一种气相沉积设备的反应釜制造技术

一种气相沉积设备的反应釜，包括：密封罩、反应箱、排气装置和送气管，密封罩密封反应箱的上端，排气装置与反应箱连通，送气管为多个，密封罩与至少一个送气管连通，反应箱的下端与至少一个送气管连通。上述反应釜由于采用了密封罩进行动态密封，因此在送料完成后能保障气密性，不仅可以达到光纤预制棒的均匀性要求，还可以保证制备效率和质量。

A Reactor for Gas Deposition Equipment

The reactor of a vapor deposition device includes a sealing cover, a reaction box, an exhaust device and a gas supply pipe, an upper end of the sealing cover sealing reaction box, an exhaust device connected with the reaction box, a plurality of air supply pipes, a sealing cover connected with at least one air supply pipe, and a lower end of the reaction box connected with at least one air supply pipe. Because the reactor is sealed dynamically with a sealing cover, the gas tightness can be guaranteed after the feeding is completed, which not only meets the uniformity requirements of the optical fiber preform, but also ensures the preparation efficiency and quality.

【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积设备的反应釜
本专利技术涉及光纤预制棒制造领域，尤其是涉及一种气相沉积设备的反应釜。
技术介绍
光纤预制棒是具有特定折射率剖面并用于制造光导纤维(简称光纤)的石英玻璃棒。预制棒一般直径为几毫米至几十毫米(俗称光棒)。光纤的内部结构就是在预制棒中形成的。因为预制棒的制作是光纤工艺中最重要的部分，所以从20世纪70年代末期开始规模生产光纤以来，对光纤预制棒制造技术的研究和完善改进就从来没有间断过。在光纤预制棒的制造过程中，其外包层常常采用OVD法制备，OVD法具有效率高、灵活性强、经济效益好等优点。如：中国专利CN107188404公开的一种使用有机硅制备高质量光纤预制棒的方法，该方法通过控制喷灯和芯棒的相对移动速度、喷灯与芯棒的相对旋转速度、燃气与氧气的比例、有机硅载气比例和箱体内风速，最终优化OVD沉积第一层的反应温度，从而使得芯棒上第一层SiO2沉积物的粒径大小介于20nm～200nm、且粒径分布均匀，获得烧结后光棒界面质量好的光纤预制棒。为了克服传统光纤预制棒OVD沉积制备装置沉积效率和速率不高的问题，中国专利CN204644158公开了一种多喷灯的疏松体光纤预制棒OVD沉积制备装置，该制备装置通过多喷灯来提高疏松体光纤预制棒制备沉积速率和效率高，并能使疏松体光纤预制棒的直径的均匀性好，能保证产品内部晶格结构的单一性。然而，虽然上述制备装置将多个喷灯设置在进风孔和抽风孔之间，保证了沉积的均匀性，但是其气密性并没有得到保障，尤其是在送料轨迹经过的位置上，非常容易出现漏气的情况，而如果在沉积过程中出现漏气，则会大大影响沉积的效率和质量。专利技术内容本专利技术技术方案是针对上述情况的，为了解决上述问题而提供一种气相沉积设备的反应釜，所述反应釜包括：密封罩、反应箱、排气装置和送气管，所述密封罩密封所述反应箱的上端，所述排气装置与所述反应箱连通，所述送气管为多个，所述密封罩与至少一个送气管连通，所述反应箱的下端与至少一个送气管连通。进一步，所述密封罩包括：第一密封板、第一板推动器、第一筒罩、第一筒推动器、第二密封板、第二板推动器、第二筒罩和第二筒推动器，所述第一密封板设置在所述第一板推动器上，所述第一筒罩设置在所述第一筒推动器上，所述第二密封板设置在所述第二板推动器上，所述第二筒罩设置在所述第二筒推动器上，所述第一密封板与所述第二密封板之间形成密封孔，所述第一筒罩与所述第二筒罩之间形成密封筒，所述密封筒与至少一个送风管连通。进一步，所述第一板推动器和所述第二板推动器都包括：板支架、板推动气缸、板连接块、板移动导杆和板拖链，所述板推动气缸位于所述板支架上，所述板推动气缸与所述板连接块形成移动连接，所述板移动导杆穿过所述板连接块，所述板移动导杆与所述板推动气缸的活塞杆相互平行，所述板拖链的一端与所述板支架形成固定，另一端与所述板连接块形成固定，所述第一板推动器的板连接块与所述第一密封板形成固定，所述第二板推动器的板连接块与所述第二密封板形成固定。进一步，所述第一筒推动器和第二筒推动器都包括：筒支架、筒推动气缸、筒连接块和筒移动导杆，所述筒推动气缸固定在所述筒支架上，所述筒推动气缸与所述筒连接块形成移动连接，所述筒移动导杆穿过所述筒连接块，所述筒移动导杆与所述筒推动气缸的活塞杆相互平行，所述第一筒推动器的筒连接块与所述第一筒罩形成固定，所述第二筒推动器的筒连接块与所述第二筒罩形成固定。进一步，所述反应箱的右端具有喷射口、左端具有排气槽、上端具有送料缺口，下端与至少一个送风管连通，前端具有内部门，所述内部门上设置有门锁，所述排气槽与所述排气装置连通，所述密封罩密封所述送料缺口。进一步，所述排气装置具有连接槽、集中管和排气管，所述连接槽、所述集中管与所述排气管依次连通，所述连接槽与所述排气槽连通。进一步，所述连接槽中具有栅格，所述栅格与喷射口正对。进一步，所述栅格上设置有旋钮，所述旋钮与所述栅格的底壁形成转动连接。采用上述技术方案后，本专利技术的效果是：具有上述结构的反应釜，由于采用了密封罩进行动态密封，因此在送料完成后能保障反应釜的气密性，不仅可以达到光纤预制棒的均匀性要求，还可以保证制备效率和质量。附图说明图1为本专利技术涉及的气相沉积设备的示意图；图2为本专利技术涉及的气相沉积设备的局部视图；图3为本专利技术涉及的机架的示意图；图4为本专利技术涉及的机架的另一示意图；图5为本专利技术涉及的送料机构的示意图；图6为本专利技术涉及的升降器的示意图；图7为本专利技术涉及的横移器的示意图；图8为本专利技术涉及的旋转器的示意图；图9为本专利技术涉及的反应釜的示意图；图10为本专利技术涉及的密封罩的示意图；图11为本专利技术涉及的密封罩的局部视图；图12为本专利技术涉及的反应箱的示意图；图13为本专利技术涉及的排气装置的示意图；图14为本专利技术涉及的喷灯机构的示意图；图15为本专利技术涉及的灯调整器的示意图；图16为本专利技术涉及的喷射器的示意图；图17为本专利技术涉及的托盘的示意图；图18为本专利技术涉及的托盘的内部视图；图19为本专利技术涉及的托杆的内部视图。具体实施方式下面通过实施例对本专利技术技术方案进一步的描述：本专利技术提供一种气相沉积设备，气相沉积设备的整体高度约为10m。结合图1和图2所示，气相沉积设备包括：机架1、送料机构2、反应釜3、喷灯机构4和托盘5。送料机构2、反应釜3、喷灯机构4和托盘5位于机架1上，喷灯机构4与反应釜3正对，送料机构2、反应釜3与托盘5相互对齐并从上往下依次排列。气相沉积设备工作时，利用送料机构2将靶棒固定好并将靶棒送入反应釜3中，喷灯机构4对靶棒进行喷射，与此同时，送料机构2控制靶棒进行旋转以及往复升降，从而使气体均匀地喷烧沉积在靶棒上进行反应。在反应过程中，反应釜3同时向其内部送气以及向其外部排气，并且送气速度大于排气速度，在反应釜3中形成正压，这样可以防止外界的杂质进入反应釜中。托盘5支撑靶棒的下端，并且可以随着靶棒旋转和升降，这样可以使靶棒的升降过程更加平稳，材料喷烧沉积更加均匀。光纤预制棒制备完成后，送料机构2将其送出反应釜3进行卸料。具有上述结构的气相沉积设备，采用立式安装的方式，即使对于大型的靶棒，其装入过程也十分方便，而且可以准确地将靶棒传送至沉积位置上，保证光纤预制棒的质量。具体地，机架1包括：外支架11、容纳室12、顶部平台13、外部检修梯14和内部检修梯15，顶部平台13位于外支架11的上端，容纳室12、外部检修梯14和内部检修梯15固定在外支架11的中部，外支架11的下端埋入地底中，外部检修梯14位于容纳室12的外部并且靠近容纳室12的位置，内部检修梯15位于容纳室12的内部。反应釜3从容纳室12的内部延伸至外部，喷灯机构4位于容纳室12的内部，内部检修梯15位于靠近喷灯机构4的位置，送料机构2位于顶部平台13上，托盘5位于外支架11的下端。若在工作过程中发现气相沉积设备状态异常，则工作人员可以到达顶部平台13、外部检修梯14和内部检修梯15位置处对气相沉积设备进行检修。其中，本专利技术的喷灯机构4上下的跨度较大，设置内部检修梯15能方便工作人员对其进行详细的检修，保证了光纤预制棒反应和沉积的质量。结合图3-4所示，容纳室12具有外部门121、闩锁122、排气缺口123和通风孔124。闩锁122为多个，多个闩锁122位于外部门本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气相沉积设备的反应釜，其特征在于：所述反应釜包括：密封罩、反应箱、排气装置和送气管，所述密封罩密封所述反应箱的上端，所述排气装置与所述反应箱连通，所述送气管为多个，所述密封罩与至少一个送气管连通，所述反应箱的下端与至少一个送气管连通。

