光刻胶排放系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种光刻胶排放系统，光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于光刻胶供给源与缓冲罐之间，一端与光刻胶供给源一一对应连接，另一端与缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与缓冲罐一一对应连接；若干个第二供液管路，一端与缓冲罐一一对应连接。本实用新型专利技术的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

Photoresist Emission System

【技术实现步骤摘要】
光刻胶排放系统
本技术属于集成电路
，特别是涉及一种光刻胶排放系统。
技术介绍
在现有的光刻胶排放系统中，各光刻胶供给瓶与喷嘴之间的连接管路上均会设置缓冲罐(buffertank)，所述缓冲罐用于暂存光刻胶、过滤光刻胶中的气泡及杂质；同时，缓冲罐会通过一排液管路连接至厂务排污系统以将过滤出的气泡、杂质和废光刻胶排出所述缓冲罐之外。然而，目前的光刻胶排放系统中，不同的光刻胶的缓冲罐(即与存放不同光刻胶的光刻胶供给瓶相连接的不同的缓冲罐)的排液管路是相互连通的，这必然会在排出气泡、杂质和废光刻胶的过程中造成不同的光刻胶之间的交叉污染，过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中也会经由排液管路污染正常的光刻胶，从而造成光刻胶的浪费。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光刻胶排放系统，用于解决现有技术中的光刻胶排放系统中由于连接不同的光刻胶的缓冲罐的排液管路相互连通而导致的造成不同的光刻胶之间的交叉污染的问题，以及过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中会污染正常的光刻胶的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。作为本技术的一种优选方案，部分所述光刻胶供给源提供的光刻胶互不相同。作为本技术的一种优选方案，若干个所述光刻胶供给源提供的光刻胶均互不相同。作为本技术的一种优选方案，所述光刻胶供给源包括光刻胶供给瓶。作为本技术的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：排污端口，与若干个所述排液管路远离所述缓冲罐的一端均相连接；及厂务排污系统，与所述排污端口相连接。作为本技术的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括供气管路，一端与所述光刻胶供给源相连接，另一端与气体源相连接。作为本技术的一种优选方案，所述气体源包括氮气源。作为本技术的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括若干个喷嘴，若干个所述喷嘴与所述第二供液管路远离所述缓冲罐的一端一一对应连接。作为本技术的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：若干个过滤器，一一对应设置于所述第二供液管路上；若干个捕集阱，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述过滤器与所述喷嘴之间；若干个抽液泵，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述捕集阱与所述喷嘴之间；及若干个控制阀，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述抽液泵与所述喷嘴之间。作为本技术的一种优选方案，所述控制阀包括气动阀。本技术还提供一种光刻胶排放方法，所述光刻胶排放方法包括如下步骤：1)提供如上述任一方案中所述的光刻胶排放系统；2)使用所述光刻胶供给源、所述第一供液管路及所述第二供液管路供给光刻胶，并使用与所述缓冲罐一一对应连接的所述排液管路将所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出所述缓冲罐。如上所述，本技术光刻胶排放系统，具有以下有益效果：本技术的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题；本技术的光刻胶排放方法通过在供给光刻胶的过程中使用与各个缓冲罐一一对应连接的排液管路将各所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。附图说明图1显示为本技术实施例一中提供的光刻胶排放系统的结构示意图。图2显示为本技术图1中A区域的放大结构示意图。图3显示为本技术图2中B区域的放大结构示意图。图4显示为本技术实施例二中提供的光刻胶排放方法的流程图。元件标号说明10光刻胶供给源11缓冲罐12第一供液管路13排液管路14第二供液管路15排污端口16供气管路17气体源18喷嘴19过滤器20捕集阱21抽液泵22控制阀23晶圆24光刻胶S1～S2步骤1)～步骤2)具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1至图4。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，虽图示中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。实施例一请参阅图1，本技术提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源10，所述光刻胶供给源10用于提供光刻胶；若干个缓冲罐11，若干个所述缓冲罐11与所述光刻胶供给源10一一对应连接，即不同的所述缓冲罐11与不同的所述光刻胶供给源10相连接；若干个第一供液管路12，所述第一供液管路12位于所述光刻胶供给源10与所述缓冲罐11之间，所述第一供液管路12一端与所述光刻胶供给源10一一对应连接，另一端与所述缓冲罐11一一对应连接；即不同的所述缓冲罐11通过不同的所述第一供液管路12与不同的所述光刻胶供给源10相连接；所述第一供液管路12用于将所述光刻胶供给源10内的所述光刻胶供给至所述缓冲罐11内；若干个排液管路13，所述排液管路13与所述缓冲罐11一一对应连接；即不同的所述缓冲罐11与不同的所述排液管路13相连接；及若干个第二供液管路14，所述第二供液管路14一端与所述缓冲罐11一一对应连接。在一示例中，部分所述光刻胶供给源10提供的光刻胶互不相同，即若干个所述光刻胶供给源10中，部分所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶不相同，另一部分所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶相同。在另一示例中，若干个所述光刻胶供给源10提供的光刻胶均互不相同，即若干个所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶互不相同。作为示例，所述光刻胶供给源10可以包括但不仅限于光刻胶供给瓶。本技术所述光刻胶排放系统通过使用不同所述排液管路13与各个所述缓冲罐11一一对应连接，即将不同的所述缓冲罐11使用不同的所述排液管路13连接，不同的所述光刻胶供给源10之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。作为示例，所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路13的数量及所述第二供液管路14的数量均相同，图1中仅以所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路13的数量及所述第二供液管路14的数量均为四个作为示例，而在实际示例中，所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。2.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，部分所述光刻胶供给源提供的光刻胶互不相同。3.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，若干个所述光刻胶供给源提供的光刻胶均互不相同。4.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶供给源包括光刻胶供给瓶。5.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统还包括：排污端口，与若干个所述排液管路远离所述缓冲罐的一端均相连接；及厂务排污系统，与所述排污端口相连...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑义强，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34