁122位于外部门121上并且从上往下依次排列，外部门121可利用闩锁122进行锁定从而保持关闭状态，工作人解除闩锁的锁定后可打开外部门121进入容纳室12内部。反应釜3通过排气缺口123从容纳室12的内部延伸至外部。通风孔124与喷灯机构4正对，保证喷灯机构4附近的空气流通，其中，通风孔124即可以防止容纳室12内部过热，又可以为检修的工作人员提供内外的空气流通。顶部平台13的边缘具有护栏131，顶部平台13的底部具有送料缺口132，送料缺口132与送料机构2正对。送料机构2在进料和卸料过程中，光纤预制棒的上端可以在送料缺口132中移动。如图5所示，送料机构2包括：升降器21、横移器22和旋转器23，横移器22设置在升降器21上，旋转器23设置在横移器22上。在送料和沉积反应时，将靶棒安装在旋转器23上，通过升降器21控制靶棒上升和下降，通过横移器22控制靶棒送入或送出反应釜3，通过旋转器23控制靶棒旋转。如图6所示，升降器21包括：升降支架211、升降电机212、升降丝杆213、升降丝杠座214、升降螺母215、升本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气相沉积设备的喷灯机构，其特征在于：所述喷灯机构包括：内支架、灯调整器和喷射器，所述灯调整器位于所述内支架上，所述喷射器设置在所述灯调整器上，所述喷射器包括：喷灯架和喷灯，所述喷灯为多个，多个喷灯位于所述喷灯架上并且从上至下依次排列。

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备的喷灯机构，其特征在于：所述喷灯机构包括：内支架、灯调整器和喷射器，所述灯调整器位于所述内支架上，所述喷射器设置在所述灯调整器上，所述喷射器包括：喷灯架和喷灯，所述喷灯为多个，多个喷灯位于所述喷灯架上并且从上至下依次排列。2.根据权利要求1所述的气相沉积设备的喷灯机构，其特征在于：所述喷射器还包括：火焰检测器，所述火焰检测器为两个，一个火焰检测器位于所述喷灯架的上端，另一个火焰检测器位于所述喷灯架的下端。3.根据权利要求1所述的气相沉积设备的喷灯机构，其特征在于：所述灯调整器包括：调整座、调整电机、调整丝杆、调整丝杠座和调整螺母，所述调整座位于所述内支架上，所述调整电机固定在所述调整座上，所述调整丝杆通过所述调整...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾勇，张舞杰，谢长贵，邓锦飞，
申请(专利权)人：无锡市凯灵电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32