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备的反应釜，其特征在于：所述反应釜包括：密封罩、反应箱、排气装置和送气管，所述密封罩密封所述反应箱的上端，所述排气装置与所述反应箱连通，所述送气管为多个，所述密封罩与至少一个送气管连通，所述反应箱的下端与至少一个送气管连通。2.根据权利要求1所述的气相沉积设备的反应釜，其特征在于：所述密封罩包括：第一密封板、第一板推动器、第一筒罩、第一筒推动器、第二密封板、第二板推动器、第二筒罩和第二筒推动器，所述第一密封板设置在所述第一板推动器上，所述第一筒罩设置在所述第一筒推动器上，所述第二密封板设置在所述第二板推动器上，所述第二筒罩设置在所述第二筒推动器上，所述第一密封板与所述第二密封板之间形成密封孔，所述第一筒罩与所述第二筒罩之间形成密封筒，所述密封筒与至少一个送风管连通。3.根据权利要求2所述的气相沉积设备的反应釜，其特征在于：所述第一板推动器和所述第二板推动器都包括：板支架、板推动气缸、板连接块、板移动导杆和板拖链，所述板推动气缸位于所述板支架上，所述板推动气缸与所述板连接块形成移动连接，所述板移动导杆穿过所述板连接块，所述板移动导杆与所述板推动气缸的活塞杆相互平行，所述板拖链的一端与所述板支架形成固定，另一端与所述板连接块形成固定，所述第一板推动器的板连接块与所述第一密...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾勇，张舞杰，谢长贵，邓锦飞，
申请(专利权)人：无锡市凯灵电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32